三苯基锍 2,3,5,6-四氟-4-(甲基丙烯酰氧基)苯磺酸盐 | 915090-37-8

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯酚酯
• 中文名称: 三苯基锍 2,3,5,6-四氟-4-(甲基丙烯酰氧基)苯磺酸盐
• 中文别名: 2,3,5,6-四氟-4-(甲基丙烯酸)苯磺酸三苯基锍；三苯基锍2,3,5,6-四氟-4-(甲基丙烯酰氧基)苯磺酸盐
• 英文名称: triphenylsulfonium 4-(methacryloxy)-2,3,5,6-tetrafluorobenzenesulfonate
• 英文别名: Triphenylsulfonium 2,3,5,6-tetrafluoro-4-(methacryloyloxy)benzenesulfonate；2,3,5,6-tetrafluoro-4-(2-methylprop-2-enoyloxy)benzenesulfonate;triphenylsulfanium
• CAS: 915090-37-8
• 化学式: C₁₀H₅F₄O₅S*C₁₈H₁₅S
• 分子量: 576.589
• InChiKey: HOMIPVFSNRXVAD-UHFFFAOYSA-M

物化性质

• 熔点：
  57-59 ºC

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  6.41
• 重原子数：
  39
• 可旋转键数：
  6
• 环数：
  4.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.04
• 拓扑面积：
  92.9
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  9

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  2,3,5,6-四氟苯酚 在 硫酸 、 三氧化硫 、 三氟乙酸 、 三氟乙酸酐 、 sodium chloride 作用下， 以 水 为溶剂， 生成 三苯基锍 2,3,5,6-四氟-4-(甲基丙烯酰氧基)苯磺酸盐
  参考文献：
  名称：

  Novel anionic photoacid generators (PAGs) and corresponding PAG bound polymers for sub-50 nm EUV lithography

  摘要：

  制备了一系列新的阴离子光酸发生器（PAG）和相应的聚合物。PAG 结合聚合物的热稳定性优于 PAG 共混聚合物。与 PAG 共混聚合物相比，加入聚合物主链的 PAG 具有更高的分辨率。极紫外光刻（EUVL）结果证明了这一点：氟 PAG 结合聚合物抗蚀剂可产生 45 nm（1:1）、35 nm（1:2）、30 nm（1:3）和 20 nm（1:4）的线/空间以及 50 nm（1:1）的弯头图案。

  DOI：

  10.1039/b617133h

文献信息

• Novel polymeric anionic photoacid generators (PAGs) and corresponding polymers for 193 nm lithography
  作者：Mingxing Wang、Nathan D. Jarnagin、Cheng-Tsung Lee、Clifford L. Henderson、Wang Yueh、Jeanette M. Roberts、Kenneth E. Gonsalves

  DOI：10.1039/b607918k

  日期：——

  A series of new anionic PAGs, as well as PAG-bound polymers designed for use in 193 nm photoresist materials, have been synthesized and characterized. These novel materials provide optical transparency at 193 nm and also good etch resistance. PAG incorporated resists and PAG blended resists were exposed at a wavelength of 193 nm using an ASML 5500/950B optical lithography system with 0.63 NA. Exposed wafers were evaluated using SEM. The fluorine substituted PAG bound polymer and PAG blend resist provided a 110 nm (220 nm pitch) line/space at 11.5, 13.0 mJ cm−2, and 80 nm isolated features at 3 and 1 mJ cm−2, respectively. The LER (3σ) results showed that the fluorinated PAG bound polymer has LER values of 6.7 and 6.8 nm for isolated 80 nm and dense 110 nm lines, respectively, while the fluorinated PAG blend resist has LER values of 8.6 and 8.9 nm. The improvement may be due to the direct bonding of PAG into the polymer main-chain, which provides a more uniform distribution, thereby controlling acid diffusion and allowing a higher loading of PAG than the blend sample. The fluorine-free PAG bound or blend resists showed lower photospeed compared to photoresists based on fluorine-substituted PAGs.

  我们合成了一系列新型阴离子 PAG 以及 PAG 结合聚合物，并对其进行了表征，这些聚合物设计用于 193 纳米光刻胶材料。这些新型材料在 193 纳米波长下具有光学透明度和良好的抗蚀刻性。使用波长为 193 纳米的 ASML 5500/950B 光学光刻系统（0.63 NA），对含有 PAG 的光刻胶和 PAG 混合光刻胶进行了曝光。使用 SEM 对曝光的晶片进行评估。氟取代的 PAG 结合聚合物和 PAG 混合抗蚀剂分别在 11.5 和 13.0 mJ cm-2 下提供了 110 nm（220 nm 间距）的线/间距，在 3 和 1 mJ cm-2 下提供了 80 nm 的孤立特征。LER (3σ) 结果显示，含氟 PAG 结合聚合物的 80 nm 隔离线和 110 nm 密集线的 LER 值分别为 6.7 nm 和 6.8 nm，而含氟 PAG 混合抗蚀剂的 LER 值分别为 8.6 nm 和 8.9 nm。这种改进可能是由于 PAG 直接粘合到聚合物主链中，使其分布更加均匀，从而控制了酸的扩散，使 PAG 的负载量高于共混样品。与基于氟取代 PAG 的光刻胶相比，无氟 PAG 结合型或混合型光刻胶的光速较低。
• MONOMER, POLYMER, CHEMICALLY AMPLIFIED POSITIVE RESIST COMPOSITION, AND PATTERNING PROCESS
  申请人：Hatakeyama Jun

  公开号：US20110294070A1

  公开（公告）日：2011-12-01

  A polymer is obtained from a hydroxyphenyl methacrylate monomer having an acid labile group substituted thereon. A positive resist composition comprising the polymer as a base resin has a very high contrast of alkaline dissolution rate before and after exposure, a high resolution, a good profile and minimal line edge roughness of a pattern after exposure, a retarded acid diffusion rate, and good etching resistance.

  一种聚合物是由一种具有酸敏感基团的羟基苯甲酸甲酯单体合成得到的。该聚合物作为基础树脂的正性光阻组合物具有极高的曝光前后碱溶解速率对比度、高分辨率、曝光后图案的良好轮廓和极小的线边粗糙度、缓慢的酸扩散速率和良好的蚀刻抗性。
• POLYMERIZABLE PHOTOACID GENERATORS
  申请人：Thackeray James W.

  公开号：US20120171616A1

  公开（公告）日：2012-07-05

  A compound has formula (I): Q-O-(A)-Z − G + (I) wherein Q is a halogenated or non-halogenated, C 2-30 olefin-containing group, A is a fluorine-substituted C 1-30 alkylene group, a fluorine-substituted C 3-30 cycloalkylene group, a fluorine-substituted C 6-30 arylene group, or a fluorine-substituted C 7-30 alkylene-arylene group, Z is an anionic group comprising sulfonate, sulfonamide, or sulfonamide, and G + has formula (II): wherein X is S or I, each R 0 is halogenated or non-halogenated and is independently C 1-30 alkyl group; a polycyclic or monocyclic C 3-30 cycloalkyl group; a polycyclic or monocyclic C 4-30 aryl group; or a combination of these, wherein when X is S, one of the R 0 groups is optionally attached to one adjacent R 0 group by a single bond, and a is 2 or 3, wherein when X is I, a is 2, or when X is S, a is 3. A copolymer, a photoresist, a coated substrate and method of patterning are disclosed.

  一种化合物的化学式为(I): Q-O-(A)-Z−G+(I)，其中Q是卤代或非卤代的含有C2-30烯烃基团的基团，A是氟代的C1-30烷基烯基基团、氟代的C3-30环烷基烷基基团、氟代的C6-30芳基烷基基团或氟代的C7-30烷基芳基基团，Z是包括磺酸盐、磺酰胺或磺酰胺的阴离子基团，G+的化学式为(II)：其中X为S或I，每个R0为卤代或非卤代且独立的C1-30烷基基团；多环或单环的C3-30环烷基基团；多环或单环的C4-30芳基基团；或这些的组合，其中当X为S时，其中一个R0基团可以通过单键连接到相邻的一个R0基团上，且a为2或3，当X为I时，a为2，当X为S时，a为3。还公开了共聚物、光阻、涂层基板和图案化方法。
• 含氟光致产酸剂及其制备方法与应用
  申请人：安徽庆润新材料技术有限公司

  公开号：CN113548988A

  公开（公告）日：2021-10-26

  本发明公开一种含氟光致产酸剂，涉及光敏树脂合成技术领域，含氟光致产酸剂包括结构式E、结构式F所示的化合物中的一种或两种，或所述含氟光致产酸剂的结构式为结构式E或结构式F如下：本发明还提供上述本发明的含氟光致产酸剂的制备方法及应用。本发明的有益效果在于：本发明的含氟光致产酸剂及其光敏树脂在193nm处具有低吸收，较高的光学透明性；具有较高的热稳定性能。将产酸剂接枝到聚合物主链上与其他功能性的单体进行共聚，可以有效的降低相分离，防止产酸剂产生的H+向未曝光区域扩散，降低LER，提高感光度和分辨率，同时也具有较低的气体排放的优点。
• POSITIVE RESIST COMPOSITION AND PATTERNING PROCESS
  申请人：HATAKEYAMA Jun

  公开号：US20110171580A1

  公开（公告）日：2011-07-14

  A positive resist composition comprising a polymer having a tetrahydrobenzocycloheptane-substituted secondary or tertiary carboxyl group ester as an acid labile group exhibits a high contrast of alkaline dissolution rate before and after exposure, a high resolution, a good pattern profile and minimal edge roughness after exposure, a significant effect of suppressing acid diffusion rate, and improved etching resistance.

  一种正性光刻胶组合物，包括具有四氢苯并环庚烷取代的次级或三级羧酸酯作为酸敏基团的聚合物，表现出高对比度的碱溶解速率，在曝光前后具有高分辨率，曝光后具有良好的图案轮廓和最小的边缘粗糙度，具有抑制酸扩散速率的显著效果，并提高了蚀刻抗性。