(4-氟苯基)二苯基三氟甲磺酸盐 | 154093-57-9

• 物质功能分类: 材料化学 - 配体
• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 中文名称: (4-氟苯基)二苯基三氟甲磺酸盐
• 中文别名: (4-氟苯基)二苯基锍三氟甲磺酸
• 英文名称: (4-fluorophenyl)diphenylsulfonium trifluoromethanesulfonate
• 英文别名: (4-Fluorophenyl)diphenylsulfonium triflate；(4-fluorophenyl)-diphenylsulfanium;trifluoromethanesulfonate
• CAS: 154093-57-9
• 化学式: CF₃O₃S*C₁₈H₁₄FS
• 分子量: 430.444
• InChiKey: SGYQZOQILXLBIB-UHFFFAOYSA-M

物化性质

• 熔点：
  117-120 °C (lit.)
• 稳定性/保质期：
  常温常压下稳定，避免与酸和强氧化剂接触。

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  4.97
• 重原子数：
  28
• 可旋转键数：
  3
• 环数：
  3.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.05
• 拓扑面积：
  66.6
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  7

安全信息

• 危险品标志：
  Xi,C
• 安全说明：
  S26
• 危险类别码：
  R36/37/38
• WGK Germany：
  3

制备方法与用途

(4-氟苯基)二苯基锍三氟甲磺酸可作为有机合成中间体及医药中间体使用，主要应用于实验室研发和医药化工生产过程。

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  (4-氟苯基)二苯基三氟甲磺酸盐 在 sodium tungstate (VI) dihydrate 、 四丁基溴化铵 、 双氧水 、 sodium hydroxide 作用下， 以 甲醇 、 二氯甲烷 、 水 为溶剂， 反应 11.0h， 生成 C₂₄H₂₅O₂S₂⁽¹⁺⁾*C₉H₁₁F₄O₅S^(1-)
  参考文献：
  名称：

  Radiation-sensitive resin composition, monomer, polymer, and production method of radiation-sensitive resin composition

  摘要：

  一种辐射敏感树脂组合物包括溶剂和聚合物。该聚合物包括由公式（I）表示的重复单元，由公式（II）表示的重复单元，或两者都包括的重复单元。R1至R3中的每一个独立表示羟基或类似物。至少有一个R1表示具有两个或更多杂原子的基团。l是1到5之间的整数。m和n中的每一个独立地是0到5之间的整数。R7和R11中的每一个独立表示氢原子或类似物。R8到R10中的每一个独立表示氢原子或类似物。A表示—O—或类似物。D表示取代或未取代的亚甲基基团或类似物。

  公开号：

  US08632945B2
• 作为产物：
  描述：

  4-氟二苯硫醚 、 2-(三甲基硅)苯基三氟甲烷磺酸盐 在 cesium fluoride 作用下， 以 乙腈 为溶剂， 反应 36.0h， 以75%的产率得到(4-氟苯基)二苯基三氟甲磺酸盐
  参考文献：
  名称：

  芳烃与三芳基ulf盐的轻度合成

  摘要：

  在过去的几十年中，对芳烃和烷基硫化物之间的反应进行了广泛的研究。这些反应通常以脱烷基过程结束，因此递送硫醚作为最终产物。相反，所描述的转化从芳烃和二芳基硫化物提供有价值的三芳基s盐代替硫醚。该反应具有温和的条件和广泛的底物范围。容许一系列官能团，例如酮，酯，腈，芳基醚和芳基卤化物，这是传统合成方法可能面临的问题。本文还展示了该反应的实用性及其对三苯基硒鎓盐合成的扩展。

  DOI：

  10.1039/c7ob01596h

文献信息

• Onium salt compound and radiation-sensitive resin composition
  申请人：JSR Corporation

  公开号：US07217492B2

  公开（公告）日：2007-05-15

  An onium salt compound having a cation moiety of the following formula (1) is disclosed. wherein A represents I or S, m is 1 or 2, n is 0 or 1, x is 1–10, and Ar1 and Ar2 are (substituted) aromatic hydrocarbon group, and P represents —O—SO2R, —O—S(O)R, or —SO2R, wherein R represents a hydrogen atom, a (substituted) alkyl group, or a (substituted) alicyclic hydrocarbon group. The onium salt compound is suitable as a photoacid generator for photoresists of a positive-tone radiation-sensitive resin composition. The positive-tone radiation-sensitive resin composition containing this compound is useful as a chemically-amplified photoresist exhibiting high resolution at high sensitivity, responsive to various radiations, and having outstanding storage stability.

  揭示了具有以下式（1）的阳离子部分的醇盐化合物，其中A代表I或S，m为1或2，n为0或1，x为1-10，Ar1和Ar2为（取代的）芳香烃基团，P代表—O—SO2R，—O—S（O）R或—SO2R，其中R代表氢原子，（取代的）烷基团或（取代的）脂环烃基团。该醇盐化合物适用作为正电子辐射敏感树脂组合物的光酸发生剂。含有该化合物的正电子辐射敏感树脂组合物可用作化学增强型光刻胶，具有高分辨率、高灵敏度，对各种辐射具有响应性，并具有出色的储存稳定性。
• 一种由二芳基硫醚芳基化制备三芳基硫鎓盐 的方法
  申请人：浙江师范大学

  公开号：CN109134332B

  公开（公告）日：2020-09-01

  本发明公开了一种由二芳基硫醚芳基化制备三芳基硫鎓盐的方法，具体为：在含氟促进剂存在下，二芳基硫醚与芳炔前体在溶剂中进行反应，合成三芳基硫鎓盐。该方法所用原料价廉易得，避免了传统方法中碱性过强，反应条件要求严格，反应底物受到限制的缺点。该方法反应条件温和、底物适用范围广、选择性好、收率高、产物易分离、操作简单。
• Acid generating agent for chemically amplified resist compositions
  申请人：Oh Jung-Hoon

  公开号：US20090234155A1

  公开（公告）日：2009-09-17

  An acid generating agent used for chemically amplified resist compositions is provided, which agent is represented by the following formula (1): wherein X represents a monocyclic or polycyclic hydrocarbon group having 3 to 30 carbon atoms, and having at least one hydrogen atom on the ring substituted by an alkyl or alkoxy group which and may be unsubstituted or substituted with a group selected from an ether group, an ester group, a carbonyl group, an acetal group, an epoxy group, a nitrile group and an aldehyde group, or by a perfluoroalkyl group, a hydroxyalkyl group, or a cyano group; R 6 is an alkyl group, an alkoxy group, or a heteroatom selected from the group consisting of N, S and F; m is an integer from 0 to 2; and A+ is an organic counterion.

  提供用于化学增强抗蚀配方的酸发生剂，该剂由以下式（1）表示：其中X代表具有3至30个碳原子的单环或多环碳氢基团，并且环上至少有一个氢原子被烷基或烷氧基取代，该基团可以未取代或者取代为从醚基团、酯基团、羰基团、缩醛基团、环氧基团、腈基团和醛基团中选择的基团，或者被全氟烷基团、羟基烷基团或氰基团取代；R6是烷基团、烷氧基团或从N、S和F组成的杂原子中选择的杂原子；m是从0到2的整数；A+是有机对离子。
• [EN] LATENT ACIDS AND THEIR USE<br/>[FR] ACIDES LATENTS ET LEUR UTILISATION
  申请人：BASF SE

  公开号：WO2011104127A1

  公开（公告）日：2011-09-01

  The invention pertains to a compound generating an acid of the formula (I) or (II), for instance corresponding sulfonium and iodonium salts, as well as corresponding sulfonyloximes, Formula (I) and Formula (II), wherein X is CH2 or CO; Y is O, NR4, S, O(CO), O(CO)O, O(CO)NR4, OSO2, O(CS), or O(CS)NR4; R1 is for example C1-C18alkyl, C1-C10haloalkyl, C2-C12alkenyl, C4-C30cycloalkenyl, phenyl-C1-C3-alkyl, C3-C30cycloalkyl, C3-C30cycloalkyl-C1-C18alkyl, interrupted C2-C18alkyl, interrupted C3-C30cycloalkyl, interrupted C3-C30cycloalkyl-C1-C18alkyl, interrupted C4-C30cycloalkenyl, phenyl, naphthyl, anthracyl, phenanthryl, biphenylyl, fluorenyl or heteroaryl, all unsubstituted or are substituted; or R1 is NR12R13; R2 and R3 are for example C3-C30cycloalkylene, C3-C30cycloalkyl-C1-C18alkylene, C1-C18alkylene, C1-C10haloalkylene, C2-C12alkenylene, C4-C30cycloalkenylene, phenylene, naphthylene, anthracylene, phenanthrylene, biphenylene or heteroarylene; all unsubstituted or substituted; R4 is for example C3-C30cycloalkyl, C3-C30cycloalkyl-C1-C18alkyl, C1-C18alkyl, C1-C10haloalkyl, C2-C12alkenyl, C4-C30cycloalkenyl, phenyl-C1-C3-alkyl; R12 and R13 are for example C3-C30cycloalkyl, C3-C30cycloalkyl-C1-C18alkyl, C1-C18alkyl, C1-C10haloalkyl, C2-C12alkenyl, C4-C30cycloalkenyl, phenyl-C1-C3-alkyl, Ar, (CO)R15, (CO)OR15 or SO2R15; and Ar is phenyl, biphenylyl, fluorenyl, naphthyl, anthracyl, phenanthryl or heteroaryl, all unsubstituted or substituted.

  该发明涉及一种生成式(I)或(II)的酸的化合物，例如相应的砜和碘砜盐，以及相应的砜酮肟，式(I)和式(II)，其中X为CH2或CO；Y为O、NR4、S、O(CO)、O(CO)O、O(CO)NR4、OSO2、O(CS)或O(CS)NR4；R1例如为C1-C18烷基、C1-C10卤代烷基、C2-C12烯基、C4-C30环烯烃基、苯基-C1-C3-烷基、C3-C30环烷基、C3-C30环烷基-C1-C18烷基、中断的C2-C18烷基、中断的C3-C30环烷基、中断的C3-C30环烷基-C1-C18烷基、中断的C4-C30环烯烃基、苯基、萘基、蒽基、菲基、联苯基、芴基或杂环烯基，全部为未取代或取代；或R1为NR12R13；R2和R3例如为C3-C30环烷基、C3-C30环烷基-C1-C18烷基、C1-C18烷基、C1-C10卤代烷基、C2-C12烯基、C4-C30环烯烃基、苯基、萘基、蒽基、菲基、联苯基或杂环烯基；全部为未取代或取代；R4例如为C3-C30环烷基、C3-C30环烷基-C1-C18烷基、C1-C18烷基、C1-C10卤代烷基、C2-C12烯基、C4-C30环烯烃基、苯基-C1-C3-烷基；R12和R13例如为C3-C30环烷基、C3-C30环烷基-C1-C18烷基、C1-C18烷基、C1-C10卤代烷基、C2-C12烯基、C4-C30环烯烃基、苯基-C1-C3-烷基、Ar、(CO)R15、(CO)OR15或SO2R15；Ar为苯基、联苯基、芴基、萘基、蒽基、菲基或杂环烯基，全部为未取代或取代。
• Compositions and Methods Incorporating Photocatalysts
  申请人：Baker Ellen Schmidt

  公开号：US20090285768A1

  公开（公告）日：2009-11-19

  The various embodiments provide a composition including an active material having functional groups capable of covalent attachment to a substrate in the presence of an acid or a base, a photocatalyst capable of generating an acid or a base upon exposure to light, and a vehicle. The compositions may also include surfactants, emulsifiers, oxidants, and other components. A method for treating a substrate is also disclosed. The method includes the steps of applying at least one active material having functional groups to the substrate, applying a photocatalyst to the substrate, and exposing the photocatalyst and the at least one active material to light for forming covalent attachments between the functional groups and constituent groups on the substrate. The compositions and methods described herein are useful in personal care product and consumer care product applications, for example.

  各种实施例提供了一种组合物，包括具有在酸或碱存在下能够与基底共价结合的功能基团的活性材料，能够在光照下生成酸或碱的光催化剂，以及载体。该组合物还可以包括表面活性剂、乳化剂、氧化剂和其他组分。还公开了一种处理基底的方法。该方法包括将至少一种具有功能基团的活性材料应用于基底，将光催化剂应用于基底，并将光照射到光催化剂和至少一种活性材料，以形成功能基团与基底上的成分基团之间的共价结合。这里描述的组合物和方法在个人护理产品和消费者护理产品应用中是有用的。