三甲基N,N,N-三丙酸酯 | 3330-09-4

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机酸及其衍生物 - 羧酸及其衍生物
• 中文名称: 三甲基N,N,N-三丙酸酯
• 英文名称: trimethyl 3,3′,3″-nitrilotripropanoate
• 英文别名: 3,3',3''-nitrilo-tri-propionic acid trimethyl ester；3,3',3''-Nitrilo-tri-propionsaeure-trimethylester；Tris-(2-carbomethoxy-aethyl)-amin；tris(2-methoxycarbonylethyl)amine；Tris-<2-methoxycarbonyl-ethyl>-amin；Methyl 3-(bis(2-methoxycarbonylethyl)amino)propanoate；methyl 3-[bis(3-methoxy-3-oxopropyl)amino]propanoate
• CAS: 3330-09-4
• 化学式: C₁₂H₂₁NO₆
• 分子量: 275.302
• InChiKey: YDNHCHDMPIHHGH-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  -0.3
• 重原子数：
  19
• 可旋转键数：
  12
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.75
• 拓扑面积：
  82.1
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  7

安全信息

• 海关编码：
  2921199090

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  三甲基N,N,N-三丙酸酯 以 甲醇 为溶剂， 反应 216.0h， 生成 Methyl 3-[2-[3-[bis[3-[2-[bis(3-methoxy-3-oxopropyl)amino]ethylamino]-3-oxopropyl]amino]propanoylamino]ethyl-(3-methoxy-3-oxopropyl)amino]propanoate
  参考文献：
  名称：

  Investigation of Dendriplexes by Ion Mobility-Mass Spectrometry

  摘要：

  具有生物活性的高度支化的聚酰胺胺(PAMAM)树状大分子已被设想为非病毒基因递送载体。它们已知通过静电相互作用与核酸(DNA)形成非共价复合物。尽管它们的转染效率已被证明，但由于其阳离子表面，PAMAMs存在显著的细胞毒性。为了克服这一缺点，已有报道对PAMAM表面进行不同的化学修饰，如附着疏水性残基。在本研究中，我们研究了不同低代PAMAM与DNA双链的复合作用；氨核的G0(N)和G1(N)PAMAM，天然或化学修饰为芳香族残基，即苯基修饰的PAMAM G0(N)和苯丙氨酸修饰的PAMAM G1(N)。为了研究PAMAM/DNA复合物（也称为树枝状复合物）中涉及的相互作用，我们使用了电喷雾电离(ESI)与离子迁移谱-质谱(IM-MS)联用技术。ESI已知可以在天然条件下研究非共价复合物，而IM-MS是一种二维分离技术，特别适用于复杂混合物的表征。IM-MS允许分离预期复合物、可能的额外非特异性复合物和自由配体。串联质谱(MS/MS)也被用于结构表征。这项工作强调了IM-MS和MS/MS对于小树枝状复合物研究的贡献。确定了复合物的配位数和平衡解离常数。比较了[DNA/天然PAMAM]和[DNA/修饰PAMAM]的树枝状复合物。

  DOI：

  10.3390/molecules191220731
• 作为产物：
  描述：

  丙烯酸甲酯（MA） 在 氨 作用下， 以 甲醇 为溶剂， 反应 24.0h， 以74%的产率得到三甲基N,N,N-三丙酸酯
  参考文献：
  名称：

  单，双和三脚形受体在其外配位球上提取[PtCl 6 ] 2–的选择性的比较

  摘要：

  [PtCl 6 ] 2–的提取和结合研究报道了24种含有三（2-氨基乙基）胺（TREN）或三（3-氨基丙基）胺（TRPN）支架的单，双和三脚架提取剂。这些试剂旨在识别[PtCl 6 ] 2–的外部配位域，并在酸性条件下显示出对氯离子的选择性。从0.6 M HCl提取涉及到含有1、2或3个尿素，酰胺或磺酰胺氢键供体的叔胺中N中心的质子化，以建立以下平衡：2L （org） + 2H + + [PtCl 6 ] 2 –⇌[（LH）2 PtCl6 ] （org）。所有试剂均显示出比三辛胺更高的Pt负载量，三辛胺被用作代表商业三烷基胺试剂的阳性对照。[PtCl 6 ] 2–的负载量取决于萃取剂中酰胺的侧基数量，并遵循三脚架>双足>单足的顺序，含尿素的萃取剂的性能优于酰胺和磺酰胺类似物。不同系列的试剂，其中Tris-2-ethylhexylamine中的一个，两个或三个烷基被3- N'-己基丙酰胺基取代，它们对[PtCl

  DOI：

  10.1021/acs.inorgchem.6b00848

文献信息

• Parent-amido (NH2) palladium(II) complexes: Synthesis, reactions, and catalytic hydroamination
  作者：Youngwon Kim、Soonheum Park

  DOI：10.1016/j.crci.2015.12.008

  日期：2016.5

  Abstract The treatment of [PdL3(NH3)](OTf)n (n = 1; L3 = (PEt3)2(Ph), (2,6-(Cy2PCH2)2C6H3), n = 2; L3 = (dppe)(NH3)) with NaNH2 in tetrahydrofuran at ambient temperature or −78 °C afforded the dimeric and monomeric parent-amido palladium(II) complexes anti-[Pd(PEt3)(Ph)(μ-NH2)]2 (1), [Pd(dppe)(μ-NH2)]2(OTf)2 (2), and Pd(2,6-(Cy2PCH2)2C6H3)(NH2) (3), respectively. The molecular structures of the amido-bridged

  摘要 [PdL3(NH3)](OTf)n (n = 1; L3 = (PEt3)2(Ph), (2,6-(Cy2PCH2)2C6H3), n = 2; L3 = (dppe)( NH3)) 与四氢呋喃中的 NaNH2 在环境温度或 -78 °C 下得到二聚体和单体母体-酰氨基钯 (II) 配合物抗-[Pd(PEt3)(Ph)(μ-NH2)]2 (1), [分别为 Pd(dppe)(μ-NH2)]2(OTf)2 (2) 和 Pd(2,6-(Cy2PCH2)2C6H3)(NH2) (3)。酰胺桥联 (μ-NH2) 二聚体复合物 1 和 2 的分子结构由单晶 X 射线晶体学确定。单体酰胺络合物 3 与痕量水反应得到羟基络合物 Pd(2,6-(Cy2PCH2)2C6H3)(OH)(4)。将配合物 3 暴露在过量的水中导致配合物完全转化为两种物质 [Pd(2,6-(Cy2PCH2)2C6H3)(OH2)]+
• Novel sulfonyldiazomethanes, photoacid generators, resist compositions, and patterning process
  申请人：——

  公开号：US20040167322A1

  公开（公告）日：2004-08-26

  A chemical amplification type resist composition comprising a specific benzenesulfonyldiazomethane containing a long-chain alkoxyl group at the 2-position on benzene ring has many advantages including improved resolution, improved focus latitude, minimized line width variation or shape degradation even on long-term PED, minimized debris left after coating, development and peeling, and improved pattern profile after development and is thus suited for microfabrication.

  一种化学放大型抗蚀组合物，包括在苯环上的2-位含有长链烷氧基基团的特定苯磺酰二氮甲烷，具有许多优点，包括提高分辨率，改善焦点宽度，即使在长期PED上也减少线宽变化或形状退化，涂层、显影和剥离后减少残留物，并在显影后改善图案轮廓，因此适用于微加工。
• Amido Complexes of Iridium with a PNP Pincer Ligand: Reactivity toward Alkynes and Hydroamination Catalysis
  作者：Pablo Hermosilla、Pablo López、Pilar García-Orduña、Fernando J. Lahoz、Víctor Polo、Miguel A. Casado

  DOI：10.1021/acs.organomet.8b00365

  日期：2018.8.13

  activation, affording the Ir(III) complex [fac-(PNHP)IrH(C≡CH)2] (10). A DFT theoretical analysis of this transformation supports a metal–ligand cooperation mechanism. The reaction starts by deprotonation of an alkyne moiety by the PNP ligand followed by oxidative addition of the C–H bond to the metal of a second alkyne molecule. Additionally, we have tested complex 4 as a catalyst for the addition

  钳形配体HN（CH 2 CH 2 PPh 2）2（1 ; PN H P）与[Ir（μ-X）（cod）} 2 ]（X = Cl，OMe）反应，得到络合物[ fac-（ PN H P）Ir（cod）] Cl（2）和[ fac-（PNP）Ir（cod）]（3）。的透视分子结构2表明，配位体PNP坐标面部的方式，与在轴向的网站上的N原子和在赤道平面协调两个P原子。化合物1能够使复合物[Ir（μ-OH）（coe）2 }中的羟基桥质子化2形成新的酰胺基络合物[ mer-（PNP）Ir（coe）]（4）。复杂4是一个极其空气敏感的化合物，由隔离所证实的氧络合物[聚体- （PNP）的Ir（η 2 -O 2）]（8从它与空气的相互作用）。的质子化4与HBF 4，得到相应的氨基配合物[聚体- （PN ħ P）的Ir（COE）] BF 4（5），其分子结构通过X射线晶体学启发证实了PNP配体子午方式进行协调
• Photoacid generators, chemically amplified resist compositions, and patterning process
  申请人：Ohsawa Youichi

  公开号：US20070292768A1

  公开（公告）日：2007-12-20

  A photoacid generator has formula (1). A chemically amplified resist composition comprising the photoacid generator has advantages including a high resolution, focus latitude, long-term PED dimensional stability, and a satisfactory pattern profile shape. When the photoacid generator is combined with a resin having acid labile groups other than those of the acetal type, resolution and top loss are improved. The composition is suited for deep UV lithography.

  一种光酸发生剂的化学式为（1）。包括该光酸发生剂的化学增感抗蚀组合物具有诸如高分辨率、焦点宽度、长期PED尺寸稳定性和令人满意的图案轮廓形状等优点。当该光酸发生剂与具有除了缩醛类型以外的酸敏感基团的树脂结合时，可以改善分辨率和顶部损失。该组合物适用于深紫外光刻。
• Resist composition and patterning process
  申请人：Watanabe Satoshi

  公开号：US20100009299A1

  公开（公告）日：2010-01-14

  The present invention relates to: a resist composition such as a chemically amplified resist composition for providing an excellent pattern profile even at a substrate-side boundary face of resist, in addition to a higher resolution in photolithography for micro-fabrication, and particularly in photolithography adopting, as an exposure source, KrF laser, ArF laser, F 2 laser, ultra-short ultraviolet light, electron beam, X-rays, or the like; and a patterning process utilizing the resist composition. The present invention provides a chemically amplified resist composition comprising one or more kinds of amine compounds or amine oxide compounds (except for those having a nitrogen atom of amine or amine oxide included in a ring structure of an aromatic ring) at least having a carboxyl group and having no hydrogen atoms covalently bonded to a nitrogen atom as a basic center.

  本发明涉及一种抗蚀组合物，例如用于在抗蚀物的基板侧边界面上提供优异图案轮廓的化学增感抗蚀组合物，除了在微细加工的光刻工艺中具有更高的分辨率外，特别是在采用KrF激光、ArF激光、F2激光、超短紫外光、电子束、X射线等作为曝光光源的光刻工艺中；以及利用该抗蚀组合物的图案化工艺。本发明提供一种化学增感抗蚀组合物，其包括一种或多种胺化合物或胺氧化合物（除了那些在芳香环的环结构中不含有胺或胺氧原子的氮原子的化合物），至少具有一个羧基，并且没有氢原子共价键结合到氮原子作为碱性中心。