4'-(n-propyloxy)-4-(tert-butoxycarbonyl)biphenyl | 469859-68-5

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 英文名称: 4'-(n-propyloxy)-4-(tert-butoxycarbonyl)biphenyl
• 英文别名: tert-butyl 4-(4-propoxyphenyl)benzoate
• CAS: 469859-68-5
• 化学式: C₂₀H₂₄O₃
• 分子量: 312.409
• InChiKey: YXXOYEDBYQBXIM-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  5.2
• 重原子数：
  23
• 可旋转键数：
  7
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.35
• 拓扑面积：
  35.5
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  3

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  4-丙氧基-4’-二苯甲酸 在 氯化亚砜 、 resultant mixture 作用下， 以 氯化亚砜 为溶剂， 反应 16.0h， 以4′-(n-propyloxy)-4-(tert-butoxycarbonyl)biphenyl was obtained in the same manner as in the Example 104的产率得到4'-(n-propyloxy)-4-(tert-butoxycarbonyl)biphenyl
  参考文献：
  名称：

  Optically active compound and photosensitive resin composition

  摘要：

  一种光活性化合物与光敏剂结合使用，由以下式子（1）表示：A−[(J)m−(X-Pro)]n(1)，其中A代表至少包括一种疏水基团的疏水单元，所述疏水基团选自烃基团和杂环基团，J代表连接基团，X-Pro代表一种由光照暴露可去除保护基Pro保护的亲水基团，m代表0或1，n代表不小于1的整数。保护基Pro可以与光敏剂（尤其是光酸发生剂）相结合以光照暴露的方式去除，或者可以是疏水性保护基。亲水基团可以是羟基或羧基。该光活性化合物对于短波长光源具有高灵敏度，因此在抗蚀应用中具有优势，因此该光活性化合物适用于形成高分辨率图案。

  公开号：

  US20030211421A1

文献信息

• OPTICALLY ACTIVE COMPOUND AND PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION
  申请人：Kansai Research Institute, Inc.

  公开号：EP1375463A1

  公开（公告）日：2004-01-02

  A photoactive compound is used in combination with a photosensitizer, represented by the following formula (1):         A-[(J)m-(X-Pro)]n     (1)    wherein A represents a hydrophobic unit comprising at least one kind of hydrophobic groups selected from a hydrocarbon group and a heterocyclic group, J represents a connecting group, X-Pro represents a hydrophilic group protected by a protective group Pro which is removable by light exposure, m represents 0 or 1, and n represents an integer of not less than 1. The protective group Pro may be removable by light exposure in association with the photosensitizer (especially, a photo acid generator), or may be a hydrophobic protective group. The hydrophilic group may be a hydroxyl group or a carboxyl group. The photoactive compound has high sensitivity to a light source of short wavelength beams, for resist application, therefore, the photoactive compound is advantageously used for forming a pattern with high resolution.

  光活性化合物与光敏剂结合使用，光敏剂由下式（1）表示： A-[(J)m-(X-Pro)]n (1) 其中 A 代表疏水单元，包括至少一种选自烃基和杂环基的疏水基团；J 代表连接基团；X-Pro 代表亲水基团，该亲水基团受保护基团 Pro 的保护，该保护基团可通过光照去除；m 代表 0 或 1；n 代表不小于 1 的整数。 保护基 Pro 可以通过与光敏剂（特别是光酸发生器）一起进行光照射而去除，也可以是疏水保护基。亲水基团可以是羟基或羧基。光活性化合物对短波长光束的光源具有很高的灵敏度，因此在抗蚀剂应用中，光活性化合物可用于形成具有高分辨率的图案。
• US7534547B2
  申请人：——

  公开号：US7534547B2

  公开（公告）日：2009-05-19
• Optically active compound and photosensitive resin composition
  申请人：——

  公开号：US20030211421A1

  公开（公告）日：2003-11-13

  A photoactive compound is used in combination with a photosensitizer, represented by the following formula (1): A −[( J ) m −( X-Pro )] n (1) wherein A represents a hydrophobic unit comprising at least one kind of hydrophobic groups selected from a hydrocarbon group and a heterocyclic group, J represents a connecting group, X-Pro represents a hydrophilic group protected by a protective group Pro which is removable by light exposure, m represents 0 or 1, and n represents an integer of not less than 1. The protective group Pro may be removable by light exposure in association with the photosensitizer (especially, a photo acid generator), or may be a hydrophobic protective group. The hydrophilic group may be a hydroxyl group or a carboxyl group. The photoactive compound has high sensitivity to a light source of short wavelength beams, for resist application, therefore, the photoactive compound is advantageously used for forming a pattern with high resolution.

  一种光活性化合物与光敏剂结合使用，由以下公式（1）表示： A −[( J ) m −( X-Pro )] n (1) 其中，A代表至少包括一种从烃基和杂环基中选择的疏水基的疏水单元，J代表连接基团，X-Pro代表由光照可去除的保护基团Pro保护的亲水基团，m代表0或1，n代表不少于1的整数。 保护基团Pro可以与光敏剂（特别是光酸发生剂）一起通过光照可去除，也可以是疏水保护基团。亲水基团可以是羟基或羧基。光活性化合物对短波长光源具有很高的敏感性，用于光刻应用，因此，该光活性化合物有利于形成具有高分辨率的图案。