4-ethylaminobenzophenone

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 英文名称: 4-ethylaminobenzophenone
• 英文别名: (4-(ethylamino)phenyl)(phenyl)methanone；[4-(Ethylamino)phenyl]-phenylmethanone
• 化学式: C₁₅H₁₅NO
• 分子量: 225.29
• InChiKey: VNYOSNATSHOWJJ-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  3.8
• 重原子数：
  17
• 可旋转键数：
  4
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.13
• 拓扑面积：
  29.1
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  2

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  4-ethylaminobenzophenone 、 2,4-二氨基-6-氯甲基蝶啶 在 potassium carbonate 、 potassium iodide 作用下， 以 N,N-二甲基乙酰胺 为溶剂， 反应 0.5h， 以71%的产率得到(4-(((2,4-diaminopteridin-6-yl)methyl)(ethyl)amino)phenyl)(phenyl)methanone
  参考文献：
  名称：

  多靶点、选择性化合物设计产生有效的动质体蝶啶还原酶 1 抑制剂

  摘要：

  具有多个目标的化合物的优化是药物发现周期中一个困难的多维问题。在这里，我们提出了一种系统的、多学科的方法来开发选择性抗寄生虫化合物。新型蝶啶衍生物的基于计算片段的设计以及晶体结构确定的迭代允许推导多靶点抑制的结构-活性关系。该方法产生的化合物显示出对布氏蝶啶还原酶 1 (PTR1) 的明显皮摩尔抑制，对L. major的纳摩尔抑制PTR1，以及对寄生虫二氢叶酸还原酶 (DHFR) 与人类 DHFR 的选择性亚微摩尔抑制。此外，通过将多药理学设计与基于特性的寄生虫优化相结合，我们发现三种化合物对布氏布氏锥虫表现出微摩尔 EC 50值，同时保持其目标抑制作用。我们的结果为进一步开发基于蝶啶的化合物提供了基础，我们希望我们的多靶点方法普遍适用于抗感染药物的设计和优化。

  DOI：

  10.1021/acs.jmedchem.2c00232
• 作为产物：
  描述：

  三聚甲醛 、 4-氨基二苯甲酮 在 三乙酰氧基硼氢化钠 、 溶剂黄146 作用下， 以 二氯甲烷 为溶剂， 以88%的产率得到4-ethylaminobenzophenone
  参考文献：
  名称：

  使用三乙酰氧基硼氢化钠与羧酸作为烷基源进行N-烷基化。

  摘要：

  使用三乙酰氧基硼氢化钠和羧酸作为烷基源进行通用的N-烷基化。这些试剂的组合提供了与先前通过相似反应给出的产物不同的产物。而且，我们方法的温和条件允许一些官能团通过反应保留下来，而它们会反应，并以先前报道的相似的还原性N-烷基化反应转化为其他部分。在此，我们提供了一种制备各种含氮原子的化合物的新方法。

  DOI：

  10.1248/cpb.c17-00716

文献信息

• Nickel-Catalyzed Amination of Aryl Chlorides with Ammonia or Ammonium Salts
  作者：Rebecca A. Green、John F. Hartwig

  DOI：10.1002/anie.201500404

  日期：2015.3.16

  The nickel‐catalyzed amination of aryl chlorides to form primary arylamines occurs with ammonia or ammonium sulfate and a well‐defined single‐component nickel(0) precatalyst containing a Josiphos ligand and an η2‐bound benzonitrile ligand. This system also catalyzes the coupling of aryl chlorides with gaseous amines in the form of their hydrochloride salts.

  镍催化芳基氯化物胺化形成伯芳胺是用氨或硫酸铵和含有 Josiphos 配体和η 2结合苯甲腈配体的明确单组分镍 (0) 预催化剂发生的。该系统还催化芳基氯与盐酸盐形式的气态胺的偶联。
• PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE ELEMENT, CURED PRODUCT, SEMICONDUCTOR DEVICE, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, AND METHOD FOR PRODUCING CIRCUIT SUBSTRATE
  申请人：Hitachi Chemical Company, Ltd.

  公开号：US20170329220A1

  公开（公告）日：2017-11-16

  A photosensitive resin composition comprises: a resin having a phenolic hydroxyl group; a photosensitive acid generator; a compound having at least one selected from the group consisting of an aromatic ring, a heterocycle and an alicycle, and at least one selected from the group consisting of a methylol group and an alkoxyalkyl group; an aliphatic compound having two or more functional groups being at least one selected from the group consisting of an acryloyloxy group, a methacryloyloxy group, a glycidyloxy group, an oxetanyl alkyl ether group, a vinyl ether group and a hydroxyl group; and a compound having at least one skeleton selected from the group consisting of an anthracene skeleton, a phenanthrene skeleton, a pyrene skeleton, a perylene skeleton, a carbazole skeleton, a phenothiazine skeleton, a xanthone skeleton, a thioxanthone skeleton, an acridine skeleton, a phenylpyrazoline skeleton, a distyrylbenzene skeleton and a distyrylpyridine skeleton, or a benzophenone compound.
• US5792589A
  申请人：——

  公开号：US5792589A

  公开（公告）日：1998-08-11