dichlorodimethoxysilane | 18544-45-1

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机金属化合物 - 有机类金属化合物
• 英文名称: dichlorodimethoxysilane
• 英文别名: Dimethoxydichlorsilan；dimethoxydichlorosilane；Silane, dichloro-bis(methoxy)-；dichloro(dimethoxy)silane
• CAS: 18544-45-1
• 化学式: C₂H₆Cl₂O₂Si
• 分子量: 161.06
• InChiKey: QEHKWLKYFXJVLL-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  100 °C
• 密度：
  1.212±0.06 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  1.19
• 重原子数：
  7
• 可旋转键数：
  2
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  1.0
• 拓扑面积：
  18.5
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  2

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  dichlorodimethoxysilane 在 C₆H₅Cl 、 Na 作用下， 以 甲苯 为溶剂， 生成 苯基三甲氧基硅烷
  参考文献：
  名称：

  Gmelin Handbuch der Anorganischen Chemie, Gmelin Handbook: Si: MVol.C, 76, page 212 - 214

  摘要：

  DOI：
• 作为产物：
  描述：

  正硅酸甲酯 在 四氯化硅 作用下， 反应 30.0h， 以61%的产率得到dichlorodimethoxysilane
  参考文献：
  名称：

  2,7-Dimethyl-5-silaspiro[4.4]nona-2,7-diene的一步合成及其衍生物的合成

  摘要：

  研究了二烷氧基二氯硅烷（例如二甲氧基-、二乙氧基-、二丙氧基-、二丁氧基-和二异丁氧基二氯硅烷）与异戊二烯和镁在四氢呋喃 (THF) 中的原位反应。发现双退火产物，即 2,7-二甲基-5-silaspiro[4.4]nona-2,7-diene (1)，是由二乙氧基-、二丙氧基-和二丁氧基二氯硅烷在 87.0、65.2、和 66.5% 的收益率。另一方面，二甲氧基和二乙氧基二氯硅烷与丁二烯和镁在 THF 中的反应分别以 20.7% 和 35.4% 的产率得到 5-silaspiro[4.4]nona-2,7-diene (7)。几种硅螺酮衍生物由 1 合成。

  DOI：

  10.1246/bcsj.50.1545

文献信息

• 一种二苯并杂环化合物及其制备方法和应用
  申请人：宁波卢米蓝新材料有限公司

  公开号：CN109651423A

  公开（公告）日：2019-04-19

  本发明公开了一种二苯并杂环化合物，具有式(I)所示结构。二苯并杂环化合物的LUMO能级低，能够与电子传输材料良好匹配，有利于电子的注入与传输。二苯并杂环化合物具有良好的空穴传输性能，作为发光层材料能够平衡发光层中电子和空穴的比例，提高复合几率，使器件发光效率提升。二苯并杂环化合物的空间构型能够避免材料分子堆叠，进而避免分子间能量传递导致高能激子产生，减轻激子湮灭，抑制效率滚降。同时，二苯并杂环化合物具有良好的热稳定性，能够实现高效稳定的蓝光发光。本发明还公开了一种有机电致发光器件，至少有一个功能层中含有上述的二苯并杂环化合物，能够得到具有高蓝光发光效率和低工作电压的蓝光器件。
• Alternative methods for the synthesis of organosilicon compounds
  申请人：Dow Corning Corporation

  公开号：EP2639236A1

  公开（公告）日：2013-09-18

  A method of forming chloro-substituted silanes from the reaction of an alkoxy-or acetoxy-substituted silane with a chlorinating agent in the optional presence of a catalyst is provided. For instance, chloro-substituted silanes, including but not limited to silicon tetrachloride, are formed by reacting a chlorinating agent, such as thionyl chloride, with an alkoxysilane having the formula (R'O)4-xSiRx, where R and R' are independently selected alkyl groups comprising one or more carbon atoms and x is 0, 1, 2, or 3. The catalyst may be dimethylformamide, (chloromethylene)dimethyliminium chloride, or triethylamine, among others. The chloro-substituted silane formed in the reaction along with several by-products has the formula (R'O)4-x-ySiRxCly; where x is 0, 1, 2, or 3 and y is 1, 2, 3, or 4. One of the by-products of the reaction is an alkyl chloride.

  提供了一种从烷氧基或乙酰氧基取代的硅烷与氯化剂反应，在可选情况下存在催化剂的方法形成氯取代硅烷。例如，通过将氯化剂（如亚硫酰氯）与具有公式（R'O）4-xSiRx的烷氧基硅烷反应，形成了包括但不限于四氯化硅在内的氯取代硅烷，其中R和R'分别是独立选择的含有一个或多个碳原子的烷基基团，x为0、1、2或3。催化剂可以是二甲基甲酰胺、（氯甲基）二甲基亚胺盐酸盐或三乙胺等。反应中形成的氯取代硅烷以及若干副产物的化学式为（R'O）4-x-ySiRxCly；其中x为0、1、2或3，y为1、2、3或4。反应的副产物之一是烷基氯化物。
• Syntheses and Reactions of Metal Organics. XVI. Synthesis and Hydrolysis of Dimethoxysilanediyl Bis(polyfluoroalkanoate)
  作者：Norio Yoshino、Shin-ichi Tominaga、Hidefumi Hirai

  DOI：10.1246/bcsj.64.2735

  日期：1991.9

  Four new silicon compounds, dimethoxysilanediyl bis(5H-octafluoropentanoate), (CH3O)2Si[OCO(CF2)4H]2, dimethoxysilanediyl bis(7H-dodecafluoroheptanoate), (CH3O)2Si[OCO(CF2)6H]2, dimethoxysilanediyl bis(9H-hexadecafluorononanoate), (CH3O)2Si[OCO(CF2)8H]2, and dimethoxysilanediyl bis(pentadecafluorooctanoate), (CH3O)2Si[OCO(CF2)6CF3]2, were prepared by the reaction of dichlorodimethoxysilane with sodium

  四种新型硅化合物，二甲氧基硅烷二基双(5H-八氟戊酸酯)、(CH3O)2Si[OCO(CF2)4H]2、二甲氧基硅烷二基双(7H-十二氟庚酸酯)、( )2Si[OCO(CF2)6H]2、二甲氧基硅烷二基双( 9H-十六氟壬酸酯)、( )2Si[OCO(CF2)8H]2 和二甲氧基硅烷二基双（十五氟辛酸酯）、( )2Si[OCO(CF2)6CF3]2，是通过二氯二甲氧基硅烷与氟的钠盐反应制备的-取代的羧酸。获得了这些硅化合物的1H NMR、13C NMR和19F NMR和IR光谱数据。在通过使用 1 H NMR 光谱测量研究硅化合物抗水解稳定性的过程中，发现 SiOCOR 和 SiOCH 3 部分的水解容易程度完全相同。
• [EN] ORGANOMETALLIC COMPOUND AND METHOD<br/>[FR] COMPOSÉ ORGANOMÉTALLIQUE ET PROCÉDÉ
  申请人：SEASTAR CHEMICALS INC

  公开号：WO2017136945A1

  公开（公告）日：2017-08-17

  A class of organometallic compounds is provided. The compounds correspond in structure to Formula 1 (A)x-M-(OR3)4-x wherein: A is selected from the group consisting of -NR1R2, -N(R4)(CH2)nN(R5R6), -N=C(NR4R5)(NR6R7), OCOR1, halo and Y; R1 and R2 are independently selected from the group consisting of H and a cyclic or acyclic alkyl group having from 1 to 8 carbon atoms, with the proviso that at least one of R1 and R2 must be other than H; R4, R5, R6 and R7 are independently selected from the group consisting of H and an acyclic alkyl group having from 1 to 4 carbon atoms; Y is selected from the group consisting of a 3- to 13-membered heterocyclic radical containing at least one nitrogen atom; R3 is a cyclic or acyclic alkyl group having from 1 to 6 carbon atoms; M is selected from the group consisting of Si, Ge, Sn, Ti, Zr and Hf; x is an integer from 1 to 3; and n is an integer from 1 to 4. Compounds of the invention may be useful as precursors in chemical phase deposition processes such as atomic layer deposition (ALD), chemical vapour deposition (CVD), plasma assisted ALD and plasma assisted CVD. Methods of low temperature vapour phase deposition of metal oxide films, such as SiO2 films, are also provided.

  提供一类有机金属化合物。这些化合物的结构对应于公式1（A）x-M-(OR3)4-x，其中：A选自以下组：-NR1R2，-N（R4）（CH2）nN（R5R6），-N=C（NR4R5）（NR6R7），OCOR1，卤素和Y；R1和R2独立地选自以下组：H和具有1至8个碳原子的环状或非环状烷基，但必须满足R1和R2中至少有一个不是H；R4，R5，R6和R7独立地选自以下组：H和具有1至4个碳原子的非环状烷基；Y选自包含至少一个氮原子的3-至13元杂环基团；R3是具有1至6个碳原子的环状或非环状烷基；M选自Si，Ge，Sn，Ti，Zr和Hf；x是1至3的整数；n是1至4的整数。本发明的化合物可用作化学相沉积过程（如原子层沉积（ALD），化学气相沉积（CVD），等离子体辅助ALD和等离子体辅助CVD）中的前体。还提供了低温气相沉积金属氧化物薄膜（如SiO2薄膜）的方法。
• Preparation and Synthetic Applications of Alkyl Chlorosilicates
  作者：Donald F. Peppard、Weldon G. Brown、Warren C. Johnson

  DOI：10.1021/ja01205a022

  日期：1946.1