benzene-1,2,4-tricarboxylic acid-tris-N,N-(diallylamide)

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 英文名称: benzene-1,2,4-tricarboxylic acid-tris-N,N-(diallylamide)
• 英文别名: 1-N,1-N,2-N,2-N,4-N,4-N-hexakis(prop-2-enyl)benzene-1,2,4-tricarboxamide
• 化学式: C₂₇H₃₃N₃O₃
• 分子量: 447.577
• InChiKey: HWVQDNZHOFPHJL-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  4.2
• 重原子数：
  33
• 可旋转键数：
  15
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.22
• 拓扑面积：
  60.9
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  3

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  1,3,5-苯三甲酰氯 、 二烯丙基胺 以 二氯甲烷 为溶剂， 反应 1.0h， 以60.2%的产率得到benzene-1,2,4-tricarboxylic acid-tris-N,N-(diallylamide)
  参考文献：
  名称：

  Photosensitive resin composition and uses thereof

  摘要：

  该发明涉及一种具有高显影性、良好硬度和良好溅射抗性的感光树脂组合物。该发明还提供了一种制造彩色滤光片、彩色滤光片和液晶显示装置的方法。该感光树脂组合物包括碱溶性树脂（A）、含有乙烯基不饱和基团的化合物（B）、光引发剂（C）、有机溶剂（D）、颜料（E）和化合物（F）。

  公开号：

  US09568763B2

文献信息

• Photosensitive resin composition and uses thereof
  申请人：CHI MEI CORPORATION

  公开号：US09568763B2

  公开（公告）日：2017-02-14

  The invention relates to a photosensitive resin composition that has the advantages of high developability, good hardness, and good sputtered resistance. The invention also provides a method for manufacturing a color filter, color filter and a liquid crystal display device. The photosensitive resin composition comprises an alkali-soluble resin (A), a compound containing an ethylenically unsaturated group (B), a photoinitiator (C), an organic solvent (D), a pigment (E), and a compound (F).

  该发明涉及一种具有高显影性、良好硬度和良好溅射抗性的感光树脂组合物。该发明还提供了一种制造彩色滤光片、彩色滤光片和液晶显示装置的方法。该感光树脂组合物包括碱溶性树脂（A）、含有乙烯基不饱和基团的化合物（B）、光引发剂（C）、有机溶剂（D）、颜料（E）和化合物（F）。