3-Methyl-L-lysine | 61475-86-3

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机酸及其衍生物 - 羧酸及其衍生物
• 英文名称: 3-Methyl-L-lysine
• 英文别名: (2S)-2,6-diamino-3-methylhexanoic acid
• CAS: 61475-86-3
• 化学式: C₇H₁₆N₂O₂
• 分子量: 160.21
• InChiKey: FSPHIBLXJRNTSN-GDVGLLTNSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  -2.8
• 重原子数：
  11
• 可旋转键数：
  5
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.86
• 拓扑面积：
  89.3
• 氢给体数：
  3
• 氢受体数：
  4

文献信息

• Cleaning formulation for removing residues on surfaces
  申请人：Fujifilm Electronic Materials U.S.A., Inc.

  公开号：US10253282B2

  公开（公告）日：2019-04-09

  This disclosure relates to a cleaning composition that contains 1) at least one redox agent; 2) at least one first chelating agent, the first chelating agent being a polyaminopolycarboxylic acid; 3) at least one second chelating agent different from the first chelating agent, the second chelating agent containing at least two nitrogen-containing groups; 4) at least one metal corrosion inhibitor, the metal corrosion inhibitor being a substituted or unsubstituted benzotriazole; 5) at least one organic solvent selected from the group consisting of water soluble alcohols, water soluble ketones, water soluble esters, and water soluble ethers; 6) water; and 7) optionally, at least one pH adjusting agent, the pH adjusting agent being a base free of a metal ion. This disclosure also relates to a method of using the above composition for cleaning a semiconductor substrate.

  本公开涉及一种清洁组合物，其中包含：1）至少一种氧化还原剂；2）至少一种第一螯合剂，第一螯合剂为聚氨基多羧酸；3）至少一种不同于第一螯合剂的第二螯合剂，第二螯合剂含有至少两个含氮基团；4) 至少一种金属缓蚀剂，该金属缓蚀剂为取代或未取代的苯并三唑； 5) 至少一种有机溶剂，该有机溶剂选自由水溶性醇、水溶性酮、水溶性酯和水溶性醚组成的组； 6) 水；以及 7) 可选地，至少一种 pH 值调节剂，该 pH 值调节剂为不含金属离子的碱。本公开还涉及一种使用上述组合物清洗半导体基底的方法。
• HEME BINDING COMPOUNDS AND USE THEREOF
  申请人：MEDICAL COLLEGE OF WISCONSIN RESEARCH FOUNDATION, INC.

  公开号：EP0707577A1

  公开（公告）日：1996-04-24
• EP0707577A4
  申请人：——

  公开号：EP0707577A4

  公开（公告）日：1996-11-06
• VERFAHREN ZUR AMIDIERUNG VON POLYPEPTIDEN MIT C-TERMINALEN BASISCHEN AMINOSÄUREN UNTER VERWENDUNG SPEZIFISCHER ENDOPROTEASEN
  申请人：Sanofi-Aventis Deutschland GmbH

  公开号：EP1931705B1

  公开（公告）日：2011-09-07
• CLEANING FORMULATIONS FOR REMOVING RESIDUES ON SURFACES
  申请人：FujiFilm Electronic Materials USA, Inc.

  公开号：EP3060642B1

  公开（公告）日：2019-11-06