Methacrylsaeure-trimethylgermylmethylester | 90151-69-2

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机酸及其衍生物 - 羧酸及其衍生物
• 英文名称: Methacrylsaeure-trimethylgermylmethylester
• 英文别名: Methacryloxymethyltrimethylgermane；trimethylgermylmethyl 2-methylprop-2-enoate
• CAS: 90151-69-2
• 化学式: C₈H₁₆GeO₂
• 分子量: 216.804
• InChiKey: VWYKMPSIISPSAM-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  1.98
• 重原子数：
  11
• 可旋转键数：
  4
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.62
• 拓扑面积：
  26.3
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  2

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  potassium methacrylate 、 18-冠醚-6 、 对苯二酚 、 氯甲基三甲基锗烷 、 、 Methyl acetate hexane 在 乙腈 、 正己烷 、 乙酸甲酯 、 silica 、 Methyl acetate hexane 作用下， 以 乙腈 为溶剂， 35.0~80.0 ℃ 、71.1 kPa 条件下， 反应 65.0h， 以to yield pure trimethylgermylmethyl methacrylate (boiling point 58° C. at 4 mm Hg pressure)的产率得到Methacrylsaeure-trimethylgermylmethylester
  参考文献：
  名称：

  Negative resist with oxygen plasma resistance

  摘要：

  由单体如氯甲基苯乙烯和三甲基锗甲基甲基丙烯酸甲酯形成的聚合物形成负作用光阻，对电子束和深紫外辐射的曝光非常敏感。这些材料在双层光阻应用中特别有用，用于制造掩模或器件加工。

  公开号：

  US04935094A1

文献信息

• Negative resist with oxygen plasma resistance
  申请人：AT&T Bell Laboratories

  公开号：US04935094A1

  公开（公告）日：1990-06-19

  Polymers formed from monomers such as chloromethyl styrene and trimethylgermylmethyl methacrylate form negative-acting resists that are extremely sensitive to exposure by electron beam and deep UV radiation. These materials are particularly useful in bilevel resist applications for fabricating masks or for device processing.

  由单体如氯甲基苯乙烯和三甲基锗甲基甲基丙烯酸甲酯形成的聚合物形成负作用光阻，对电子束和深紫外辐射的曝光非常敏感。这些材料在双层光阻应用中特别有用，用于制造掩模或器件加工。