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diphenyl(o-tolyl)sulfonium trifluoromethanesulfonate

中文名称
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中文别名
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英文名称
diphenyl(o-tolyl)sulfonium trifluoromethanesulfonate
英文别名
diphenyl(o-tolyl)sulfonium triflate;2-methyl-phenyldiphenylsulfonium trifluoromethanesulfonate;diphenyl(2-methylphenyl)sulfonium triflate;diphenyl-o-methylphenylsulfonium triflate;Diphenyl-o-methylphenylsulfonium trifluoromethanesulfonate;(2-methylphenyl)-diphenylsulfanium;trifluoromethanesulfonate
diphenyl(o-tolyl)sulfonium trifluoromethanesulfonate化学式
CAS
——
化学式
CF3O3S*C19H17S
mdl
——
分子量
426.48
InChiKey
YUOYSIYTTOGEEY-UHFFFAOYSA-M
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
  • 计算性质
  • ADMET
  • 安全信息
  • SDS
  • 制备方法与用途
  • 上下游信息
  • 反应信息
  • 文献信息
  • 表征谱图
  • 同类化合物
  • 相关功能分类
  • 相关结构分类

计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    5.14
  • 重原子数:
    28
  • 可旋转键数:
    3
  • 环数:
    3.0
  • sp3杂化的碳原子比例:
    0.1
  • 拓扑面积:
    66.6
  • 氢给体数:
    0
  • 氢受体数:
    6

反应信息

  • 作为反应物:
    描述:
    diphenyl(o-tolyl)sulfonium trifluoromethanesulfonate对甲苯磺酸一水合物四甲基氯化铵 二氯甲烷 作用下, 以 甲醇 为溶剂, 反应 1.0h, 以to give 17.2 g (Yield: 91%) of diphenyl-o-methylphenylsulfonium p-toluenesulfonate as white crystal的产率得到2-methyl-phenyldiphenylsulfonium p-toluenesulfonate
    参考文献:
    名称:
    Sulfonium salt compounds
    摘要:
    一种三苯基磺鎓盐化合物,其一般式为[1]或[3]。(其中R1和R2各自独立地为氢原子或较低的烷基,但至少有一个为较低的烷基,R3各自独立地为烷基,n为0至3的整数,i为1至3的整数,j为0至2的整数,但i+j=3,Y-为由磺酸一般式[2]R4—SO3H所导出的负离子[2](其中R4为烷基或苯基,其上可能有一个烷基取代物)。其中X为苯基,其在邻位和/或间位上有取代基,m为1至3的整数,q为0至2的整数,但m+q=3,p为1或2,Zp-为由羧酸导出的负离子。
    公开号:
    US06723483B1
  • 作为产物:
    描述:
    二苯基亚砜三氟甲磺酸酐 作用下, 以 二氯甲烷甲苯 为溶剂, 以96%的产率得到diphenyl(o-tolyl)sulfonium trifluoromethanesulfonate
    参考文献:
    名称:
    Sulfonium salt and its manufacturing method
    摘要:
    这项发明涉及一种亚砜盐,包括其制备方法,该亚砜盐在聚合过程中有效地用作光酸引发剂或自由基光引发剂,以及光酸发生剂,保护有机化合物的保护基,特别是作为半导体材料中所使用的化学增感光阻的有用光酸发生剂。由于这项发明的亚砜盐是通过在全氟烷磺酸酐存在下,亚砜化合物和芳香化合物之间的一步反应制备而成的,具有以下优点:通过克服以往使用Grinard试剂进行两步制备亚砜盐的一些缺点,这项发明可以提供一种新颖的亚砜盐,其产率更高,这是以往无法实现的,并且可以制备任何传统的亚砜盐,产率更高。
    公开号:
    US06111143A1
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文献信息

  • Mild synthesis of triarylsulfonium salts with arynes
    作者:Lei Zhang、Xiaojin Li、Yan Sun、Weizhao Zhao、Fan Luo、Xin Huang、Lihui Lin、Ying Yang、Bo Peng
    DOI:10.1039/c7ob01596h
    日期:——
    Reactions between arynes and alkyl sulfides have been extensively studied over the past few decades. These reactions commonly end with a dealkylation process and thus deliver thioethers as final products. In contrast, the transformation described furnishes valuable triarylsulfonium salts, in lieu of thioethers, from arynes and diarylsulfides. The reaction features mild conditions and a broad substrate
    在过去的几十年中,对芳烃和烷基硫化物之间的反应进行了广泛的研究。这些反应通常以脱烷基过程结束,因此递送硫醚作为最终产物。相反,所描述的转化从芳烃和二芳基硫化物提供有价值的三芳基s盐代替硫醚。该反应具有温和的条件和广泛的底物范围。容许一系列官能团,例如酮,酯,腈,芳基醚和芳基卤化物,这是传统合成方法可能面临的问题。本文还展示了该反应的实用性及其对三苯基硒鎓盐合成的扩展。
  • Para-selective borylation of monosubstituted benzenes using a transient mediator
    作者:Jie Wu、Zengwei Wang、Xiao-Yue Chen、Yichen Wu、Daoming Wang、Qian Peng、Peng Wang
    DOI:10.1007/s11426-019-9652-x
    日期:2020.3
    versatile sulfonium salt via highly electrophilic phenoxathiine or thianthrene dication intermediate which can be readily generated from its sulfoxide with tri-fluoromethanesulfonic anhydride. Preliminary mechanistic study implied that the remarkable para selectivity might be related to the incredible electrophilicity of thianthrene dication intermediate. The versatility of this approach was demonstrated
    在本文中,我们概念化了一种瞬时介体方法,该方法具有单取代芳族化合物的对位选择性CH功能化的能力。这种方法是通过使原位生成一个多功能锍盐的通过高度亲电phenoxathiine或噻蒽双阳离子中间体,该中间体可从其与三fluoromethanesulfonic酐亚砜很容易地生成。初步的机理研究表明,对位选择性的显着性可能与噻吩类四氢呋喃中间体的不可思议的亲电子性有关。该方法的多功能性已通过para展示-mono化各种单取代的简单芳族化合物,并结合salt盐的形成和进一步的光催化转化。
  • Acid generating agent for chemically amplified resist compositions
    申请人:Jung Sung-Do
    公开号:US20090291390A1
    公开(公告)日:2009-11-26
    An acid generating agent represented by the following formula (1) or (2) is provided, which is included in chemically amplified resist compositions: wherein in the formula (1) and (2), X represents an unsubstituted or substituted alkyl group having 1 to 20 carbon atoms and selected from alkyl, haloalkyl and alkylsulfonyl, which may have at least one hydrogen atom substituted by an ether group, an ester group, a carbonyl group, an acetal group, a nitrile group, a cyano group, a hydroxyl group, a carboxyl group or an aldehyde group, or represents a perfluoroalkyl group having 1 to 4 carbon atoms; R 6 represents an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms, or a heteroatom selected from nitrogen, sulfur, fluorine and oxygen; m is an integer from 0 to 2; and A+ is an organic counterion.
    提供了以下公式(1)或(2)所代表的酸生成剂,该酸生成剂包含在化学增感抗蚀剂组成物中:在公式(1)和(2)中,X代表具有1至20个碳原子的未取代或取代的烷基基团,并且选择自烷基、卤代烷基和烷基磺酰基,该基团可能至少有一个氢原子被醚基团、酯基团、羰基团、缩醛基团、腈基团、氰基团、羟基团、羧基团或醛基团取代,或代表具有1至4个碳原子的全氟烷基基团;R6代表具有1至10个碳原子的烷基基团、具有1至10个碳原子的烷氧基团,或选择自氮、硫、氟和氧的杂原子;m为0至2的整数;A+为有机对离子。
  • PHOTOACID GENERATOR, METHOD FOR PRODUCING THE SAME, AND RESIST COMPOSITION COMPRISING THE SAME
    申请人:OH Jung Hoon
    公开号:US20120203024A1
    公开(公告)日:2012-08-09
    A photoacid generator represented by the following formula (1), a method for producing the photoacid generator, and a resist composition containing the photoacid generator are provided. wherein in the formula (1), Y 1 , Y 2 , X, R 1 , R 2 , n 1 , n 2 and A + have the same meanings as defined in the detailed description of the invention. The photoacid generator can maintain an appropriate contact angle at the time of ArF liquid immersion lithography, can reduce defects occurring during liquid immersion lithography, and has excellent solubility in resist solvents and excellent compatibility with resins. Furthermore, the photoacid generator can be produced by an efficient and simple method using an epoxy compound that is industrially easily available.
    提供以下公式(1)所代表的光酸发生剂、生产光酸发生剂的方法以及含有光酸发生剂的抗蚀组合物。在公式(1)中,Y1、Y2、X、R1、R2、n1、n2和A+的含义与发明详细说明中定义的含义相同。该光酸发生剂可以在ArF液体浸没光刻时保持适当的接触角,可以减少液体浸没光刻过程中发生的缺陷,并且在抗蚀溶剂中具有优异的溶解性和与树脂的优异兼容性。此外,该光酸发生剂可以通过使用工业上易获得的环氧化合物进行高效简单的生产方法制备。
  • Photoacid generator containing aromatic ring
    申请人:Oh Jung-Hoon
    公开号:US20100113818A1
    公开(公告)日:2010-05-06
    An acid generator represented by the following formula (1) is provided: wherein X represents an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms, —X 1 —O—X 2 —, or a heteroatom selected from the group consisting of nitrogen, sulfur and fluorine; X 1 and X 2 each independently represent an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms; Y represents a cyclic hydrocarbon group having 5 to 30 carbon atoms and containing one or more aromatic rings, while one or more hydrogen atoms on the ring of the cyclic hydrocarbon group may be substituted by one or more members selected from the group consisting of —O—Y 1 , —CO—Y 2 , an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, a perfluoroalkyl group having 1 to 4 carbon atoms, a perfluoroalkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, a hydroxyalkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a halogen atom, a hydroxyl group and a cyano group; Y 1 and Y 2 each independently represent an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms; n represents an integer of 0 or 5; and A + represents an organic counterion.
    提供以下公式(1)所表示的酸发生剂:其中,X代表具有1至10个碳原子的烷基基团,-X1-O-X2-或从氮、硫和氟组成的杂原子中选择的一个;X1和X2各自独立地表示具有1至10个碳原子的烷基基团;Y表示含有5至30个碳原子并含有一个或多个芳香环的环状烃基团,环状烃基团的环上一个或多个氢原子可以被选择自-O-Y1、-CO-Y2、具有1至6个碳原子的烷基基团、具有1至6个碳原子的烷氧基团、具有1至4个碳原子的全氟烷基团、具有1至4个碳原子的全氟烷氧基团、具有1至6个碳原子的羟基烷基团、卤素原子、羟基团和氰基的一个或多个成员取代;Y1和Y2各自独立地表示具有1至6个碳原子的烷基基团;n表示0或5的整数;A+表示有机对离子。
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