1,1-difluoro-2-oxo-2-(1-adamantylamino)ethanesulfonyl fluoride

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机卤素化合物 - 磺酰卤
• 英文名称: 1,1-difluoro-2-oxo-2-(1-adamantylamino)ethanesulfonyl fluoride
• 英文别名: 2-(Adamant-1-ylamino)-1,1-difluoro-2-oxoethanesulfonyl fluoride；2-(1-adamantylamino)-1,1-difluoro-2-oxoethanesulfonyl fluoride
• 化学式: C₁₂H₁₆F₃NO₃S
• 分子量: 311.325
• InChiKey: SMLVXVWUOOPSTO-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  3.5
• 重原子数：
  20
• 可旋转键数：
  3
• 环数：
  4.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.92
• 拓扑面积：
  71.6
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  6

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  1,1-difluoro-2-oxo-2-(1-adamantylamino)ethanesulfonyl fluoride 、 2-羟基苯乙酮 在 正丁基锂 作用下， 以 四氢呋喃 为溶剂， 反应 2.17h， 以20.5%的产率得到Phenacyl 2-(1-adamantylamino)-1,1-difluoro-2-oxoethanesulfonate
  参考文献：
  名称：

  FLUORINATED SULFONATE ESTERS OF ARYL KETONES FOR NON-IONIC PHOTO-ACID GENERATORS

  摘要：

  非离子型光生酸(PAG)化合物被制备出来，它们含有一个含有全氟取代基的芳酮基团，该取代基位于酮羰基的α位置。这些非聚合PAGs在暴露于高能辐射，如深紫外或极紫外光时，会释放出磺酸。在100°C至150°C的后曝光烘烤(PEB)下，光生成的磺酸在暴露的抵抗层中具有较低的扩散速率，从而在开发后形成良好的线条图案。在较高温度下，PAGs也可以通过热反应形成磺酸。全氟取代基提供了改善的热稳定性和水解/亲核稳定性。

  公开号：

  US20180046077A1
• 作为产物：
  描述：

  2-(氟磺酰基)二氟乙酰基氟化物 、 金刚烷胺 在 吡啶 作用下， 以 二氯甲烷 为溶剂， 反应 4.25h， 以96.2%的产率得到1,1-difluoro-2-oxo-2-(1-adamantylamino)ethanesulfonyl fluoride
  参考文献：
  名称：

  FLUORINATED SULFONATE ESTERS OF ARYL KETONES FOR NON-IONIC PHOTO-ACID GENERATORS

  摘要：

  非离子型光生酸(PAG)化合物被制备出来，它们含有一个含有全氟取代基的芳酮基团，该取代基位于酮羰基的α位置。这些非聚合PAGs在暴露于高能辐射，如深紫外或极紫外光时，会释放出磺酸。在100°C至150°C的后曝光烘烤(PEB)下，光生成的磺酸在暴露的抵抗层中具有较低的扩散速率，从而在开发后形成良好的线条图案。在较高温度下，PAGs也可以通过热反应形成磺酸。全氟取代基提供了改善的热稳定性和水解/亲核稳定性。

  公开号：

  US20180046077A1

文献信息

• 安定した酸増幅剤
  申请人：ロバート エル． ブレイナードＲｏｂｅｒｔ Ｌ． ＢＲＡＩＮＡＲＤ

  公开号：JP2015113292A

  公开（公告）日：2015-06-22

  【課題】フォトリソグラフィーに用いることができる、とりわけ、極端ＵＶ（１３．５ｎｍ）または電子ビームリソグラフィーにおける使用のための、酸増幅剤系を提供する。【解決手段】式ＩまたはＩＩで表されるスルホン酸前駆体化合物、該化合物とフォトリソグラフィックポリマーからなる酸増幅用のフォトレジスト組成物、該フォトレジスト組成物を用いたフォトレジスト基板およびその製造方法、フォトリソグラフィを実施する方法。【選択図】なし

  提供可用于光刻或电子束光刻，特别是极紫外（13.5纳米）光刻的酸增强剂体系。包括由式I或II表示的磺酸前体化合物、用于酸增强的光刻胶组合物，由该化合物和光刻胶组成，使用该光刻胶组合物的光刻胶基板及其制备方法，以及实施光刻的方法。【选择图】无
• NON-IONIC LOW DIFFUSING PHOTO-ACID GENERATORS
  申请人：International Business Machines Corporation

  公开号：US20180044284A1

  公开（公告）日：2018-02-15

  Non-ionic photo-acid generating (PAG) compounds were prepared that contain an aryl ketone group. The disclosed non-polymeric PAGs release a strong sulfonic acid when exposed to high energy radiation such as deep UV or extreme UV light. The photo-generated sulfonic acid has a low diffusion rate in an exposed resist layer subjected to a post-exposure bake (PEB) at 100° C. to 150° C., resulting in formation of good line patterns after development. At higher temperatures, the PAGs undergo a thermal reaction to form a sulfonic acid.

  制备了含芳基酮基团的非离子光酸发生（PAG）化合物。揭示的非聚合物PAG在暴露于高能辐射（如深紫外或极紫外光）时释放出强磺酸。光生磺酸在经过后曝光烘烤（PEB）处理（在100°C至150°C下）的受暴露光阻层中具有低扩散速率，从而在显影后形成良好的线条图案。在较高温度下，PAG会发生热反应形成磺酸。
• Method of stabilizing fluorine-containing acid amplifier
  申请人：Central Glass Company, Limited

  公开号：US09274420B2

  公开（公告）日：2016-03-01

  A method of stabilizing a fluorine-containing acid amplifier. The method is provided to include the step of dissolving a fluorine-containing acid amplifier in an organic solvent thereby producing a solution of the fluorine-containing acid amplifier, the fluorine-containing acid amplifier being represented by general formula (1):

  一种稳定含氟酸增强剂的方法。该方法包括将含氟酸增强剂溶解在有机溶剂中，从而产生含氟酸增强剂的溶液，所述含氟酸增强剂由一般式（1）表示。
• JP5960027
  申请人：——

  公开号：——

  公开（公告）日：——
• US9950999B2
  申请人：——

  公开号：US9950999B2

  公开（公告）日：2018-04-24