tetrabutylammonium linoleate

• 分子结构分类: 有机化合物 - 脂质和类脂质分子 - 脂肪酰基
• 英文名称: tetrabutylammonium linoleate
• 英文别名: (9Z,12Z)-octadeca-9,12-dienoate;tetrabutylazanium
• 化学式: C₁₆H₃₆N*C₁₈H₃₁O₂
• 分子量: 521.911
• InChiKey: GATZDKCWRPYKKW-NBTZWHCOSA-M

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  9.55
• 重原子数：
  37
• 可旋转键数：
  25
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.85
• 拓扑面积：
  40.1
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  2

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  (Z,Z)-9,12-十八烷二烯酸二聚物 在 sodium hydroxide 作用下， 以 水 为溶剂， 反应 3.0h， 生成 tetrabutylammonium linoleate
  参考文献：
  名称：

  脂肪酸离子液体作为低摩擦和低磨损的环保润滑剂†

  摘要：

  植物油是环保，可持续和丰富的脂肪酸来源，自古以来就被用作润滑剂。脂肪酸的羧基与金属表面相互作用，并在边界润滑下形成低剪切强度的摩擦化学薄膜，从而减少了摩擦和磨损。在此，选择具有可变链长和不饱和位点的四种脂肪酸作为阴离子前体，以制备四丁基铵-脂肪酸离子液体。这些离子液体的制备已通过FTIR和NMR（1 H和13C）分析。脂肪酸阴离子的链长和不饱和度控制着脂肪酸离子液体的粘度，熔融温度，结晶温度和潜热。与多元醇酯润滑油基础油相比，这些离子液体作为润滑剂表现出明显更低的摩擦力（18–50％）。此外，摩擦降低的程度在很大程度上受到构成脂肪酸阴离子的结构的影响。油酸根阴离子在所有正在研究的脂肪酸离子液体中显示出最佳的摩擦摩擦性能。磨损表面的元素图谱揭示了脂肪酸离子液体的形成，构成了摩擦化学薄膜。这些离子液体是无卤的脂肪酸前体来源，并且来源广泛，有望在摩擦学应用中发挥巨大的潜力，

  DOI：

  10.1039/c5ra25001c

文献信息

• Silicon-containing film-forming composition, silicon-containing film, silicon-containing film-bearing substrate, and patterning method
  申请人：Shinetsu Chemical Co., Ltd.

  公开号：EP1845132A2

  公开（公告）日：2007-10-17

  A silicon-containing film is formed from a heat curable composition comprising (A) a silicon-containing compound obtained by effecting hydrolytic condensation of a hydrolyzable silicon compound in the presence of an acid catalyst, and substantially removing the acid catalyst from the reaction mixture, (B) a hydroxide or organic acid salt of lithium, sodium, potassium, rubidium or cesium, or a sulfonium, iodonium or ammonium compound, (C) an organic acid, and (D) an organic solvent. The silicon-containing film allows an overlying photoresist film to be patterned effectively. The composition is effective in minimizing the occurrence of pattern defects after lithography and is shelf stable.

  含硅薄膜由一种热固化组合物形成，该组合物包括：(A) 一种含硅化合物，该化合物是通过在酸催化剂存在下使一种可水解的硅化合物发生水解缩合，并从反应混合物中基本除去酸催化剂而获得；(B) 锂、钠、钾、铷或铯的氢氧化物或有机酸盐，或一种锍、碘或铵化合物；(C) 一种有机酸；以及 (D) 一种有机溶剂。含硅薄膜可以有效地将上覆的光刻胶薄膜图案化。该组合物能有效地减少光刻后图案缺陷的出现，并具有货架稳定性。
• Metal oxide-containing film-forming composition, metal oxide-containing film, metal oxide-containing film-bearing substrate, and patterning method
  申请人：Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.

  公开号：EP2063319A1

  公开（公告）日：2009-05-27

  A metal oxide-containing film is formed from a heat curable composition comprising (A) a metal oxide-containing compound obtained through hydrolytic condensation between a hydrolyzable silicon compound and a hydrolyzable metal compound, (B) a hydroxide or organic acid salt of Li, Na, K, Rb or Cs, or a sulfonium, iodonium or ammonium compound, (C) an organic acid, and (D) an organic solvent. The metal oxide-containing film ensures effective pattern formation.

  一种含金属氧化物的薄膜由一种热固化组合物形成，该组合物包括：(A) 通过可水解硅化合物和可水解金属化合物之间的水解缩合获得的含金属氧化物化合物；(B) Li、Na、K、Rb 或 Cs 的氢氧化物或有机酸盐，或锍、碘或铵化合物；(C) 有机酸；以及 (D) 有机溶剂。含金属氧化物的薄膜可确保有效的图案形成。
• Composition for forming silicon-containing film, silicon-containing film-formed substrate and patterning process
  申请人：Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.

  公开号：EP2172807A1

  公开（公告）日：2010-04-07

  There is disclosed a thermosetting composition for forming a silicon-containing film to form a silicon-containing film formed in a multilayer resist process used in lithography, including at least (A) a silicon-containing compound obtained by hydrolyzing and condensing a hydrolyzable silicon compound using an acid as a catalyst, (B) a thermal crosslinking accelerator (C) a monovalent or bivalent or more organic acid having 1 to 30 carbon atoms, (D) trivalent or more alcohol and (E) an organic solvent. There can be provided a composition for a silicon-containing film which can form a good pattern in a photoresist film, can form a silicon-containing film for an etching mask having a good dry etching resistance, can give a good storage stability and can be delaminated with a solution used in a delamination process in a multilayer resist process used for lithography, a substrate on which the silicon-containing film is formed, and further a method for forming a pattern.

  本发明公开了一种用于形成含硅薄膜的热固性组合物，该组合物用于形成在光刻中使用的多层抗蚀剂工艺中形成的含硅薄膜，至少包括(A)通过使用酸作为催化剂水解和缩合可水解硅化合物而获得的含硅化合物，(B)热交联促进剂，(C)具有 1 至 30 个碳原子的一价或二价或更多有机酸，(D)三价或更多醇，以及(E)有机溶剂。本发明可以提供一种含硅薄膜的组合物，该组合物可以在光刻胶膜中形成良好的图案，可以形成用于蚀刻掩膜的含硅薄膜，该薄膜具有良好的耐干蚀刻性，可以提供良好的储存稳定性，并且可以用用于光刻的多层抗蚀剂工艺中的分层工艺中使用的溶液进行分层，还可以提供一种在其上形成含硅薄膜的基底，以及进一步提供一种形成图案的方法。
• Patterning process and composition for forming silicon-containing film usable therefor
  申请人：Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.

  公开号：EP2500775A2

  公开（公告）日：2012-09-19

  The invention provides a patterning process for forming a negative pattern by lithography, comprising at least the steps of:using a composition for forming silicon-containing film, containing specific silicon-containing compound (A) and an organic solvent (B), to form a silicon-containing film; using a silicon-free resist composition to form a photoresist film on the silicon-containing film; heat-treating the photoresist film, and subsequently exposing the photoresist film to a high energy beam; and using a developer comprising an organic solvent to dissolve an unexposed area of the photoresist film, thereby obtaining a negative pattern. There can be a patterning process, which is optimum as a patterning process of a negative resist to be formed by adopting organic solvent-based development, and a composition for forming silicon-containing film to be used in the process.

  本发明提供了一种通过光刻法形成底片图案的制图工艺，至少包括以下步骤：使用含有特定含硅化合物（A）和有机溶剂（B）的用于形成含硅薄膜的组合物形成含硅薄膜；使用无硅抗蚀剂组合物在含硅薄膜上形成光刻胶膜；对光刻胶膜进行热处理，然后将光刻胶膜暴露于高能光束；以及使用含有有机溶剂的显影剂溶解光刻胶膜的未暴露区域，从而获得负图案。可以有一种图案化工艺，它是通过采用基于有机溶剂的显影来形成阴性抗蚀剂的最佳图案化工艺，以及在该工艺中使用的用于形成含硅薄膜的组合物。
• Composition for film formation, method of film formation, and silica-based film
  申请人：JSR CORPORATION

  公开号：US20030091838A1

  公开（公告）日：2003-05-15

  A composition for film formation which comprises: (A) a product of hydrolysis and condensation obtained by hydrolyzing and condensing at least one silane compound selected from the group consisting of compounds represented by the formula (1), compounds represented by the formula (2), and compounds represented by the formula (3) in the presence of water and an ammonium compound, and (B) an organic solvent.

  一种用于成膜的组合物，它包括 (A) 至少一种硅烷化合物的水解和缩合产物，该硅烷化合物选自由式（1）、式（2）和式（3）所代表的化合物组成的组，在水和铵化合物存在下水解和缩合得到，以及 (B) 有机溶剂。