3-(1-adamantyl)-pentan-3-yl methacrylate

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机酸及其衍生物 - 羧酸及其衍生物
• 英文名称: 3-(1-adamantyl)-pentan-3-yl methacrylate
• 英文别名: 3-(1-Adamantyl)pentan-3-yl 2-methylprop-2-enoate
• 化学式: C₁₉H₃₀O₂
• 分子量: 290.446
• InChiKey: FFJMRJCZBDXYLH-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  5.7
• 重原子数：
  21
• 可旋转键数：
  6
• 环数：
  4.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.84
• 拓扑面积：
  26.3
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  2

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  1-金刚烷甲酸 在 硫酸 、 lithium 作用下， 以 四氢呋喃 、 甲苯 为溶剂， 反应 6.0h， 生成 3-(1-adamantyl)-pentan-3-yl methacrylate
  参考文献：
  名称：

  JP6478447

  摘要：

  公开号：

文献信息

• アダマンチル（メタ）アクリレート系化合物の製造方法
  申请人：大阪有機化学工業株式会社

  公开号：JP2019034959A

  公开（公告）日：2019-03-07

  【課題】極めて純度の高いアダマンチル（メタ）アクリレート系化合物を高い回収率で得る方法を提供する。【解決手段】下記一般式（ａ）で表される化合物と、（メタ）アクリル酸等とを反応させて得られた粗アダマンチル（メタ）アクリレート系化合物を、少なくとも１種の水溶性有機溶媒を用いて第１の晶析をしたのち、水溶性有機溶媒１００質量部に対し水１００〜１質量部を添加して第２の晶析をする、アダマンチル（メタ）アクリレート系化合物の製造方法。（式中、Ｒ1は、Ｈ又はＣ１〜１０アルキル基、Ｍは、Ｈ又はアルカリ金属又はＭｇＸ（Ｘはハロゲン）を表す。）【選択図】なし

  提供一种以高回收率获得极高纯度的金刚烷（甲基）丙烯酸酯化合物的方法。将下述化合物表示为通用式（a）的化合物与（甲基）丙烯酸等反应，得到粗金刚烷（甲基）丙烯酸酯化合物，然后至少使用一种水溶性有机溶剂进行第一次结晶，随后向水溶性有机溶剂中加入100至1部水，进行第二次结晶，从而制备金刚烷（甲基）丙烯酸酯化合物的方法。（式中，R1代表H或C1-10烷基，M代表H或碱金属或MgX（X为卤素）。）【选择图】无
• MONOMER HAVING ELECTRON-WITHDRAWING SUBSTITUENT AND LACTONE SKELETON, POLYMERIC COMPOUND, AND PHOTORESIST COMPOSITION
  申请人：Koyama Hiroshi

  公开号：US20100297555A1

  公开（公告）日：2010-11-25

  Disclosed is a monomer having an electron-withdrawing substituent and a lactone skeleton, represented by following Formula (1), wherein R a represents, e.g., a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms; R 1 represents, e.g., a halogen atom or an alkyl or haloalkyl group having 1 to 6 carbon atoms; “A” represents an alkylene group having 1 to 6 carbon atoms, oxygen atom, sulfur atom, or nonbonding; “m” denotes an integer of 0 to 8; Xs each represent an electron-withdrawing substituent; “n” denotes an integer of 1 to 9; and Y represents a bivalent organic group having 1 to 6 carbon atoms. The monomer is useful typically as a monomer component typically for a highly functional polymer, because, when the monomer is applied typically to a resist resin, the resin is satisfactory stable and resistant typically to chemicals, is highly soluble in organic solvents, and has improved hydrolyzability and/or solubility in water after hydrolysis.

  揭示了一种具有吸电子取代基和内酯骨架的单体，由以下式（1）表示，其中R代表，例如，氢原子或具有1至6个碳原子的烷基基团；R1代表，例如，卤素原子或具有1至6个碳原子的烷基或卤代烷基基团；“A”代表具有1至6个碳原子的烷基基团、氧原子、硫原子或非键合基团；“m”表示0至8的整数；Xs各自代表吸电子取代基；“n”表示1至9的整数；Y代表具有1至6个碳原子的二价有机基团。该单体通常用作高功能聚合物的单体组分，因为当该单体通常应用于抗蚀树脂时，树脂通常具有较高的稳定性和抗化学品性能，对有机溶剂具有较高的溶解性，并在水解后具有改善的水解性和/或水溶性。
• BICYCLOHEXANE DERIVATIVE AND PRODUCTION METHOD FOR SAME
  申请人：Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc.

  公开号：EP2524907A1

  公开（公告）日：2012-11-21

  A bicyclohexane derivative compound useful in the field of photoresist, the field of intermediate of drugs and pesticides, and the like, and a manufacturing method of the same are provided. A bicyclohexane derivative compound represented by the following general formula (II) is provided. (In formula (II), Y independently represents an alkyl group of 1 to 10 carbons, a halogen atom, an acyloxy group, an alkoxycarbonyl group or a hydroxyl group, X1 represents a halogen atom, m represents an integer of 0 to 11, and m' represents an integer of 0 to 10.)

  提供了一种在光刻胶领域、药物和杀虫剂的中间体领域等领域中有用的一种萜环己烷衍生物化合物，以及其制备方法。提供了由下述通用公式（II）表示的一种萜环己烷衍生物化合物。（在公式（II）中，Y独立表示1至10个碳原子的烷基、卤素原子、酰氧基、烷氧羰基或羟基，X1表示卤素原子，m表示0至11的整数，m'表示0至10的整数。）
• MONOMER HAVING N-ACYL CARBAMOYL GROUP AND LACTONE SKELETON, AND POLYMERIC COMPOUND
  申请人：DAICEL CORPORATION

  公开号：US20160060374A1

  公开（公告）日：2016-03-03

  Disclosed is a monomer containing an N-acylcarbamoyl group and a lactone skeleton. The monomer is exemplified by Formula (1): where R a is selected typically from hydrogen and C 1 -C 6 alkyl; R 1 is, independently in each occurrence, selected typically from halogen and optionally halogenated C 1 -C 6 alkyl; “A” is selected from C 1 -C 6 alkylene, oxygen, sulfur, and non-bond; m represents an integer of 0 to 8; X represents, independently in each occurrence, specific N-acylcarbamoyl; n represents an integer of 1 to 9; and Y represents a C 1 -C 6 divalent organic group.

  揭示了一种含有N-酰基氨酰基基团和内酯骨架的单体。该单体以式(1)为例，其中R通常选择自氢和C1-C6烷基；R1在每次出现时，通常选择自卤素和可选择卤代的C1-C6烷基；“A”选择自C1-C6亚烷基、氧、硫和非键合；m表示0到8的整数；X在每次出现时独立选择特定的N-酰基氨酰基；n表示1到9的整数；Y代表C1-C6二价有机基团。
• RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, RESIST PATTERN-FORMING METHOD, COMPOUND, AND METHOD OF CONTROLLING ACID DIFFUSION
  申请人：JSR CORPORATION

  公开号：US20200393755A1

  公开（公告）日：2020-12-17

  The radiation-sensitive resin composition contains: a polymer having a structural unit that includes an acid-labile group; and a compound represented by formula (1). In the formula (1), Ar 1 represents a group obtained by removing (m+n+2) hydrogen atoms from an aromatic ring of an arene having 6 to 30 carbon atoms; —OH and —COO— are bonded at ortho positions to each other on a same benzene ring on Ar 1 ; and R G represents a group represented by formula (V-1), a group represented by formula (V-2), a group including a lactone structure, a group including a cyclic carbonate structure, a group including a sultone structure, a group including a ketonic carbonyl group, a group including a thiocarbonate group, or a group including a group represented by formula (V-3), or the like.

  这种辐射敏感的树脂组合物包含：具有包含酸敏感基团的结构单元的聚合物；以及由公式（1）表示的化合物。在公式（1）中，Ar1代表从具有6到30个碳原子的芳香族化合物的芳香环中去除（m + n + 2）个氢原子得到的基团; -OH和-COO-在Ar1的同一苯环上的邻位上彼此结合; RG代表由公式（V-1）表示的基团，由公式（V-2）表示的基团，包括内酯结构的基团，包括环状碳酸酯结构的基团，包括磺酸酯结构的基团，包括酮基的羰基基团，包括硫代碳酸酯基团或包括由公式（V-3）表示的基团的基团，或类似的基团。