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1-methylcyclododecyl methacrylate

中文名称
——
中文别名
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英文名称
1-methylcyclododecyl methacrylate
英文别名
(1-Methylcyclododecyl) 2-methylprop-2-enoate
1-methylcyclododecyl methacrylate化学式
CAS
——
化学式
C17H30O2
mdl
——
分子量
266.424
InChiKey
JCAUKHSUQBYBBD-UHFFFAOYSA-N
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
  • 计算性质
  • ADMET
  • 安全信息
  • SDS
  • 制备方法与用途
  • 上下游信息
  • 反应信息
  • 文献信息
  • 表征谱图
  • 同类化合物
  • 相关功能分类
  • 相关结构分类

计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    6.3
  • 重原子数:
    19
  • 可旋转键数:
    3
  • 环数:
    1.0
  • sp3杂化的碳原子比例:
    0.82
  • 拓扑面积:
    26.3
  • 氢给体数:
    0
  • 氢受体数:
    2

反应信息

  • 作为反应物:
    描述:
    1-methylcyclododecyl methacrylate环戊二烯四氢呋喃 为溶剂, 反应 24.0h, 以70%的产率得到1-methylcyclododecyl 5-norbornene-2-carboxylate
    参考文献:
    名称:
    [EN] CHEMICALLY AMPLIFIED POLYMER HAVING PENDANT GROUP WITH CYCLODODECYL AND RESIST COMPOSITION COMPRISING THE SAME
    [FR] POLYMERE A AMPLIFICATION CHIMIQUE COMPRENANT UN GROUPE PENDANT AVEC CYCLODODECYLE ET COMPOSITION DE RESINE LE RENFERMANT
    摘要:
    本发明涉及一种具有与环十二烷键合的侧链基团的化学增感聚合物,其制备方法,以及包括它的抗蚀剂组合物,更具体地说,涉及一种新型的(甲基)丙烯酸或诺博烯羧酸酯化合物,其与环十二烷键合,其制备方法,用其合成的化学增感聚合物,以及包括该聚合物的用于ArF的正向光刻胶组合物,具有高分辨率和优异的蚀刻抗性。
    公开号:
    WO2004041770A1
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文献信息

  • Acrylic Acid-Based Polymer and Method of Producing the Same
    申请人:Kubo Hideo
    公开号:US20090111961A1
    公开(公告)日:2009-04-30
    Disclosed are an acrylic acid-based polymer which is a star polymer containing a repeating unit derived from an (α-lower alkyl)acrylic ester represented by formula (I): (wherein R 1 represents a hydrogen atom or a lower alkyl group, and R 2 represents an organic group having a polar group) in an arm portion; an acrylic acid-based polymer containing a repeating unit derived from an poly(α-lower alkyl)acrylic ester and a repeating unit derived from an (α-lower alkyl)acrylic ester represented by formula (I), and a method for producing a polymer through living polymerization, comprising forming an oligomer having a polymerization active end, which is an oligomer higher than an average 1.0-mer and lower than an average 4.0-mer or an average 4.0-mer, and polymerizing using the oligomer having a polymerization active end as an initiating species.
    本发明涉及一种基于丙烯酸的星型聚合物,其包含来自式(I)所表示的(α-较低烷基)丙烯酸酯的重复单元的臂部分;以及一种基于丙烯酸的聚合物,其包含来自聚(α-较低烷基)丙烯酸酯和式(I)所表示的(α-较低烷基)丙烯酸酯的重复单元,并且本发明还提供了通过活性聚合制备聚合物的方法,包括形成具有聚合活性端的寡聚体,该寡聚体高于平均1.0-聚体但低于平均4.0-聚体或平均4.0-聚体,并以具有聚合活性端的寡聚体作为引发物种进行聚合。
  • ACRYLIC ACID-BASED POLYMER AND METHOD OF PRODUCING THE SAME
    申请人:Kubo Hideo
    公开号:US20110046333A1
    公开(公告)日:2011-02-24
    Disclosed are an acrylic acid-based polymer which is a star polymer containing a repeating unit derived from an (α-lower alkyl)acrylic ester represented by formula (I): (wherein R 1 represents a hydrogen atom or a lower alkyl group, and R 2 represents an organic group having a polar group) in an arm portion; an acrylic acid-based polymer containing a repeating unit derived from an poly(α-lower alkyl)acrylic ester and a repeating unit derived from an (α-lower alkyl)acrylic ester represented by formula (I), and a method for producing a polymer through living polymerization, comprising forming an oligomer having a polymerization active end, which is an oligomer higher than an average 1.0-mer and lower than an average 4.0-mer or an average 4.0-mer, and polymerizing using the oligomer having a polymerization active end as an initiating species.
    本文揭示了一种基于丙烯酸的星形聚合物,其包含由公式(I)表示的(α-低烷基)丙烯酸酯衍生的重复单元的臂部分;一种基于丙烯酸的聚合物,其中包含由聚(α-低烷基)丙烯酸酯和由公式(I)表示的(α-低烷基)丙烯酸酯衍生的重复单元,并且通过活性聚合法制备聚合物的方法,包括形成具有聚合活性端的寡聚物,该寡聚物高于平均1.0-聚体但低于平均4.0-聚体或平均4.0-聚体,并使用具有聚合活性端的寡聚物作为引发物种进行聚合。
  • METHOD FOR PRODUCING STAR POLYMER
    申请人:Nippon Soda Co., Ltd.
    公开号:EP2186838A1
    公开(公告)日:2010-05-19
    It is to provide a star polymer that can be used as a photoresist material of photolithography processing with no linear polymer remained. After forming the core part by producing a polymer by polymerizing one or more polyfunctional (meth)acrylic acid ester derivative represented by formula (IV) (wherein R represents a hydrogen atom, etc. , n represents 2 or 3, and A represents an organic group linking at a carbon atom) by anionic polymerization in an organic solvent, in the presence of 0.1 to 0.99 mol of organic alkali metal compound with respect to 1 mol of the compound of the formula (IV), and in the presence of 0.1 to 20 mol of inorganic salts of alkali metal or alkali earth metal with respect to 1 mol of the organic alkali metal compound, the arm part is formed by polymerizing one or more monofunctional (meth)acrylic acid ester derivative represented by formula (I) (wherein R1 represents a hydrogen atom, etc., and R2 represents an organic group) by anionic polymerization from the anionic active site of the core part.
    其目的是提供一种星形聚合物,可用作光刻加工的光刻胶材料,且不残留线性聚合物。通过聚合一种或多种由式(IV)表示的多官能度(甲基)丙烯酸酯衍生物来生产聚合物,从而形成核心部分。 (其中 R 代表氢原子等式(IV)代表的一种或多种多官能团(甲基)丙烯酸酯衍生物(其中R代表氢原子等,n代表2或3,A代表连接在碳原子上的有机基团)在有机溶剂中,在0.1至0.99摩尔有机碱金属化合物(相对于1摩尔式(IV)化合物)和0.1至20摩尔碱金属或碱土金属的无机盐(相对于1摩尔有机碱金属化合物)的情况下,通过聚合一种或多种由式(I)代表的单官能团(甲基)丙烯酸酯衍生物,形成臂部分。 (其中 R1 代表氢原子等,R2 代表有机基团)通过阴离子聚合从核心部分的阴离子活性位点形成。
  • Positive resist composition and method of forming pattern using the same
    申请人:FUJIFILM Corporation
    公开号:EP1489459B1
    公开(公告)日:2015-10-14
  • ACRYLIC STAR POLYMER
    申请人:NIPPON SODA CO., LTD.
    公开号:EP1752479B1
    公开(公告)日:2013-02-27
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