4-(tert-pentyl)benzonitrile | 1379098-59-5

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 英文名称: 4-(tert-pentyl)benzonitrile
• 英文别名: Benzonitrile, 4-(1,1-dimethylpropyl)-；4-(2-methylbutan-2-yl)benzonitrile
• CAS: 1379098-59-5
• 化学式: C₁₂H₁₅N
• 分子量: 173.258
• InChiKey: QQULCUVAHOODHL-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  3.9
• 重原子数：
  13
• 可旋转键数：
  2
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.42
• 拓扑面积：
  23.8
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  1

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  2-甲基-2-丁醇 在 双(三甲基硅烷基)氨基钾 、 三环己基膦 作用下， 以 乙醚 、 N,N-二甲基乙酰胺 为溶剂， 反应 27.5h， 生成 4-(tert-pentyl)benzonitrile
  参考文献：
  名称：

  通过直接可见光激发实现醇与芳香腈的脱氧偶联

  摘要：

  提出了在没有外部光催化剂的情况下可见光驱动的醇与芳香腈的脱氧偶联的通用且实用的方案。利用二硫化碳的羟基活化策略，该 C(sp 3 )–C(sp 2 ) 构建平台可容纳广泛的醇和芳基腈，以提供各种烷基取代的芳烃。机理研究表明，光激发芳基腈和黄原酸阴离子之间的单个电子转移事件是转变的关键。

  DOI：

  10.1039/d3ob01676e

文献信息

• CYSTEINE PROTEASE INHIBITORS
  申请人：Unoki Gen

  公开号：US20090291945A1

  公开（公告）日：2009-11-26

  To provide a compound having an excellent cysteine protease inhibitory effect, and to provide a drug for treatment or prevention of the disease selected from the group consisting of osteoporosis, osteoarthritis, chronic rheumatoid arthritis, Paget's disease of bone, hypercalcemia, bone metastasis of cancer, and ostealgia. A compound represented by formula (1) or a pharmaceutically acceptable salt thereof, or a drug or pharmaceutical composition containing the same as an effective component.

  提供一种具有优异半胱氨酸蛋白酶抑制作用的化合物，并提供一种用于治疗或预防骨质疏松症、骨关节炎、慢性类风湿性关节炎、骨Paget病、高钙血症、骨癌转移和骨痛的药物。化合物由式（1）表示，或其药学上可接受的盐，或将其作为有效成分的药物或药物组合物。
• PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, COMPOUND FOR USE IN THE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, AND PATTERN-FORMING METHOD USING THE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION
  申请人：Kawanishi Yasutomo

  公开号：US20080081288A1

  公开（公告）日：2008-04-03

  A photosensitive composition includes (A) a compound represented by the following formula (I): wherein R 1 to R 13 each independently represents a hydrogen atom or a substituent, Z represents a single bond or a divalent linking group, and X − represents an anion containing a proton acceptor functional group.

  一种光敏组合物包括(A) 由下式(I)所表示的化合物：其中R1至R13各自独立地表示氢原子或取代基，Z表示单键或二价连接基团，X-表示含有质子受体功能基团的阴离子。
• Novel sulfonium compound, photosensitive composition containing the compound and pattern-forming method using the photosensitive composition
  申请人：Kawanishi Yasutomo

  公开号：US20070184384A1

  公开（公告）日：2007-08-09

  A photosensitive composition, which comprises a compound represented by formula (I): wherein R 1 to R 13 each independently represents a hydrogen atom or a substituent, and at least one of R 1 to R 13 is a substituent containing an alcoholic hydroxyl group; Z represents a single bond or a divalent linking group; and X − represents a counter anion; and a pattern-forming method using the photosensitive composition.

  一种光敏感组合物，包括由式(I)表示的化合物：其中，R1至R13各自独立地表示氢原子或取代基，且至少其中之一是含有醇羟基的取代基; Z表示单键或双价连接基团; X-表示反离子;以及使用该光敏感组合物的图案形成方法。
• ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND METHOD OF FORMING PATTERN WITH THE COMPOSITION
  申请人：TSUCHIMURA Tomotaka

  公开号：US20110171577A1

  公开（公告）日：2011-07-14

  An actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition includes any of the compounds of general formula (I) below; wherein: Ar represents an aromatic ring that may have a substituent other than the -(A-B) groups; n is an integer of 1 or greater; A represents any one, or a combination of two or more members selected from a single bond, an alkylene group, —O—, —S—, —C(═O)—, —S(═O)—, —S(═O) 2 — and —OS(═O) 2 —, provided that —C(═O)O— is excluded; B represents a group containing a hydrocarbon group having 4 or more carbon atoms wherein either a tertiary or a quaternary carbon atom is contained, when n is 2 or greater, the two or more -(A-B) groups may be identical to or different from each other; and M + represents an organic onium ion.

  一种感光射线敏感或辐射敏感的树脂组合物包括下列通式（I）中的任何一种化合物；其中：Ar代表可能具有除了-(A-B)基团以外的取代基的芳香环；n是大于等于1的整数；A代表从单键、烷基、—O—、—S—、—C（═O）—、—S（═O）—、—S（═O）2—和—OS（═O）2—中任意选择一个或两个或两个以上成员的组合，但不包括—C（═O）O—；B代表一个含有4个或更多碳原子的烃基团，其中包含一个三级或季级碳原子，当n大于等于2时，两个或两个以上的-(A-B)基团可以相同或不同；M+代表有机阳离子。
• PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, AND PATTERN-FORMING METHOD AND RESIST FILM USING THE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION
  申请人：Wada Kenji

  公开号：US20100239978A1

  公开（公告）日：2010-09-23

  A photosensitive composition containing a compound having a specific structure, a pattern-forming method using the photosensitive composition, and a compound having a specific structure used in the photosensitive composition.

  一种含有特定结构化合物的光敏组合物，使用该光敏组合物进行的图案形成方法，以及用于该光敏组合物的具有特定结构的化合物。