On the Mechanism of the Reductive Metallation of Asymmetrically Substituted Silyl Chlorides
作者:Martin Oestreich、Gertrud Auer、Manfred Keller
DOI:10.1002/ejoc.200400622
日期:2005.1
investigation of the stereochemical course of the reductive metallation of silyl chlorides with silicon-centred chirality has revealed two major events which are detrimental to stereoselection during silyl anion formation: (1) chloride-induced racemisation of silyl chlorides and (2) nonstereoselective formal dimerisation during metallation providing the corresponding disilane. In control experiments, the stereochemical
对具有以硅为中心手性的甲硅烷基氯还原金属化的立体化学过程的研究揭示了在甲硅烷基阴离子形成过程中对立体选择有害的两个主要事件:(1)氯离子诱导的氯硅烷外消旋化和(2)非立体选择性形式二聚化在金属化过程中提供相应的乙硅烷。在对照实验中,这些过程的立体化学过程已被独立验证,用于对映体富集的环状氯硅烷 (SiS)-7a (R = H, er ⩾ 88:12) 的还原金属化。对 (SiS)-7a 的几种相关衍生物的筛选导致了空间位阻的氯硅烷 (SiR)-7c(R = iPr,er ⩾ 94:6),它显示了一些独特的特征。这种结构修饰可防止氯化锂引起的外消旋化 (T < -40 °C) 以及二聚化 (T < -100 °C) 从而允许通过用硅对氯硅烷进行还原金属化来生成第一代不对称取代的甲硅烷基阴离子 (SiS)-8c (er = 74:26) -中心手性。此外,通过氯化 [(SiS)-9c (SiR)-7c]