(2,5-二羟基苯基)-(2,6-二羟基苯基)甲酮 | 88331-62-8

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 中文名称: (2,5-二羟基苯基)-(2,6-二羟基苯基)甲酮
• 英文名称: 2,2',5,6'-tetrahydroxybenzophenone
• 英文别名: 2,5,2',6'-tetrahydroxy-benzophenone；2,5,2',6'-Tetrahydroxy-benzophenon；(2,5-dihydroxyphenyl)(2,6-dihydroxyphenyl)-methanone；(2,5-Dihydroxyphenyl)(2,6-dihydroxyphenyl)methanone；(2,5-dihydroxyphenyl)-(2,6-dihydroxyphenyl)methanone
• CAS: 88331-62-8
• 化学式: C₁₃H₁₀O₅
• 分子量: 246.219
• InChiKey: YYZAKQYFXDJLTA-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  440.2±45.0 °C(Predicted)
• 密度：
  1.526±0.06 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  2.4
• 重原子数：
  18
• 可旋转键数：
  2
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.0
• 拓扑面积：
  98
• 氢给体数：
  4
• 氢受体数：
  5

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  (2,5-二羟基苯基)-(2,6-二羟基苯基)甲酮 、 羟胺 生成 alkaline earth salt of/the/ methylsulfuric acid
  参考文献：
  名称：

  Herzig, Monatshefte fur Chemie, 1892, vol. 13, p. 417

  摘要：

  DOI：
• 作为产物：
  描述：

  2,4-二羟基苯甲酸 在 乙酸酐 、 potassium carbonate 作用下， 生成 (2,5-二羟基苯基)-(2,6-二羟基苯基)甲酮
  参考文献：
  名称：

  Graebe, Justus Liebigs Annalen der Chemie, 1889, vol. 254, p. 296 Anm.

  摘要：

  DOI：

文献信息

• Neue, strahlungsempfindliche Verbindungen, hiermit hergestelltes strahlungsempfindliches Gemisch und Aufzeichnungsmaterial
  申请人：HOECHST AKTIENGESELLSCHAFT

  公开号：EP0369219A1

  公开（公告）日：1990-05-23

  Die Erfindung betrifft neue strahlungsempfindliche Verbindungen, die Ester oder Amide einer 1,2-Naphthochinon-(2)-diazid-4-sulfonsäure der allgemeinen Formel darstellen, worin R1 und R2 gleich oder verschieden sind und Wasserstoff, eine Alkyl-, Alkylether- oder Alkylthioethergruppe, deren Kohlenstoffketten durch Ethersauerstoffatome unterbrochen sein können, eine Acylamino-, Carbonsäureester-, Sulfonsäureester- oder Sulfonamidgruppe bedeuten, wobei R1 und R2 nicht gleichzeitig Wasserstoff sind. Die Verbindungen werden als strahlungsempfindliche Komponente in strahlungsempfindlichen Gemischen verwendet, mit denen entsprechende Aufzeichnungsmaterialien hergestellt werden können. Die Verbindungen haben eine nach längeren Wellenlängen gerichtete Absorption in Anpassung an den Emissionsbereich handelsüblicher Strahlungsquellen. Sie gestatten auch in sicherer und praktischer Weise die Durchführung von negativ arbeitenden Bildumkehrprozessen.

  本发明涉及新型辐射敏感化合物，它们是通式为 1,2-萘醌-(2)-二叠氮-4-磺酸的酯或酰胺。 其中 R1和R2相同或不同，并且是氢、烷基、烷基醚或烷基硫醚基团（其碳链可被醚氧原子打断）、酰氨基、羧酸酯、磺酸酯或磺酰胺基团，其中 R1 和 R2 不同时为氢。 这些化合物可用作辐射敏感混合物中的辐射敏感成分，用它们可以生产出相应的记录材料。这些化合物的吸收波长较长，与市售辐射源的发射范围相适应。它们还能以安全实用的方式实现负像反转过程。
• A process of making naphthoquinone diazide esters using lactone solvents
  申请人：HOECHST CELANESE CORPORATION

  公开号：EP0488686A1

  公开（公告）日：1992-06-03

  A method of preparing a photosensitizer condensate comprising: condensing a phenolic compound with a diazo sulfonyl chloride, wherein from about 50 to 100 mole percent of the diazo moiety is 2,1,4-diazo and from 0 to about 50 mole percent of the diazo moiety is 2,1,5 diazo; the phenolic compound having, on average, from about 60 mole percent to about 100 mole percent of its hydroxy groups esterified by the diazo sulfonyl chloride; wherein the condensing is conducted in a lactone solvent in the presence of an acid scavenger; and then subsequently isolating the photosensitizer condensate.

  一种制备光敏剂缩合物的方法，包括将酚类化合物与重氮磺酰氯缩合，其中重氮基中约 50 至 100 摩尔%为 2,1,4-重氮，重氮基中 0 至约 50 摩尔%为 2,1,5-重氮；酚类化合物平均约 60 摩尔%至约 100 摩尔%的羟基被重氮磺酰氯酯化；其中，缩合在内酯溶剂中在酸清除剂存在下进行；然后分离光敏剂缩合物。
• Strahlungsempfindlicher Ester und Verfahren zu dessen Herstellung
  申请人：HOECHST AKTIENGESELLSCHAFT

  公开号：EP0508269A1

  公开（公告）日：1992-10-14

  Die Erfindung betrifft einen strahlungsempfindlichen Ester aus einer Verbindung mit 2 bis 6 aromatischen Hydroxygruppen, einer kernsubstituierten o-Naphthochinon-2-diazid-4-sulfonsäure (Diazoverbindung D₁) und einer nicht weiter substituierten o-Naphthochinon-2-diazid-4- bzw. -5-sulfonsäure (Diazoverbindung D₂) und/oder einer nicht strahlungsempfindlichen organischen Säure (Verbindung D₀), wobei das molare Verhältnis von D₁:(D₂ und/oder D₀) zwischen 0,1:1 und 39:1 liegt.

  本发明涉及一种具有 2 至 6 个芳香族羟基、核取代的邻萘醌-2-叠氮-4-磺酸 （重氮化合物 D₁）和未取代的邻萘醌-2-叠氮-4-或-5-磺酸（重氮化 合物 D₂ ）和/或非辐射敏感性有机酸（化合物 D₀）的辐射敏感性酯。-5-磺酸（重氮化合物 D₂）和/或非辐射敏感性有机酸（化合物 D₀），其中 D₁:(D₂ 和/或 D₀)的摩尔比介于 0.1:1 和 39:1 之间。
• METHOD FOR TREATING SURFACE OF SUBSTRATE AND SURFACE TREATMENT COMPOSITION THEREFOR
  申请人：MITSUBISHI CHEMICAL CORPORATION

  公开号：EP0789071A1

  公开（公告）日：1997-08-13

  A method for treating the surface of a substrate with a surface treatment composition, wherein the surface treatment composition comprises a liquid medium containing a complexing agent as a metal deposition preventive, the complexing agent comprising at least one member selected from the following Group A complexing agents and at least one member selected from the group consisting of the following Groups B1 to B6 complexing agents: Group A:complexing agents having an aromatic hydrocarbon ring in the molecular structure thereof and at least one of an OH group and/or an O- group bonded directly to a carbon atom constituting the ring; Group B1:complexing agents having at least one nitrogen atom as a donor atom in the molecular structure thereof; Group B2:complexing agents having at least one atom selected from halogen, sulfur and carbon atoms as a donor atom in the molecular structure thereof; Group B3:complexing agents having at least one oxygen atom as a donor atom in the molecular structure thereof, but not having a carbonyl group and a carboxyl group and not having any one of nitrogen, halogen, sulfur and carbon atoms as a donor atom; Group B4:carboxylic acid type complexing agents having at least one carboxyl group in the molecular structure thereof, but not having any one of nitrogen, halogen, sulfur and carbon atoms as a donor atom and not having a carbonyl group and a hydroxyl group; Group B5:hydroxymono- or di-carboxylic acid type complexing agents having at most 4 hydroxyl groups in the molecular structure thereof, but not having any one of nitrogen, halogen, sulfur and carbon atoms as a donor atom and not having a carbonyl group; and Group B6:complexing agents having at least one carbonyl group in the molecular structure thereof.

  一种用表面处理组合物处理基材表面的方法，其中表面处理组合物包括含有络合剂作为金属沉积防止剂的液体介质，络合剂包括至少一种选自以下A组络合剂的成员和至少一种选自以下B1至B6组络合剂组成的组的成员： A 组：络合剂，其分子结构中具有一个芳香烃环，且至少有一个 OH 基团和/或 O- 基团直接与构成该环的碳原子键合； B1组：络合剂，其分子结构中至少有一个氮原子作为供体原子； B2组：络合剂，其分子结构中至少有一个原子作为供体原子，该原子选自卤素、硫和碳原子； B3组:络合剂，其分子结构中至少有一个氧原子作为供体原子，但没有羰基和羧基，也没有氮、卤素、硫和碳原子中的任何一个原子作为供体原子； B4组：羧酸类络合剂，其分子结构中至少有一个羧基，但没有氮、卤素、硫和碳原子中的任何一个原子作为供体原子，也没有羰基和羟基； B5 组：分子结构中最多有 4 个羟基，但不以氮、卤素、硫和碳原子中的任一个作 为供体原子，且不含羰基的羟基单羧酸或二羧酸类络合剂；以及 B6 组：分子结构中至少有一个羰基的络合剂。
• HOT MELT ADHESIVE COMPOSITION
  申请人：JSR Corporation

  公开号：EP1700896A1

  公开（公告）日：2006-09-13

  [Problem] To provide an adhesive composition which is used for fixing a semiconductor wafer or the like onto a substrate, exhibits firm adhesion with high heat resistance in the wafer grinding stage and is melted by heating to enable easy peeling after the completion of the wafer grinding stage. [Means to solve problem] The hot-melt adhesive composition of the invention is a composition containing as a main component a crystalline compound having a melting temperature of 50 to 300°C, and has a melting temperature width of not more than 30°C and a melt viscosity of not more than 0.1 Pa·s. The crystalline compound as a main component is desired to be an organic compound composed of elements of C, H and O only and having a molecular weight of not more than 1000, preferably an aliphatic compound or an alicyclic compound, particularly preferably a compound having a steroid skeleton and/or a hydroxyl group.

  [问题] 提供一种粘合剂组合物，该组合物用于将半导体晶片或类似物固定在基板上， 在晶片研磨阶段表现出牢固的粘合性和高耐热性，并且在晶片研磨阶段结束后通过加 热熔化以便于剥离。[解决问题的方法] 本发明的热熔粘合剂组合物是一种组合物，其主要成分是熔化温度为 50 至 300°C、熔化温度宽度不超过 30°C、熔化粘度不超过 0.1 Pa-s的结晶化合物。作为主要成分的结晶化合物最好是仅由 C、H 和 O 元素组成且分子量不超过 1000 的有机化合物，最好是脂肪族化合物或脂环族化合物，尤其是具有甾体骨架和/或羟基的化合物。