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(3,5-二溴-2,4-二羟基苯基)(苯基)甲酮 | 3286-96-2

中文名称
(3,5-二溴-2,4-二羟基苯基)(苯基)甲酮
中文别名
——
英文名称
3,5-Dibrom-2,4-dihydroxy-benzophenon
英文别名
2,4-dihydroxy-3,5-dibromo-benzophenone;3,5-dibromo-2,4-dihydroxy-benzophenone;(3,5-Dibromo-2,4-dihydroxyphenyl)-phenylmethanone
(3,5-二溴-2,4-二羟基苯基)(苯基)甲酮化学式
CAS
3286-96-2
化学式
C13H8Br2O3
mdl
——
分子量
372.013
InChiKey
ZGEVJWAATSHAKG-UHFFFAOYSA-N
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
  • 计算性质
  • ADMET
  • 安全信息
  • SDS
  • 制备方法与用途
  • 上下游信息
  • 反应信息
  • 文献信息
  • 表征谱图
  • 同类化合物
  • 相关功能分类
  • 相关结构分类

物化性质

  • 熔点:
    151–152°C
  • 沸点:
    397.0±42.0 °C(Predicted)
  • 密度:
    1.890±0.06 g/cm3(Predicted)

计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    4.5
  • 重原子数:
    18
  • 可旋转键数:
    2
  • 环数:
    2.0
  • sp3杂化的碳原子比例:
    0.0
  • 拓扑面积:
    57.5
  • 氢给体数:
    2
  • 氢受体数:
    3

安全信息

  • 海关编码:
    2914700090

上下游信息

  • 上游原料
    中文名称 英文名称 CAS号 化学式 分子量

反应信息

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文献信息

  • Single Pot Process For The Preparation Of Diazonaphthoquinonesulfonyl Ester
    申请人:Reddy Venkat Vummadi
    公开号:US20070049742A1
    公开(公告)日:2007-03-01
    The present invention provides a single pot process for the preparation of diazonaphthoquinonesulfonyl ester, a useful organic material for micro electronic and dye industry. This study pertains to the one pot preparation of diazonaphthoquinonesulfonyl esters using the corresponding diazonaphthoquinine sulfonic acid or its sodium salt, diphosgene or triphosgene, variety of hydroxy compounds and tertiary organic base in an organic solvent medium.
    本发明提供了一种单锅法制备二氮基萘醌磺酰酯的方法,这是微电子和染料工业中有用的有机材料。本研究涉及使用相应的二氮基萘醌磺酸或其钠盐、二膦酰氯或三膦酰氯、各种羟基化合物和三级有机碱在有机溶剂介质中进行单锅制备二氮基萘醌磺酰酯的方法。
  • Lichtempfindliches Gemisch, daraus hergestelltes lichtempfindliches Kopiermaterial und Verfahren zur Herstellung einer Druckform aus dem Kopiermaterial
    申请人:HOECHST AKTIENGESELLSCHAFT
    公开号:EP0050802A2
    公开(公告)日:1982-05-05
    Es wird ein lichtempfindliches Gemisch beschrieben, das ein wasserunlösliches, in wäßrig-alkalischen Lösungen lösliches Bindemittel, ein lichtempfindliches o- oder p-Chinondiazid oder ein Gemisch aus a) einer bei Belichtung Säure abspaltenden Verbindung und b) einer Verbindung mit mindestens einer durch Säure spaltbaren C-O-C-Gruppe und eine Verbindung mit 1 bis 3 Benzolkernen, die durch Einfachbindungen, Carbonyl-, Ether-, Thioether- oder gegebenenfalls substituierte Methylengruppen miteinander verbunden sind, mit mindestens einer phenolischen Hydroxygruppe und mindestens zwei Substituenten der Formel -CH20R enthält, worin R ein Wasserstoffatom, eine niedere Alkyl- oder Acylgruppe ist. Das Gemisch dient zur Herstellung von lichtempfindlichem Kopiermaterial, vorzugsweise für die Herstellung von Flachdruckformen. Der Zusatz der phenolischen Verbindung bewirkt, daß die entwickelte Druckform zur Erhöhung der Auflage bei tieferen Temperaturen als bisher eingebrannt werden kann.
    所述光敏混合物包括一种可溶于碱性水溶液的水不溶性粘合剂、一种光敏 o- 或 p- 醌重氮化物或它们的混合物。 a) 在光照下会释放酸的化合物和 b) 具有至少一个可被酸水解的 C-O-C 基团的化合物 和一种含有 1 至 3 个苯核的化合物,这些苯核之间通过单键、羰基、醚、硫醚或任选取代的亚甲基相连,并含有至少一个酚羟基和至少两个式-CH20R 的取代基,其中 R 为氢原子、低级烷基或酰基。该混合物用于生产感光复印材料,最好用于生产平版印刷板。添加酚类化合物的效果是,可以在比以前更低的温度下烘烤已显影的印版,以提高印量。
  • Lichtempfindliches Gemisch, das einen Naphthochinondiazidsulfonsäureester enthält, und Verfahren zur Herstellung des Naphthochinondiazidsulfonsäureesters
    申请人:HOECHST AKTIENGESELLSCHAFT
    公开号:EP0055814A2
    公开(公告)日:1982-07-14
    Es wird ein lichtempfindliches Gemisch beschrieben, das ein wasserunlösliches, in wäßrig-alkalischen Lösungen lösliches Bindemittel und das Umsetzungsprodukt eines Naphthochinondiazidsulfonylhalogenids mit einem Gemisch aus einer niedermolekularen Verbindung definierter Struktur und Molekülgröße, die mindestens eine phenolische Hydroxygruppe aufweist, und einer polymeren Verbindung mit wiederkehrenden Einheiten enthält, die jeweils mindestens eine phenolische Hydroxygruppe enthalten. Das Gemisch wird zur Herstellung von Druckplatten und Photoresists verwendet und hat den Vorteil, daß der darin enthaltene Naphthochinondiazidsulfonsäureester nicht explosionsgefährlich ist.
    描述了一种感光混合物,它包括一种可溶于碱性水溶液的水不溶性粘合剂和一种萘醌噻嗪磺酰卤与一种具有确定结构和分子大小的低分子量化合物的混合物的反应产物,该化合物具有至少一个酚羟基和一种具有重复单元的聚合物化合物,每个重复单元至少含有一个酚羟基。 该混合物用于制造印版和光刻胶,其优点是其中所含的萘醌噻嗪磺酸酯不具有爆炸性。
  • Verfahren zur Herstellung eines o-Naphtochinondiazidsulfonsäureesters
    申请人:HOECHST AKTIENGESELLSCHAFT
    公开号:EP0258727A1
    公开(公告)日:1988-03-09
    Die Erfindung betrifft die Herstellung eines o-Naphtho­chinondiazidsulfonsäureesters durch Veresterung eines o-­Naphthochinondiazidsulfonsäurehalogenids, mit einer ein-oder mehrwertigen phenolischen Verbindung in einem Lö­sungsmittel in Gegenwart einer basischen Komponente, Aus­fällen des Esters und Trocknen, wobei die Veresterung in Gegenwart von Ammoniak, Ammoniumsalzen schwacher Säuren oder von aliphatischen Abkömmlingen des Ammoniaks mit 1 bis 3 Kohlenstoffatomen bei einem pH-Wert im Bereich zwischen etwa 1,5 und etwa 8,5 und bei einer Temperatur im Bereich zwischen etwa 15 und etwa 40 °C durchgeführt wird. Die erhaltenen Ester der o-Naphthochinondiazidsulfonsäure enthalten nur noch geringe Mengen an Metallionen und sind für lichtempfindliche Gemische einsetzbar, die hohen Anfor­derungen der Mikroelektronik genügen.
    本发明涉及邻萘醌噻嗪磺酸酯的制备方法,即在有碱性成分存在的情况下,在溶剂中将邻萘醌噻嗪磺酸卤化物与一元或多元酚化合物酯化,沉淀酯并干燥、酯化在氨、弱酸铵盐或具有 1 至 3 个碳原子的氨的脂肪族衍生物存在下进行,pH 值在约 1.5 至约 8.5 之间,温度在约 15 至约 40℃之间。由此得到的邻萘醌重氮磺酸酯只含有少量金属离子,可用于光敏混合物,满足微电子的高要求。
  • A process of making naphthoquinone diazide esters using lactone solvents
    申请人:HOECHST CELANESE CORPORATION
    公开号:EP0488686A1
    公开(公告)日:1992-06-03
    A method of preparing a photosensitizer condensate comprising: condensing a phenolic compound with a diazo sulfonyl chloride, wherein from about 50 to 100 mole percent of the diazo moiety is 2,1,4-diazo and from 0 to about 50 mole percent of the diazo moiety is 2,1,5 diazo; the phenolic compound having, on average, from about 60 mole percent to about 100 mole percent of its hydroxy groups esterified by the diazo sulfonyl chloride; wherein the condensing is conducted in a lactone solvent in the presence of an acid scavenger; and then subsequently isolating the photosensitizer condensate.
    一种制备光敏剂缩合物的方法,包括将酚类化合物与重氮磺酰氯缩合,其中重氮基中约 50 至 100 摩尔%为 2,1,4-重氮,重氮基中 0 至约 50 摩尔%为 2,1,5-重氮;酚类化合物平均约 60 摩尔%至约 100 摩尔%的羟基被重氮磺酰氯酯化;其中,缩合在内酯溶剂中在酸清除剂存在下进行;然后分离光敏剂缩合物。
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