六氟-2-甲基异丙基丙烯酸盐 | 53038-41-8

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机酸及其衍生物 - 羧酸及其衍生物
• 中文名称: 六氟-2-甲基异丙基丙烯酸盐
• 英文名称: Hexafluoro-2-methylisopropyl acrylate
• 英文别名: (1,1,1,3,3,3-hexafluoro-2-methylpropan-2-yl) prop-2-enoate
• CAS: 53038-41-8
• 化学式: C₇H₆F₆O₂
• mdl: MFCD03094206
• 分子量: 236.11
• InChiKey: ZGCKGVIUMPSSEG-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  60 °C
• 密度：
  1.345±0.06 g/cm3(Predicted)
• 稳定性/保质期：
  如果按照规格正确使用和储存，则不会分解，也未发现有已知的危险反应。

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  3.2
• 重原子数：
  15
• 可旋转键数：
  3
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.571
• 拓扑面积：
  26.3
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  8

安全信息

• 危险等级：
  IRRITANT
• 危险品标志：
  Xi
• 危险类别码：
  R10
• 危险品运输编号：
  3272
• 海关编码：
  2916190090
• 安全说明：
  S16

文献信息

• Film-Forming Composition, Film Formed Thereby, and Method for Manufacturing Organic Semiconductor Element Using Same
  申请人：CENTRAL GLASS COMPANY, LIMITED

  公开号：US20160181531A1

  公开（公告）日：2016-06-23

  A film-forming composition according to the present invention includes: a fluororesin having a repeating unit of the general formula (1); and a fluorine-containing solvent. In the general formula (1), R 1 each independently represents a hydrogen atom, a fluorine atom, a methyl group or a trifluoromethyl group; and R 2 each independently represents a C 1 -C 15 straight, C 3 -C 15 branched or C 3 -C 15 cyclic fluorine-containing hydrocarbon group in which any hydrogen atom may be replaced by a fluorine atom with the proviso that the repeating unit contains at least one fluorine atom; and This film-forming composition is suitably usable for the manufacturing of an organic semiconductor element because the composition can form a film on an organic semiconductor film; and the formed film has resistance to an etching solvent during the fine pattern processing of the organic semiconductor film by photolithography etc.
• US9842993B2
  申请人：——

  公开号：US9842993B2

  公开（公告）日：2017-12-12
• [EN] FILM-FORMING COMPOSITION, FILM FORMED THEREBY, AND METHOD FOR MANUFACTURING ORGANIC SEMICONDUCTOR ELEMENT USING SAME<br/>[FR] COMPOSITION POUR FORMATION DE FILMS, FILM FORMÉ PAR CELLE-CI ET PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UN ÉLÉMENT SEMICONDUCTEUR ORGANIQUE L'UTILISANT
  申请人：CENTRAL GLASS CO LTD

  公开号：WO2015008720A1

  公开（公告）日：2015-01-22

  　本発明の膜形成用組成物は、一般式（１）で表わされる繰り返し単位を含むフッ素樹脂と、フッ素系溶剤を含む。（Ｒ1は、それぞれ独立に、水素原子、フッ素原子、メチル基またはトリフルオロメチル基である。Ｒ2は、それぞれ独立に、炭素数１～１５の直鎖状、炭素数３～１５の分岐鎖状または炭素数３～１５の環状の含フッ素炭化水素基であり、炭化水素基中の水素原子がフッ素原子で置換されていてもよく、繰り返し単位中に少なくとも１個のフッ素原子を含む。） 該組成物は、有機半導体膜上に膜の形成が可能であって、フォトリソグラフィー等において有機半導体の精緻なパターンを得る際に、エッチング溶剤に耐性があり、有機半導体素子の製造方法に有用である。