2-(2-(2-methoxyethoxy)ethoxy)-1,3-dimethylbenzene

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯酚醚
• 英文名称: 2-(2-(2-methoxyethoxy)ethoxy)-1,3-dimethylbenzene
• 英文别名: 2-(2-(2-Methoxyethoxy)ethoxy)-1,3-dimethylbenzene；2-[2-(2-methoxyethoxy)ethoxy]-1,3-dimethylbenzene
• 化学式: C₁₃H₂₀O₃
• 分子量: 224.3
• InChiKey: HVQYCNNKJPWNFZ-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  2.3
• 重原子数：
  16
• 可旋转键数：
  7
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.54
• 拓扑面积：
  27.7
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  3

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  二苯并噻吩5-氧化物 、 2-(2-(2-methoxyethoxy)ethoxy)-1,3-dimethylbenzene 在 Eaton's reagent 、 sodium iodide 作用下， 以 二氯甲烷 、 水 为溶剂， 以57%的产率得到5-(4-(2-(2-methoxyethoxy)ethoxy)-3,5-dimethylphenyl)-dibenzothiophen-5-ium iodide
  参考文献：
  名称：

  Photoresist composition and associated method of forming an electronic device

  摘要：

  一种光阻剂组合物包括第一聚合物，其中至少一半的重复单元是光酸生成重复单元，并且第二聚合物在酸作用下在碱性显影剂中表现出溶解度变化。在第一聚合物中，每个光酸生成重复单元包括光酸生成功能和增强碱溶性功能。

  公开号：

  US09551930B2
• 作为产物：
  描述：

  二乙二醇单甲醚 在 sodium hydride 、 sodium hydroxide 作用下， 以 水 、 N,N-二甲基甲酰胺 、 mineral oil 为溶剂， 反应 4.08h， 生成 2-(2-(2-methoxyethoxy)ethoxy)-1,3-dimethylbenzene
  参考文献：
  名称：

  Polymer comprising repeat units with photoacid-generating functionality and base-solubility-enhancing functionality, and associated photoresist composition and electronic device forming method

  摘要：

  一种聚合物包括重复单元，其中至少一半是光酸生成重复单元。每个光酸生成重复单元包括光酸生成功能和增强碱溶性功能。该聚合物可用作光刻胶组合物的组分，该组合物进一步包括第二种聚合物，在酸的作用下在碱性显影剂中溶解性发生变化。

  公开号：

  US09527936B2

文献信息

• POLYMER COMPRISING REPEAT UNITS WITH PHOTOACID-GENERATING FUNCTIONALITY AND BASE-SOLUBILITY-ENHANCING FUNCTIONALITY, AND ASSOCIATED PHOTORESIST COMPOSITION AND ELECTRONIC DEVICE FORMING METHOD
  申请人：Rohm and Haas Electronic Materials LLC

  公开号：US20160102158A1

  公开（公告）日：2016-04-14

  A polymer includes repeat units, most of which are photoacid-generating repeat units. Each of the photoacid-generating repeat units includes photoacid-generating functionality and base-solubility-enhancing functionality. Each of the photoacid-generating repeat units comprises an anion and a photoacid-generating cation that collectively have structure (I) wherein q, r, R 1 , m, X, and Z − are defined herein. The polymer is useful as a component of a photoresist composition that further includes a second polymer that exhibits a change in solubility in an alkali developer under action of acid.

  一种聚合物包括重复单元，其中大部分是光酸生成重复单元。每个光酸生成重复单元包括光酸生成功能和增强碱溶性功能。每个光酸生成重复单元包括阴离子和光酸生成阳离子，共同具有结构（I），其中q、r、R1、m、X和Z-在此定义。该聚合物可用作光刻胶组分的一部分，该光刻胶组分还包括第二种聚合物，在酸的作用下在碱性显影剂中表现出溶解度的变化。
• PHOTORESIST COMPOSITION AND ASSOCIATED METHOD OF FORMING AN ELECTRONIC DEVICE
  申请人：Rohm and Haas Electronic Materials LLC

  公开号：US20160103391A1

  公开（公告）日：2016-04-14

  A photoresist composition includes a first polymer in which at least half of the repeat units are photoacid-generating repeat units, and a second polymer that exhibits a change in solubility in an alkali developer under the action of acid. In the first polymer, each of the photoacid-generating repeat units comprises photoacid-generating functionality and base-solubility-enhancing functionality.

  一种光阻组合物包括第一聚合物，其中至少一半的重复单元是光酸生成重复单元，并且第二聚合物在酸的作用下在碱性显影剂中表现出溶解度的变化。在第一聚合物中，每个光酸生成重复单元包括光酸生成性能和碱性溶解度增强性能。
• US9527936B2
  申请人：——

  公开号：US9527936B2

  公开（公告）日：2016-12-27
• US9551930B2
  申请人：——

  公开号：US9551930B2

  公开（公告）日：2017-01-24
• US9557642B2
  申请人：——

  公开号：US9557642B2

  公开（公告）日：2017-01-31