二甲氧基(二吡咯烷-1-基)硅烷 | 180536-08-7

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机杂环化合物 - 吡咯烷类
• 中文名称: 二甲氧基(二吡咯烷-1-基)硅烷
• 英文名称: bis(pyrrolidino) dimethoxysilane
• 英文别名: bis(pyrrolidino)dimethoxysilane；di(pyrrolidinyl)dimethoxysilane；dipyrrolidyldimethoxysilane；Pyrrolidine, 1,1'-(dimethoxysilylene)bis-；dimethoxy(dipyrrolidin-1-yl)silane
• CAS: 180536-08-7
• 化学式: C₁₀H₂₂N₂O₂Si
• 分子量: 230.382
• InChiKey: DGSPRFRFGPAESC-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  248.2±23.0 °C(Predicted)
• 密度：
  1.05±0.1 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  0.91
• 重原子数：
  15
• 可旋转键数：
  4
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  1.0
• 拓扑面积：
  24.9
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  4

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  二甲氧基(二吡咯烷-1-基)硅烷 在 盐酸 作用下， 以 乙醚 为溶剂， 反应 1.0h， 生成 dichlorodimethoxysilane
  参考文献：
  名称：

  [EN] ORGANOMETALLIC COMPOUND AND METHOD
  [FR] COMPOSÉ ORGANOMÉTALLIQUE ET PROCÉDÉ

  摘要：

  提供一类有机金属化合物。这些化合物的结构对应于公式1（A）x-M-(OR3)4-x，其中：A选自以下组：-NR1R2，-N（R4）（CH2）nN（R5R6），-N=C（NR4R5）（NR6R7），OCOR1，卤素和Y；R1和R2独立地选自以下组：H和具有1至8个碳原子的环状或非环状烷基，但必须满足R1和R2中至少有一个不是H；R4，R5，R6和R7独立地选自以下组：H和具有1至4个碳原子的非环状烷基；Y选自包含至少一个氮原子的3-至13元杂环基团；R3是具有1至6个碳原子的环状或非环状烷基；M选自Si，Ge，Sn，Ti，Zr和Hf；x是1至3的整数；n是1至4的整数。本发明的化合物可用作化学相沉积过程（如原子层沉积（ALD），化学气相沉积（CVD），等离子体辅助ALD和等离子体辅助CVD）中的前体。还提供了低温气相沉积金属氧化物薄膜（如SiO2薄膜）的方法。

  公开号：

  WO2017136945A1
• 作为产物：
  描述：

  四氢吡咯 、 正硅酸甲酯 在 正丁基锂 作用下， 以 正己烷 为溶剂， 反应 1.0h， 生成 二甲氧基(二吡咯烷-1-基)硅烷
  参考文献：
  名称：

  [EN] ORGANOMETALLIC COMPOUND AND METHOD
  [FR] COMPOSÉ ORGANOMÉTALLIQUE ET PROCÉDÉ

  摘要：

  提供一类有机金属化合物。这些化合物的结构对应于公式1（A）x-M-(OR3)4-x，其中：A选自以下组：-NR1R2，-N（R4）（CH2）nN（R5R6），-N=C（NR4R5）（NR6R7），OCOR1，卤素和Y；R1和R2独立地选自以下组：H和具有1至8个碳原子的环状或非环状烷基，但必须满足R1和R2中至少有一个不是H；R4，R5，R6和R7独立地选自以下组：H和具有1至4个碳原子的非环状烷基；Y选自包含至少一个氮原子的3-至13元杂环基团；R3是具有1至6个碳原子的环状或非环状烷基；M选自Si，Ge，Sn，Ti，Zr和Hf；x是1至3的整数；n是1至4的整数。本发明的化合物可用作化学相沉积过程（如原子层沉积（ALD），化学气相沉积（CVD），等离子体辅助ALD和等离子体辅助CVD）中的前体。还提供了低温气相沉积金属氧化物薄膜（如SiO2薄膜）的方法。

  公开号：

  WO2017136945A1