鬼伞毒素 | 58919-61-2

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机酸及其衍生物 - 羧酸及其衍生物
• 中文名称: 鬼伞毒素
• 中文别名: 墨盖蘑菇氨酸
• 英文名称: coprine
• 英文别名: (2S)-2-amino-5-[(1-hydroxycyclopropyl)amino]-5-oxopentanoic acid
• CAS: 58919-61-2
• 化学式: C₈H₁₄N₂O₄
• 分子量: 202.21
• InChiKey: OEEZRBUCLFMTLD-YFKPBYRVSA-N

物化性质

• 沸点：
  533.4±50.0 °C(Predicted)
• 密度：
  1.40±0.1 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  -3.4
• 重原子数：
  14
• 可旋转键数：
  5
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.75
• 拓扑面积：
  113
• 氢给体数：
  4
• 氢受体数：
  5

安全信息

• 危险等级：
  6.1(b)

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  tert-butyl (2S)-N²-<(tert-butyloxy)carbonylamino>-N⁵-(1'-ethoxycyclopropyl)glutaminate 在 盐酸 作用下， 反应 1.0h， 以73%的产率得到鬼伞毒素
  参考文献：
  名称：

  科林和邻乙基吗啡的新合成

  摘要：

  蘑菇Coprinus atramentarius的毒素，Coprine（1）是从2-氨基和1-羧基保护的L-谷氨酸4和12开始合成的。首先通过自由基链反应将化合物4脱羧成溴化物5，然后在用NaH处理时将其闭环成环丙烷羧酸酯6（方案1）。随后氧化7生成N-（1-乙氧基环丙基）氨基甲酸叔丁酯（8）并进行酸性水解，生成1-氨基环丙醇盐酸盐（9）。选择性切割8（10或11）个氨基保护基，将相应的胺13与L-谷氨酸12偶联，酸水解生成的L-谷氨酰胺衍生物17，得到O-乙基coprine（3）和coprine（1）。

  DOI：

  10.1002/hlca.19920750411

文献信息

• [EN] SALT FORMS OF S-(N, N-DIETHYLCARBAMOYL)GLUTATHIONE<br/>[FR] FORMES SALINES DE S-(N, N-DIÉTHYLCARBAMOYL)GLUTATHION
  申请人：TONIX PHARMA HOLDINGS LTD

  公开号：WO2020194058A1

  公开（公告）日：2020-10-01

  The invention relates in various aspects to a salt form S-(N, N-diethylcarbamoyl)glutathione, a method of producing the salt form, a pharmaceutical composition comprising said salt form. The invention also relates to a method of preventing or treating a glutamate-related disorder comprising administering to said subject a therapeutically effective amount of said salt form.

  该发明涉及盐形式S-(N,N-二乙基氨甲酰)谷胱甘肽的各种方面，一种制备该盐形式的方法，包括所述盐形式的药物组合物。该发明还涉及一种预防或治疗谷氨酸相关疾病的方法，包括向所述受试者投予所述盐形式的治疗有效量。
• CHEMICAL MECHANICAL POLISHING (CMP) COMPOSITION, METHOD AND SYSTEM FOR COBALT-CONTAINING SUBSTRATE
  申请人：Versum Materials US, LLC

  公开号：EP3257910A1

  公开（公告）日：2017-12-20

  Chemical mechanical polishing (CMP) compositions, methods and systems for polish cobalt or cobalt-containing substrates are provided. The CMP compositions comprise α-alanine, abrasive particles, a salt of phosphate, corrosion inhibitor, oxidizer and water. The cobalt chemical mechanical polishing compositions provide high removal rate of Co as well as very high selectivity of Co film vs. dielectric film, such as TEOS, SixNy (with 1.0 < x <3.0, 1.33 < y <4.0), low-k, and ultra low-k films.

  提供了用于抛光钴或含钴基底的化学机械抛光（CMP）组合物、方法和系统。CMP 组合物由 α-丙氨酸、研磨颗粒、磷酸盐、缓蚀剂、氧化剂和水组成。钴化学机械抛光组合物具有很高的钴去除率，以及钴膜与介质膜（如 TEOS、SixNy（1.0 < x <3.0，1.33 < y <4.0）、低-k 和超低-k 膜）的极高选择性。
• ADDITIVES FOR BARRIER CHEMICAL MECHANICAL PLANARIZATION
  申请人：Versum Materials US, LLC

  公开号：EP3263667A1

  公开（公告）日：2018-01-03

  A barrier chemical mechanical planarization polishing composition is provided that includes suitable chemical additives. The suitable chemical additives are silicate compound and high molecular weight polymers/copolymers. There is also provided a chemical mechanical polishing method using the barrier chemical mechanical planarization polishing composition.

  提供了一种阻隔化学机械平面抛光组合物，其中包括合适的化学添加剂。合适的化学添加剂是硅酸盐化合物和高分子量聚合物/共聚物。还提供了一种使用阻隔化学机械平面抛光组合物的化学机械抛光方法。
• MR1 LIGANDS AND PHARMACEUTICAL COMPOSITIONS FOR IMMUNOMODULATION
  申请人：Universität Basel

  公开号：EP3889602A1

  公开（公告）日：2021-10-06

  The invention relates to a method for modulating an interaction between an MR1 polypeptide and an MR1-specific T cell receptor molecule, whereby a MR1 polypeptide is contacted with a MR1 ligand compound that is a nucleobase adduct product reflecting a state of metabolic distress of a eukaryotic cell. The invention further relates to the use of compounds identified as MR1 ligands in vaccination or modulation of an MR1-restricted immune response.

  本发明涉及一种调节MR1多肽与MR1特异性T细胞受体分子之间相互作用的方法，其中MR1多肽与MR1配体化合物接触，MR1配体化合物是反映真核细胞代谢窘迫状态的核碱基加合物产物。 本发明进一步涉及鉴定为 MR1 配体的化合物在疫苗接种或调节 MR1 限制性免疫反应中的用途。
• Additives for barrier chemical mechanical planarization
  申请人：Versum Materials US, LLC

  公开号：US10253216B2

  公开（公告）日：2019-04-09

  A barrier chemical mechanical planarization polishing composition is provided that includes suitable chemical additives. The suitable chemical additives are silicate compound and high molecular weight polymers/copolymers. There is also provided a chemical mechanical polishing method using the barrier chemical mechanical planarization polishing composition.

  提供了一种阻隔化学机械平面抛光组合物，其中包括合适的化学添加剂。合适的化学添加剂是硅酸盐化合物和高分子量聚合物/共聚物。还提供了一种使用阻隔化学机械平面抛光组合物的化学机械抛光方法。