1-[(ethenoxy)methyl]-4-phenylbenzene

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 英文名称: 1-[(ethenoxy)methyl]-4-phenylbenzene
• 英文别名: 1-(Ethenoxymethyl)-4-phenylbenzene
• 化学式: C₁₅H₁₄O
• 分子量: 210.276
• InChiKey: BEEJIIWFSXOAIP-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  4.7
• 重原子数：
  16
• 可旋转键数：
  4
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.07
• 拓扑面积：
  9.2
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  1

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  苯基三氟甲烷磺酸酯 、 1-[(ethenoxy)methyl]-4-phenylbenzene 在 1,3-双(二苯基膦)丙烷 、 palladium diacetate 、 N,N-二异丙基乙胺 作用下， 以 N,N-二甲基甲酰胺 为溶剂， 反应 3.0h， 以96%的产率得到4-{[(1-phenylethenyl)oxy]methyl}biphenyl
  参考文献：
  名称：

  α-和β-芳基化乙烯基醚的选择性方法

  摘要：

  苄基乙烯基醚已通过微调的 Heck 型钯催化剂在 α 或 β 位选择性芳基化。与以前的协议相比，不需要过量的芳基化试剂或底物螯合。为了获得良好的收率和高 α/β-选择性，必须优化决定催化体系的各种因素。DFT 计算研究的结果将选择性与 Pd 中心上的电子丰富度相关联。

  DOI：

  10.1002/anie.202109801

文献信息

• CALIXARENE COMPOUND AND PHOTORESIST COMPOSITION COMPRISING SAME
  申请人：Rohm and Haas Electronic Materials LLC

  公开号：US20130157195A1

  公开（公告）日：2013-06-20

  A molecular glass compound includes (A) a tetrameric reaction product of a specific aromatic compound having at least one hydroxy group, and a specific polycyclic or fused polycyclic aromatic aldehyde; and (B) an acid-removable protecting group as an adduct with the hydroxy group of the aromatic compound and/or a hydroxy group of the polycyclic or fused polycyclic aromatic aldehyde. A photoresist composition including the molecular glass compound, and a coated substrate including a layer of the photoresist composition are also disclosed.

  一种分子玻璃化合物，包括(A)一种特定芳香化合物的四聚反应产物，该芳香化合物至少具有一个羟基，以及一种特定的多环或融合多环芳香醛；和(B)一种酸可移除的保护基，作为与芳香化合物的羟基和/或多环或融合多环芳香醛的羟基的加合物。还公开了一种包括该分子玻璃化合物的光刻胶组合物，以及包括光刻胶组合物层的涂覆基板。
• CALIXARENE AND PHOTORESIST COMPOSITION COMPRISING SAME
  申请人：Rohm and Haas Electronic Materials LLC

  公开号：US20130078569A1

  公开（公告）日：2013-03-28

  A molecular glass compound comprises a vinyl ether adduct of an aromatic vinyl ether of formula C(R 1 ) 2 ═C(R 2 )—O-(L) n -Ar 1 , and a calix[4]arene, wherein R 1 and R 2 are each independently a single bond, H, C 1-20 alkyl, C 1-20 haloalkyl, C 6-20 aryl, C 6-20 haloaryl, C 7-20 aralkyl, or C 7-20 haloaralkyl, L is a C 1-20 linking group, n is 0 or 1, and Ar 1 is a halo-containing monocyclic, or substituted or unsubstituted polycyclic or fused polycyclic C 6-20 aromatic-containing moiety, wherein R 1 and R 2 are connected to Ar 1 when either or both of R 1 and R 2 is a single bond and n is 0. A photoresist, comprising the molecular glass compound, a solvent, and a photoacid generator, a coated substrate, comprising (a) a substrate having one or more layers to be patterned on a surface thereof; and (b) a layer of a photoresist composition over the one or more layers to be patterned, and a method of forming the molecular glass compound, are also disclosed.

  一种分子玻璃化合物包括芳香基乙烯醚的乙烯醚加合物，化学式为C(R1)2═C(R2)—O-(L)n-Ar1，以及一种杯芳烃[4]，其中R1和R2分别独立为单键，H，C1-20烷基，C1-20卤代烷基，C6-20芳基，C6-20卤代芳基，C7-20芳基烷基，或C7-20卤代芳基烷基，L是C1-20连接基，n为0或1，Ar1是含卤素的单环芳基，或取代或未取代的多环或融合多环C6-20芳基结构，当R1和R2中的一个或两个为单键且n为0时，R1和R2与Ar1相连。此外，还公开了包括该分子玻璃化合物、溶剂和光酸发生剂的光阻剂，包括（a）具有一个或多个要在其表面上进行图案化的层的基板；和（b）覆盖在要进行图案化的一个或多个层上的光阻剂组合物层，以及形成该分子玻璃化合物的方法。
• RESIST COMPOSITION, PATTERNING PROCESS AND POLYMER
  申请人：SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.

  公开号：US20140178820A1

  公开（公告）日：2014-06-26

  An additive polymer comprising recurring styrene units having an ester group bonded to a CF 3 —C(OR 2 )—R 3 group (wherein R 2 is H, acyl or acid labile group, R 3 is H, CH 3 or CF 3 ) such as 1,1,1,3,3,3-hexafluoro-2-propanol is added to a polymer capable of increasing alkali solubility under the action of acid to formulate a resist composition. The resist composition can minimize outgassing from a resist film during the EUV lithography and form a resist film having a hydrophilic surface sufficient to prevent formation of blob defects on the film after development.
• US8765356B2
  申请人：——

  公开号：US8765356B2

  公开（公告）日：2014-07-01
• US8936900B2
  申请人：——

  公开号：US8936900B2

  公开（公告）日：2015-01-20