(2S)-2-[双(2-羟乙基)氨基]-3-羟基丙酸 | 51169-24-5

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机酸及其衍生物 - 羧酸及其衍生物
• 中文名称: (2S)-2-[双(2-羟乙基)氨基]-3-羟基丙酸
• 英文名称: L-N,N-bis(2-hydroxyethyl)serine
• 英文别名: N,N-Bis(2-hydroxyethyl)-L-serine；(2S)-2-[bis(2-hydroxyethyl)amino]-3-hydroxypropanoic acid
• CAS: 51169-24-5
• 化学式: C₇H₁₅NO₅
• 分子量: 193.2
• InChiKey: KDTAKBMHGZCEDT-LURJTMIESA-N

物化性质

• 沸点：
  469.5±45.0 °C(Predicted)
• 密度：
  1.391±0.06 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  -4.4
• 重原子数：
  13
• 可旋转键数：
  7
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.86
• 拓扑面积：
  101
• 氢给体数：
  4
• 氢受体数：
  6

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  甲基三乙氧基硅烷 、 (2S)-2-[双(2-羟乙基)氨基]-3-羟基丙酸 在 吡啶 作用下， 反应 8.0h， 以82%的产率得到(4S)-(-)-1-methylsilatrane-4-carboxylic acid
  参考文献：
  名称：

  （4 S）-硅氮烷-4-羧酸的合成与表征 （3 R，4 S）-1-乙烯基-3-甲基硅氮烷-4-羧酸的分子结构

  摘要：

  通过将有机基三乙氧基硅烷与L - N，N-双（2-羟乙基）丝氨酸或L - N进行酯交换反应，合成了一类新型的硅烷基化合物（4 S）-（-）-硅烷基羧酸I-IV，在催化量的吡啶存在下的N-双（2-羟乙基）苏氨酸。化合物通过红外光谱，1 H，13 C和29表征Si NMR光谱和质谱以及元素分析。结果表明存在跨环Si←N导数键。红外光谱表明在这些化合物中存在两种互变异构体，酸形式和盐形式，其中酸形式占主导。通过X射线衍射测定（3 R，4 S）-（-）-1-乙烯基-3-甲基硅氮烷-4-羧酸的晶体结构。Si←N键距为2.169（3）Å。

  DOI：

  10.1016/0022-328x(93)80041-9

文献信息

• ETCHANT COMPOSITION, METHOD OF ETCHING INSULATING FILM, METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE, AND SILANE COMPOUND
  申请人：SK Innovation Co., Ltd.

  公开号：US20190359887A1

  公开（公告）日：2019-11-28

  An etchant composition includes a silane compound represented by the following Chemical Formula 1: wherein R 1 to R 6 are independently hydrogen, halogen, a substituted or unsubstituted C 1 -C 20 hydrocarbyl group, a phenyl group, a C 1 -C 20 alkoxy group, a carboxy group, a carbonyl group, a nitro group, a tri (C 1 -C 20 ) alkylsilyl group, a phosphoryl group, or a cyano group, L is a direct bond or C 1 -C 3 hydrocarbylene, A is an n-valent radical, and n is an integer of 1 to 4.

  一种蚀刻组合物包括以下化学式1所代表的硅烷化合物：其中R1至R6独立地表示氢、卤素、取代或未取代的C1-C20烃基、苯基、C1-C20烷氧基、羧基、羰基、硝基、三(C1-C20)烷基硅基、磷酰基或氰基，L是直接键或C1-C3烃基亚基，A是n价基团，n为1至4的整数。
• Etchant composition, method of etching insulating film, method of manufacturing semiconductor device, and silane compound
  申请人：SK Innovation Co., Ltd.

  公开号：US10836962B2

  公开（公告）日：2020-11-17

  An etchant composition includes a silane compound represented by the following Chemical Formula 1: wherein R1 to R6 are independently hydrogen, halogen, a substituted or unsubstituted C1-C20 hydrocarbyl group, a phenyl group, a C1-C20 alkoxy group, a carboxy group, a carbonyl group, a nitro group, a tri (C1-C20)alkylsilyl group, a phosphoryl group, or a cyano group, L is a direct bond or C1-C3 hydrocarbylene, A is an n-valent radical, and n is an integer of 1 to 4.

  蚀刻剂组合物包括由以下化学式 1 表示的硅烷化合物： 其中 R1 至 R6 独立地为氢、卤素、取代或未取代的 C1-C20 碳氢基、苯基、C1-C20 烷氧基、羧基、羰基、硝基、三（C1-C20）烷基硅基、磷酰基或氰基，L 为直接键或 C1-C3 碳氢基，A 为正价基，n 为 1 至 4 的整数。
• Silane compound
  申请人：SK Innovation Co., Ltd.

  公开号：US11365350B2

  公开（公告）日：2022-06-21

  An etchant composition includes a silane compound represented by the following Chemical Formula 1: wherein R1 to R6 are independently hydrogen, halogen, a substituted or unsubstituted C1-C20 hydrocarbyl group, a phenyl group, a C1-C20 alkoxy group, a carboxy group, a carbonyl group, a nitro group, a tri (C1-C20) alkylsilyl group, a phosphoryl group, or a cyano group, L is a direct bond or C1-C3 hydrocarbylene, A is an n-valent radical, and n is an integer of 1 to 4.

  蚀刻剂组合物包括由以下化学式 1 表示的硅烷化合物： 其中 R1 至 R6 独立地为氢、卤素、取代或未取代的 C1-C20 碳氢基、苯基、C1-C20 烷氧基、羧基、羰基、硝基、三（C1-C20）烷基硅基、磷酰基或氰基，L 为直接键或 C1-C3 碳氢基，A 为正价基，n 为 1 至 4 的整数。
• Lu, Zheng-Rong; Zhuo, Ren-Xi; Shen, Liao-Rong, Journal of Organometallic Chemistry, 1995, vol. 489, # 1-2, p. C38 - C43
  作者：Lu, Zheng-Rong、Zhuo, Ren-Xi、Shen, Liao-Rong、Zhang, Xiao-Dong、Shen, Lian-Fang

  DOI：——

  日期：——
• SILANE COMPOUND
  申请人：SK Innovation Co., Ltd.

  公开号：US20200377794A1

  公开（公告）日：2020-12-03

  An etchant composition includes a silane compound represented by the following Chemical Formula 1: wherein R 1 to R 6 are independently hydrogen, halogen, a substituted or unsubstituted C 1 -C 20 hydrocarbyl group, a phenyl group, a C 1 -C 20 alkoxy group, a carboxy group, a carbonyl group, a nitro group, a tri(C 1 -C 20 ) alkylsilyl group, a phosphoryl group, or a cyano group, L is a direct bond or C 1 -C 3 hydrocarbylene, A is an n-valent radical, and n is an integer of 1 to 4.