2,6-dimethyl-4-vinylphenol

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 酚类
• 英文名称: 2,6-dimethyl-4-vinylphenol
• 英文别名: 4-Ethenyl-2,6-dimethylphenol
• 化学式: C₁₀H₁₂O
• 分子量: 148.205
• InChiKey: HUBRTTPKTLCKLZ-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  3.1
• 重原子数：
  11
• 可旋转键数：
  1
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.2
• 拓扑面积：
  20.2
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  1

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  2,6-dimethyl-4-vinylphenol 在 potassium tert-butylate 、 三氯氧磷 作用下， 以 二氯甲烷 为溶剂， 以64.7 %的产率得到tris(2,6-dimethyl-4-vinylphenyl) phosphate
  参考文献：
  名称：

  JP7397227

  摘要：

  公开号：
• 作为产物：
  描述：

  3,5-dimethyl-4-hydroxycinnamic acid 以 N,N-二甲基甲酰胺 为溶剂， 反应 0.5h， 以96%的产率得到2,6-dimethyl-4-vinylphenol
  参考文献：
  名称：

  4-乙烯基苯酚类化合物的制备方法

  摘要：

  本发明提供了一种4‑乙烯基苯酚类化合物的制备方法，具体为：按下述反应式进行制备：即向耐压反应瓶中加入取代对羟基肉桂酸和溶剂N,N‑二甲基甲酰胺，加热搅拌反应30min，反应结束后分离纯化，即得4‑乙烯基苯酚类化合物。本发明制备方法使用DMF作溶剂，不需要催化剂，反应时间短(30min)，底物普适性好，不会发生聚合反应且操作简单，极大降低了生产周期和成本，目标化合物的平均产率稳定，最高可达到96％，不但为4‑乙烯基苯酚类化合物的合成提供了一种新方法，也为产品规模化生产及提高生产效率奠定了基础。

  公开号：

  CN113880695A

文献信息

• Regioselective Enzymatic β-Carboxylation of <i>para</i> -Hydroxy- styrene Derivatives Catalyzed by Phenolic Acid Decarboxylases
  作者：Christiane Wuensch、Tea Pavkov-Keller、Georg Steinkellner、Johannes Gross、Michael Fuchs、Altijana Hromic、Andrzej Lyskowski、Kerstin Fauland、Karl Gruber、Silvia M. Glueck、Kurt Faber

  DOI：10.1002/adsc.201401028

  日期：2015.5.26

  (E)‐cinnamic acids via regioselective enzymatic carboxylation of para‐hydroxystyrenes. Phenolic acid decarboxylases from bacterial sources catalyzed the β‐carboxylation of para‐hydroxystyrene derivatives with excellent regio‐ and (E/Z)‐stereoselectivity by exclusively acting at the β‐carbon atom of the C=C side chain to furnish the corresponding (E)‐cinnamic acid derivatives in up to 40% conversion at the

  我们报告了一种“绿色”方法，利用二氧化碳作为 C 1单元，通过对羟基苯乙烯的区域选择性酶促羧化来区域选择性合成 ( E )-肉桂酸。来自细菌来源的酚酸脱羧酶通过专门作用于 C=C 侧链的 β-碳原子，催化对羟基苯乙烯衍生物的 β-羧化，具有优异的区域和 ( E / Z )-立体选择性，提供相应的 ( E )-肉桂酸衍生物的转化率高达 40%，但以碳酸氢盐作为二氧化碳源为代价。提出了对该策略的底物范围的研究，并基于活性位点氨基酸残基诱变支持的分子模型研究提出了催化机制。
• RESIST POLYMER, RESIST COMPOSITION, PROCESS FOR PATTERN FORMATION, AND STARTING COMPOUNDS FOR PRODUCTION OF THE RESIST POLYMER
  申请人：Momose Hikaru

  公开号：US20090198065A1

  公开（公告）日：2009-08-06

  To provide a resist polymer comprising, as a structural unit, an acid-decomposable unit having a structure represented by formula (1) or (2) which exhibits a small line edge roughness and produces little defects in DUV excimer laser lithography or the like. In formulas (1) and (2), n represents an integer of 2 to 24; J represents a single bond or a divalent hydrocarbon group which may have a substituent/heteroatom when n=2, or represents an n-valent hydrocarbon group which may have a substituent/heteroatom when n≧3; E represents a residue of a polymerization terminator, a chain transfer agent or a polymerization initiator; K 1 and K 2 each represent at least one selected from alkylene, cycloalkylene, oxyalkylene, arylene, a divalent thiazoline ring, a divalent oxazoline ring and a divalent imidazoline ring; L 1 and L 2 each represent at least one selected from —C(O)O—, —C(O)— and —OC(O)—; M 1 , M 2 and M 3 each represent at least one selected from alkylene, cycloalkylene, oxyalkylene and arylene; Y, Y 1 and Y 2 each represent an acid-decomposable linkage; k1, k2, l1, l2, m1, m2, and m3 each represent 0 or 1; and R 1 represents H or a methyl group.

  提供一种抗蚀聚合物，其由一个具有结构式（1）或（2）所表示的酸分解单元作为结构单元，能够在DUV准分子激光微影或类似工艺中表现出小的线边粗糙度并产生少量缺陷。在式（1）和（2）中，n表示2至24的整数；J表示单键或二价碳氢基团，当n=2时可以具有取代基/杂原子，或者当n≥3时可以表示n价碳氢基团，可以具有取代基/杂原子；E表示聚合终止剂、链转移剂或聚合引发剂的残基；K1和K2分别表示至少选择自烷基、环烷基、氧烷基、芳烃、二价噻唑环、二价噁唑环和二价咪唑环中的至少一种；L1和L2分别表示至少选择自—C（O）O—、—C（O）—和—OC（O）—中的至少一种；M1、M2和M3分别表示至少选择自烷基、环烷基、氧烷基和芳烃中的至少一种；Y、Y1和Y2分别表示酸分解键；k1、k2、l1、l2、m1、m2和m3分别表示0或1；R1表示H或甲基基团。
• Bottom antireflective coatings
  申请人：Yao Huirong

  公开号：US20050112494A1

  公开（公告）日：2005-05-26

  The present invention relates to bottom antireflective coating compositions and polymers useful in making such compositions.

  本发明涉及用于制备底部抗反射涂层组合物和聚合物的相关技术。
• CHEMICAL AMPLIFICATION RESIST COMPOSITION, AND MOLD PREPARATION METHOD AND RESIST FILM USING THE SAME
  申请人：Fujimori Toru

  公开号：US20120006788A1

  公开（公告）日：2012-01-12

  A chemical amplification resist composition that is used for preparation of a mold, and a mold preparation method and a resist film each using the composition are provided.

  提供一种用于制备模具的化学放大型光阻组合物，以及使用该组合物的模具制备方法和光阻膜。
• Selective gas-permeable films
  申请人：MATSUSHITA ELECTRIC INDUSTRIAL CO., LTD.

  公开号：EP0070730A1

  公开（公告）日：1983-01-26

  A selective gas-permeabie film comprising a cross- inked copolymer product of a bifunctional polyorganosiloxane and a mixture of a styrene polymer having an aromatic ring at the side chain thereof, a phenolic polymer laving an aromatic ring at the main chain thereof or an addition polymer of a phenolic compound and a phenyl ether compoung joined through methylene groups and a polymer having functional end hydroxyl groups. Alterna- ively, the copolymer product may be of the bifunctional poiyorganosiloxane and the addition polymer alone.

  一种选择性透气薄膜，包括双官能团聚有机硅氧烷与苯乙烯聚合物（其侧链上有一个芳香环）、酚醛聚合物（其主链上有一个芳香环）或酚类化合物与苯基醚的加成聚合物（通过亚甲基连接）以及具有官能团羟基的聚合物的混合物的交墨共聚物。另外，双官能团有机硅氧烷和加成聚合物的共聚物也可以是单独的。