4,7-dimethoxybenzo[d][1,3]dioxole-5-carbonitrile | 948012-24-6

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机杂环化合物 - 苯并间二氧杂环戊烯类
• 英文名称: 4,7-dimethoxybenzo[d][1,3]dioxole-5-carbonitrile
• 英文别名: 2,5-dimethoxy-3,4-methylenedioxybenzonitrile；4,7-dimethoxy-benzo[1,3]dioxole-5-carbonitrile；4,7-Dimethoxy-benzo[1,3]dioxol-5-carbonitril；4,7-Dimethoxy-1,3-benzodioxole-5-carbonitrile
• CAS: 948012-24-6
• 化学式: C₁₀H₉NO₄
• mdl: MFCD10039030
• 分子量: 207.186
• InChiKey: USZUVPNYVSWLNE-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  1.4
• 重原子数：
  15
• 可旋转键数：
  2
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.3
• 拓扑面积：
  60.7
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  5

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  4,7-dimethoxybenzo[d][1,3]dioxole-5-carbonitrile 在 盐酸羟胺 、 碳酸氢钠 作用下， 以 乙醇 、 水 为溶剂， 反应 12.0h， 生成 apiole amidoxime
  参考文献：
  名称：

  Polyalkoxybenzenes from plant raw materials 4. Parsley and dill seed extracts in the synthesis of polyalkoxy-3,5-diaryl-1,2,4-oxadiazoles with antiproliferative activity

  摘要：

  多烷氧基-5-(4-羟基苯基)-3-苯基-1,2,4-噁二唑是从欧芹和大茴香种子的主要代谢物烯丙基多烷氧基苯合成的。由于1,2,4-噁二唑片段提供的芳基取代基的空间排列，这些化合物可以被认为是天然抗有丝分裂药康布瑞汀的结构类似物。合成化合物的抗有丝分裂活性通过海胆胚胎试验在体内进行了评估。

  DOI：

  10.1007/s11172-010-0387-6
• 作为产物：
  描述：

  洋芹脑 在 吡啶 、 ammonium hydroxide 、 四丁基溴化铵 、 碘 、 臭氧 、 potassium hydroxide 作用下， 以 四氢呋喃 、 甲醇 、 氯仿 、 水 为溶剂， 反应 16.67h， 生成 4,7-dimethoxybenzo[d][1,3]dioxole-5-carbonitrile
  参考文献：
  名称：

  Synthesis of Antimitotic Polyalkoxyphenyl Derivatives of Combretastatin Using Plant Allylpolyalkoxybenzenes

  摘要：

  DOI：

  10.1021/np1004278

文献信息

• Reprint of: Antiproliferative activity of the Antrodia camphorata secondary metabolite 4,7-dimethoxy-5-methylbenzo[d][1,3]dioxole and analogues
  作者：Sing Yee Yeung、Matthew J. Piggott

  DOI：10.1016/j.fitote.2018.04.001

  日期：2018.4

  secondary metabolite, 4,7-dimethoxy-5-methylbenzo[d][1,3]dioxole, have been reported to possess promising anticancer activity. In this work the natural product and analogues bearing more polar substituents were synthesised and assessed for antiproliferative activity in the NCI-60 screen. Although each compound inhibited the growth of some cell lines at 10μM, none had sufficient activity to warrant

  据报道，传统中药真菌樟脑樟及其次级代谢产物4,7-二甲氧基-5-甲基苯并[d] [1,3]二恶唑均具有良好的抗癌活性。在这项工作中，合成了带有更多极性取代基的天然产物和类似物，并在NCI-60筛选中评估了其抗增殖活性。尽管每种化合物均以10μM抑制某些细胞系的生长，但没有一种具有足够的活性值得进一步研究。
• Studies on quinazoline chemistry 6*. Synthesis and alkylation of 2-substituted 4,4-diphenyl-3,4-dihydroquinazolines
  作者：Elena V. Gromachevskaya、Elena A. Kaigorodova、Leonid D. Konyushkin

  DOI：10.1007/s10593-017-2091-z

  日期：2017.5

  New 2-aryl-4,4-diphenyl-3,4-dihydroquinazolines were obtained by a reaction of (2-aminophenyl)(diphenyl)carbinol with nitriles. Methylation of 3,4-dihydroquinazolines with excess of dimethyl sulfate occurred at two nitrogen atoms, while the subsequent alkaline hydrolysis was accompanied by opening of the heterocycle at the C(2)–N(3) bond, forming the respective amides. The molecular structure of N

  通过（2-氨基苯基）（二苯基）甲醇与腈反应获得新的2-芳基-4,4-二苯基-3,4-二氢喹唑啉。3,4-二氢喹唑啉与过量的硫酸二甲酯甲基化发生在两个氮原子上，随后的碱水解伴随着C（2）-N（3）键上杂环的打开，形成了各自的酰胺。的分子结构Ñ甲基ñ - 2 - [（二苯基）（甲基氨基）甲基]苯基}苯甲酰胺用X射线结构分析证实。
• CHEMICAL MECHANICAL POLISHING AND WAFER CLEANING COMPOSITION COMPRISING AMIDOXIME COMPOUNDS AND ASSOCIATED METHOD FOR USE
  申请人：Lee Wai Mun

  公开号：US20090130849A1

  公开（公告）日：2009-05-21

  A composition and associated method for chemical mechanical planarization (or other polishing) is described. The composition contains an amidoxime compound and water. The composition may also contain an abrasive and a compound with oxidation and reduction potential. The composition is useful for attaining improved removal rates for metal, including copper, barrier material, and dielectric layer materials in metal CMP. The composition is particularly useful in conjunction with the associated method for metal CMP applications.

  本文描述了一种化学机械平整化（或其他抛光）的组合物及其相关方法。该组合物含有一种酰胺肟化合物和水。该组合物还可以含有磨料和具有氧化还原潜力的化合物。该组合物可用于在金属CMP中获得改进的金属去除速率，包括铜、屏障材料和金属CMP中的介电层材料。该组合物在金属CMP应用的相关方法中特别有用。
• METHODS OF CLEANING SEMICONDUCTOR DEVICES AT THE BACK END OF LINE USING AMIDOXIME COMOSITIONS
  申请人：Lee Wai Mun

  公开号：US20100043823A1

  公开（公告）日：2010-02-25

  The present invention relates to aqueous compositions comprising amidoxime compounds and methods for cleaning plasma etch residue from semiconductor substrates including such dilute aqueous solutions. The compositions of the invention may optionally contain one or more other acid compounds, one or more basic compounds, and a fluoride-containing compound and additional components such as organic solvents, chelating agents, amines, and surfactants. The invention also relates to a method of removing residue from a substrate during integrated circuit fabrication.

  本发明涉及含有酰胺肟化合物的水性组合物及其清洗半导体衬底上等离子体刻蚀残留物的方法，包括这种稀释的水性溶液。本发明的组合物可以选择性地含有一种或多种其他酸性化合物、一种或多种碱性化合物、含氟化合物和其他成分，如有机溶剂、螯合剂、胺和表面活性剂。本发明还涉及一种在集成电路制造过程中从衬底上去除残留物的方法。
• COMPOSITION COMPRISING CHELATING AGENTS CONTAINING AMIDOXIME COMPOUNDS
  申请人：Lee Wai Mun

  公开号：US20100105595A1

  公开（公告）日：2010-04-29

  The present invention is a novel aqueous cleaning solution for use in semiconductor front end of the line (FEOL) manufacturing process wherein the cleaning solution comprises at least one amidoxime compound.

  本发明是一种用于半导体前端制造过程中的新型水性清洗溶液，其中清洗溶液包含至少一种酰胺肟化合物。