四正丁基水杨酸铵 | 22307-72-8

• 物质功能分类: 化学试剂 - 有机试剂 - 胺盐（铵盐）
• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 中文名称: 四正丁基水杨酸铵
• 英文名称: tetrabutylammonium 2-hydroxybenzoate
• 英文别名: tetrabutylammonium salicylate；2-carboxyphenolate;tetrabutylazanium
• CAS: 22307-72-8
• 化学式: C₇H₅O₃*C₁₆H₃₆N
• 分子量: 379.583
• InChiKey: ZWRWGKGPUFESNE-UHFFFAOYSA-M

物化性质

• 熔点：
  92 °C
• 稳定性/保质期：

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  5.46
• 重原子数：
  27
• 可旋转键数：
  13
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.7
• 拓扑面积：
  60.4
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  3

制备方法与用途

概述

四正丁基水杨酸铵可用作医药合成中的中间体。如不慎吸入4-溴喹啉-6-羧酸，请立即将患者移至空气新鲜处；若皮肤接触，应脱去污染衣物，并用肥皂和清水彻底清洗受污染的皮肤；如有不适感，请就医；眼睛接触时，需分开眼睑，用流动清水或生理盐水冲洗，并立即寻求医疗帮助；如误食，则应立即漱口，禁止催吐，并尽快就医。

制备

四正丁基水杨酸铵的制备步骤如下：将3.20克水杨酸钠和5.56克四正丁基氯化铵加入反应烧瓶中，随后加入30毫升离子交换水和30毫升二氯甲烷并搅拌1小时。接着静置，以用水洗两次的方法洗涤离子交换有机层。之后，在减压条件下除去二氯甲烷，并浓缩至干燥状态，即可得到四正丁基水杨酸铵。

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  2,7,12,17,22-Penta-tert-butyl-4,9,14,19,24-pentacyano-pentabenzo[ab,fg,kl,pq,uv]-[25]annulene 、 四正丁基水杨酸铵 以 氯仿 为溶剂， 生成
  参考文献：
  名称：

  Cyanostar：阴离子选择性传感器的C–H氢键中性载体支架

  摘要：

  Cyanostar是具有正电性腔的五角形大环化合物，可通过CH基氢键结合阴离子。大尺寸的cyanostar的腔与它的平面有利于形成的2沿着：1个的夹心复合具有较大的阴离子，如高氯酸，CLO 4 - ，相对于较小的氯化物。我们还表明，cyanostar对ClO 4具有选择性–通过使用NMR滴定研究来测量亲和力，分析了庞大的水杨酸酯阴离子。评估了该新型大环化合物在膜离子传感器中作为阴离子离子载体的性能。基于氰基星的电极表现出对高氯酸盐的能斯特响应，其选择性模式与正常的Hofmeister系列明显不同。探索了不同的膜组成，以鉴定离子载体，增塑剂和亲脂性添加剂的最佳浓度，从而产生最佳的高氯酸盐选择性。发现改变亲脂性添加剂三十二烷基甲基氯化铵的浓度会影响电极的选择性模式和分析动态范围。氰基星形传感器的高选择性及其检测限可以确定ClO4 –受污染的环境样品中。这类新型的大环化合物为通过改变中心腔的大小

  DOI：

  10.1021/acs.analchem.7b04008
• 作为产物：
  描述：

  水杨酸乙酯 、 四丁基氢氧化铵 在 水 、 甲苯 、 乙酸丁酯 作用下， 以 水 为溶剂， 25.0~80.0 ℃ 、133.32 kPa 条件下， 反应 1.0h， 生成 四正丁基水杨酸铵
  参考文献：
  名称：

  Low-viscosity allophanates containing actinically curable groups

  摘要：

  一种制备含有异氰酸酯基团的粘合剂的方法，其中该异氰酸酯基团的氧原子通过两个单键连接，与有活性基团的有机基团结合，能够在暴露于光辐射下参与与乙烯基不饱和化合物的聚合反应。该方法包括反应A)一种或多种含有脲二酮基团的化合物与B)一种或多种含有能够在暴露于光辐射下参与与乙烯基不饱和化合物的聚合反应的官能团的OH官能化合物，以及C)可选的进一步NCO反应性化合物，和D)在含有苯氧基团的一种或多种化合物的存在下，作为催化剂。这些粘合剂可用于制备涂层、涂料、涂料组合物、粘合剂、印刷油墨、铸造树脂、牙科化合物、尺寸、光刻胶、立体光刻系统、复合材料树脂和密封剂。

  公开号：

  US20080214691A1

文献信息

• SALT AND PROCESS FOR PRODUCING ACID GENERATOR
  申请人：YOSHIDA Isao

  公开号：US20110201823A1

  公开（公告）日：2011-08-18

  A salt represented by the formula (I0): wherein Q 1 and Q 2 each independently represent a fluorine atom or a C1-C6 perfluoroalkyl group, L 1 represents a divalent C1-C17 hydrocarbon group in which one or more —CH 2 — can be replaced by —O— or —CO—, m represents 1 or 2, and Z m+ represents m-valent organic or inorganic cation.

  根据您提供的化学公式(I0)，其翻译成中文为： 其中Q1和Q2各自独立代表一个氟原子或一个C1-C6全氟烷基团，L1代表一个二价的C1-C17碳氢化合物基团，在该基团中，一个或多个—CH2—可以被—O—或—CO—所替换，m代表1或2，而Zm+代表m价有机或无机阳离子。
• SALT, RESIN, RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR PRODUCING RESIST PATTERN
  申请人：SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED

  公开号：US20160052877A1

  公开（公告）日：2016-02-25

  A salt represented by the formula (I); wherein Q 1 and Q 2 each independently represent a fluorine atom or a C 1 to C 6 perfluoroalkyl group, L b1 represents a single bond or a divalent C 1 to C 24 saturated hydrocarbon groupwhere a methylene group may be replaced by an oxygen atom or a carbonyl group and where a hydrogen atom may be replaced by a hydroxyl group or a fluorine atom, and Y represents a hydrogen atom, a fluorine atom, or an optionally substituted C 3 to C 18 alicyclic hydrocarbon groupwhere a methylene group may be replaced by an oxygen atom, a carbonyl group or a sulfonyl group; and Ar represents a divalent C 6 to C 20 aromatic hydrocarbon group, and Z + represents an organic sulfonium cation or an organic iodonium cation.

  根据您的要求，以下是化合物的中文翻译： 由公式(I)表示的盐； 其中Q1和Q2各自独立代表一个氟原子或一个C1至C6的过氟代烷基团，Lb1代表一个单键或一个二价的C1至C24的饱和烃基团，其中甲基烯基团可以被一个氧原子或一个羰基团所取代，并且其中氢原子可以被一个羟基或一个氟原子所取代，并且Y代表一个氢原子，一个氟原子，或一个可选地被取代的C3至C18的芳环烃基团，其中甲基烯基团可以被一个氧原子，一个羰基团或一个磺酰基团所取代；并且Ar代表一个二价的C6至C20的芳香烃基团，以及Z+代表一个有机硫正离子或一个有机碘正离子。
• SALT, ACID GENERATOR, RESIN, RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR PRODUCING RESIST PATTERN
  申请人：SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED

  公开号：US20160334702A1

  公开（公告）日：2016-11-17

  A salt represented by formula (I): wherein Q 1 and Q 2 independently represent a fluorine atom or a C 1 to C 6 perfluoroalkyl group, R 1 and R 2 in each occurrence independently represent a hydrogen atom, a fluorine atom or a C 1 to C 6 perfluoroalkyl group, z represents an integer of 0 to 6, X 1 represents *—CO—O—, *—O—CO— or —O—, * represents a binding position to C(R 1 )(R 2 ) or C(Q 1 )(Q 2 ), A 1 represents a C 4 to C 24 hydrocarbon group having a C 4 to C 18 divalent alicyclic hydrocarbon moiety, A 2 represents a C 2 to C 12 divalent hydrocarbon group, R 3 and R 4 independently represent a hydrogen atom or a C 1 to C 6 monovalent saturated hydrocarbon group, R 5 represents a hydrogen atom, a fluorine atom, or a C 1 to C 6 alkyl group where a hydrogen atom may be replaced by a fluorine atom, and Z + represents an organic cation.

  公式(I)表示的盐，其中Q1和Q2独立地代表一个氟原子或一个C1至C6的过氟烷基团，R1和R2每次出现独立地代表一个氢原子、一个氟原子或一个C1至C6的过氟烷基团，z代表0到6的整数，X1代表*—CO—O—，*—O—CO—或—O—，*代表与C(R1)(R2)或C(Q1)(Q2)的连接位置，A1代表具有C4至C18二价脂环烃基团的C4至C24的烃基团，A2代表C2至C12的二价烃基团，R3和R4独立地代表一个氢原子或一个C1至C6的一价饱和烃基团，R5代表一个氢原子、一个氟原子或一个C1至C6的烷基团，其中氢原子可以被氟原子替换，而Z+代表一个有机阳离子。
• SALT, ACID GENERATOR, PHOTORESIST COMPOSITION, AND METHOD FOR PRODUCING PHOTORESIST PATTERN
  申请人：SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED

  公开号：US20160200702A1

  公开（公告）日：2016-07-14

  A salt represented by the formula (I): wherein R 1 represents a C1 to C12 alkyl group in which a methylene group can be replaced by an oxygen atom or a carbonyl group; Q 1 and Q 2 each independently represent a fluorine atom or a C1 to C6 perfluoroalkyl group; A 1 represents a lactone ring-containing group which has 4 to 24 carbon atoms; R 2 represents an acid-labile group; and “m” represents an integer of 0 to 3.

  由公式(I)表示的盐： 其中 R1 代表一个C1至C12的烷基，其中一个亚甲基基团可以被一个氧原子或一个羰基团所取代； Q1 和 Q2 各自独立地代表一个氟原子或一个C1至C6的全氟烷基团； A1 代表一个含有内酯环的基团，该基团有4到24个碳原子； R2 代表一个酸不稳定的基团；并且 “m”代表一个0到3之间的整数。
• COMPOUND, RESIN, RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR PRODUCING RESIST PATTERN
  申请人：SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED

  公开号：US20160130210A1

  公开（公告）日：2016-05-12

  A compound represented by formula (I), a resin including a structural unit derived from the compound and a resist composition including the resin: wherein R 1 represents a hydrogen atom, a halogen atom or a C 1 to C 6 alkyl group in which a hydrogen atom may be replaced by a halogen atom, R 2 represents a C 1 to C 6 perfluoroalkyl group or *—CHR f1 R f2 , * represents a binding site to a carbonyl group, R f1 and R f2 each independently represent a C 1 to C 4 perfluoroalkyl group or R f1 and R f2 may be bonded together with a carbon atom bonded thereto to form a ring, A 1 represents a single bond, a C 1 to C 6 alkanediyl group or **-A 3 -X 1 -(A 4 -X 2 ) a -(A 5 ) b -, ** represents a binding site to an oxygen atom, A 2 , A 3 , A 4 and A 5 each independently represent a C 1 to C 6 alkanediyl group, X 1 and X 2 each independently represent —O—, —CO—O— or —O—CO—, a and b each represent 0 or 1, and W 1 represents a C 5 to C 18 divalent alicyclic hydrocarbon group.

  化合物的化学式为（I），包括从该化合物衍生的结构单元的树脂和包括该树脂的抗蚀组合物： 其中R 1 代表氢原子、卤素原子或C 1 到C 6 烷基基团，其中氢原子可以被卤素原子取代，R 2 代表C 1 到C 6 全氟烷基基团或*—CHR f1 R f2 ，*代表与羰基结合位点，R f1 和R f2 各自独立代表C 1 到C 4 全氟烷基基团或R f1 和R f2 可以与结合在一起的碳原子形成环，A 1 代表单键，C 1 到C 6 烷二基基团或**-A 3 -X 1 -(A 4 -X 2 ) a -(A 5 ) b -，**代表与氧原子结合位点，A 2 、A 3 、A 4 和A 5 各自独立代表C 1 到C 6 烷二基基团，X 1 和X 2 各自独立代表—O—、—CO—O—或—O—CO—，a和b各自代表0或1，W 1 代表C 5 到C 18 的二价脂环烃基团。