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ethacrylic acid acetate

中文名称
——
中文别名
——
英文名称
ethacrylic acid acetate
英文别名
Ethylac-ryloylacetate;acetyl 2-methylidenebutanoate
ethacrylic acid acetate化学式
CAS
——
化学式
C7H10O3
mdl
——
分子量
142.155
InChiKey
CKWWGLKPZYYZLS-UHFFFAOYSA-N
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
  • 计算性质
  • ADMET
  • 安全信息
  • SDS
  • 制备方法与用途
  • 上下游信息
  • 反应信息
  • 文献信息
  • 表征谱图
  • 同类化合物
  • 相关功能分类
  • 相关结构分类

计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    1.3
  • 重原子数:
    10
  • 可旋转键数:
    4
  • 环数:
    0.0
  • sp3杂化的碳原子比例:
    0.43
  • 拓扑面积:
    43.4
  • 氢给体数:
    0
  • 氢受体数:
    3

反应信息

  • 作为反应物:
    描述:
    1-甲基环戊醇ethacrylic acid acetate甲苯 为溶剂, 反应 18.0h, 生成
    参考文献:
    名称:
    一种双酯酸保护结构单体及其制备方法
    摘要:
    本发明涉及到光学材料领域,具体涉及到一种双酯酸保护结构单体及其制备方法。一种双酯酸保护结构单体,用作集成电路制作中所需光刻胶的原材料,因其具有双酯长侧链能够使光刻胶具有较好的成膜性能,又由于其悬挂在外的小体积、高酸敏基团能够提高光刻工艺中去保护反应效率,因此提高光刻产品的质量,此外通过本发明提供的工艺方法制得的双酯酸保护结构单体,具有较高的产率和纯度,进一步保证了光刻胶的性能。
    公开号:
    CN110590554A
  • 作为产物:
    描述:
    羟基乙酸2-乙基丙烯酸吩噻嗪硫酸 作用下, 以 甲苯 为溶剂, 反应 5.0h, 生成 ethacrylic acid acetate
    参考文献:
    名称:
    一种双酯酸保护结构单体及其制备方法
    摘要:
    本发明涉及到光学材料领域,具体涉及到一种双酯酸保护结构单体及其制备方法。一种双酯酸保护结构单体,用作集成电路制作中所需光刻胶的原材料,因其具有双酯长侧链能够使光刻胶具有较好的成膜性能,又由于其悬挂在外的小体积、高酸敏基团能够提高光刻工艺中去保护反应效率,因此提高光刻产品的质量,此外通过本发明提供的工艺方法制得的双酯酸保护结构单体,具有较高的产率和纯度,进一步保证了光刻胶的性能。
    公开号:
    CN110590554A
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文献信息

  • Fine polymer particles having heterogeneous phase structure, silver halide photographic light- sensitive material containing the fine polymer particles and image-forming method
    申请人:FUJI PHOTO FILM CO., LTD.
    公开号:EP0716338A2
    公开(公告)日:1996-06-12
    Latex polymer of fine particles having a heterogeneous phase structure which comprises a core of a polymer having repeating units derived from a conjugated diene monomer and a shell of a polymer having repeating units derived from at least one ethylenically unsaturated monomer carrying an active methylene group; a silver halide photographic light-sensitive material comprises a core/shell latex polymer whose shell consists of a polymer having repeating units of an ethylenically unsaturated monomer represented by the formula: CH₂=C(R¹)-L-X (wherein R¹ represents H, alkyl or halogen, L represents a single bond or a bivalent coupling group, X represents an active methylene group, provided that L is bonded to X in the form of alkylene; and a method for forming images on a silver halide light-sensitive material which comprises exposing the material which comprises at least one light-sensitive silver halide emulsion layer and at least one hydrophilic colloidal layer either of which comprises a latex polymer having active methylene groups and developing the exposed material with a developer which comprises a dihydroxybenzene developing agent and an auxiliary developing agent showing superadditivity, the pH increase observed when adding 0.1mole/ℓ developer of NaOH to the developer ≦ 0.25; 9.5 ≦ initial pH of the developer ≦ 11.0; the amount of the developer supplemented≦ 225 ml/m².
    具有异相结构的细颗粒乳胶聚合物,其核由具有来自共轭二烯单体的重复单元的聚合物组成,壳由具有来自至少一种带有活性亚甲基的乙烯不饱和单体的重复单元的聚合物组成;卤化银感光材料由核/壳乳胶聚合物组成,其壳由具有由式表示的乙烯不饱和单体的重复单元的聚合物组成:CH₂=C(R¹)-L-X(其中R¹代表H、烷基或卤素,L代表单键或二价偶联基团,X代表活性亚甲基,条件是L以亚烷基的形式与X键合);以及一种在卤化银感光材料上形成图像的方法,该方法包括曝光该材料,该材料包括至少一个感光卤化银乳剂层和至少一个亲水胶体层,其中任一亲水胶体层包括具有活性亚甲基的乳胶聚合物,并用显影剂显影曝光的材料,该显影剂包括二羟基苯显影剂和显示超加成性的辅助显影剂,当加入 0.1mole/ℓ 显影剂的 NaOH 时观察到的 pH 值增加 ≦ 0.25;9.5 ≦ 显影剂的初始 pH ≦ 11.0;补充的显影剂量 ≦ 225 ml/m²。
  • Radiographic intensifying screen
    申请人:Fuji Photo Film Co., Ltd.
    公开号:US20030226979A1
    公开(公告)日:2003-12-11
    A radiographic intensifying screen is composed of a support and a phosphor layer. The phosphor layer contains a terbium activated gadolinium oxysulfide phosphor. The screen contains a fluorescent dye or pigment which absorbs a portion of luminescence emitted by the oxysulfide phosphor and then emits a light having an emission peak in the wavelength resion of 490 to 600 nm.
    射线增强屏由支架和荧光粉层组成。荧光层含有铽活化钆氧化硫荧光粉。荧光屏中含有一种荧光染料或颜料,它能吸收一部分由氧化硫荧光粉发出的荧光,然后发出具有 490 至 600 纳米波长共振发射峰的光。
  • Efficient and highly enantioselective Rh-catalyzed hydrogenations of unsaturated lactate precursors with chiral bisphospholanes as ligands
    申请人:ThyssenKrupp Uhde GmbH
    公开号:EP2141145B1
    公开(公告)日:2013-02-20
  • DUAL-STAGE WAFER APPLIED UNDERFILLS
    申请人:LORD CORPORATION
    公开号:EP1694769A1
    公开(公告)日:2006-08-30
  • EP1694769A4
    申请人:——
    公开号:EP1694769A4
    公开(公告)日:2007-08-29
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