(甲基丙烯酰氧乙基)三甲基硅烷 | 95049-21-1

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机酸及其衍生物 - 羧酸及其衍生物
• 中文名称: (甲基丙烯酰氧乙基)三甲基硅烷
• 英文名称: 2-Trimethylsilylethylmethacrylate
• 英文别名: 2-Propenoic acid, 2-methyl-, 2-(trimethylsilyl)ethyl ester；2-trimethylsilylethyl 2-methylprop-2-enoate
• CAS: 95049-21-1
• 化学式: C₉H₁₈O₂Si
• 分子量: 186.326
• InChiKey: BLPKMFJVYUDOQG-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  2.44
• 重原子数：
  12
• 可旋转键数：
  5
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.67
• 拓扑面积：
  26.3
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  2

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  2-(三甲硅基)乙醇 、 甲基丙烯酰氯 在 吡啶 作用下， 以 四氢呋喃 为溶剂， 以76 %的产率得到(甲基丙烯酰氧乙基)三甲基硅烷
  参考文献：
  名称：

  TW2022/22810

  摘要：

  公开号：

文献信息

• High silicon content monomers and polymers suitable for 193 nm bilayer resists
  申请人：International Business Machines Corporation

  公开号：US20020127490A1

  公开（公告）日：2002-09-12

  Polymerizable monomers having silicon containing groups that are transparent at 193 nm; and ethylenically unsaturated group are provided. Polymers from these monomers can be used in processes for forming sub-100 nm images with a chemically amplified, radiation sensitive bilayer resist. The bilayer resist is disposed on a substrate and comprises (i) a top imaging layer comprising a radiation sensitive acid generator and (ii) an organic underlayer. The bilayer resist can be used in the manufacturing of integrated circuits.

  提供了具有硅含基团且在193纳米处透明的可聚合单体；以及乙烯基不饱和基团。这些单体形成的聚合物可用于制备具有化学增感、辐射敏感的双层光阻的亚100纳米图像的工艺中。双层光阻被放置在基底上，包括（i）顶部成像层，包括辐射敏感的酸发生剂和（ii）有机底层。该双层光阻可用于集成电路的制造。