1,2,3,4,5-五氟-6-(2-甲基丙-2-烯基)苯 | 116212-41-0

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 中文名称: 1,2,3,4,5-五氟-6-(2-甲基丙-2-烯基)苯
• 英文名称: 1,2,3,4,5-pentafluoro-6-(2-methylallyl)benzene
• 英文别名: 2-methylallyl 2,3,4,5,6-pentafluorobenzene；1,2,3,4,5-Pentafluoro-6-(2-methylprop-2-en-1-yl)benzene；1,2,3,4,5-pentafluoro-6-(2-methylprop-2-enyl)benzene
• CAS: 116212-41-0
• 化学式: C₁₀H₇F₅
• 分子量: 222.158
• InChiKey: OHUTZKUDJJPITJ-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  170.0±35.0 °C(Predicted)
• 密度：
  1.297±0.06 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  4.1
• 重原子数：
  15
• 可旋转键数：
  2
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.2
• 拓扑面积：
  0
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  5

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  2-methylallyl 2,3,4,5,6-pentafluorobenzoate 在 tris-(dibenzylideneacetone)dipalladium(0) 、 三对苯甲基膦 作用下， 以 1,4-二氧六环 为溶剂， 反应 24.0h， 以87%的产率得到1,2,3,4,5-五氟-6-(2-甲基丙-2-烯基)苯
  参考文献：
  名称：

  Allylarenes的合成通过烯丙基苯甲酸酯催化脱羧

  摘要：

  AbstractA catalyst system consisting of the palladium(0) complex Pd2(dba)3 and tri(p‐tolyl)phosphine was found to efficiently promote the decarboxylation of allyl benzoates with formation of allylarenes. This catalytic CO activation followed by extrusion of carbon dioxide and CC bond formation represents a sustainable alternative to traditional waste‐intensive cross‐couplings. The scope of the transformation includes allyl and cinnamyl esters of various ortho‐substituted benzoic acids. For particularly activated substrates, the palladium catalyst can optionally be replaced by an inexpensive nickel complex.magnified image

  DOI：

  10.1002/adsc.201400624

文献信息

• [Cu(NHC)]-Catalyzed C−H Allylation and Alkenylation of both Electron-Deficient and Electron-Rich (Hetero)arenes with Allyl Halides
  作者：Weilong Xie、Sukbok Chang

  DOI：10.1002/anie.201510180

  日期：2016.1.26

  a [Cu(NHC)] (NHC=N‐heterocyclic carbene) catalyst is disclosed for the efficient C−H allylation of polyfluoroarenes using allyl halides in benzene at room temperature. The same catalyst system also promotes an isomerization‐induced alkenylation of initially the generated allyl arenes when the reaction is run in tetrahydrofuran. Significantly, not only electron‐deficient but also electron‐rich (hetero)arenes

  公开了[Cu（NHC）]（NHC = N-杂环卡宾）催化剂的新反应性，用于在室温下使用烯丙基卤化物在苯中进行多氟芳烃的高效CH烯丙基化。当反应在四氢呋喃中进行时，相同的催化剂体系还促进了最初生成的烯丙基芳烃的异构化诱导的烯基化。值得注意的是，不仅缺电子的芳烃而且富电子的（杂）芳烃都经历了这种双键迁移过程，从而导致了烯基化产物。本系统具有温和的反应条件，相对于芳烃底物和烯丙基卤化物反应物的广泛范围，良好的官能团耐受性和高立体选择性。
• Unusually lower barrier to reductive elimination in an 18-electron .eta.3-allyl(organo)nickel(II) complex than those for the 16-electron .eta.3-allyl counterpart and its 16-electron .eta.1-allyl isomer
  作者：Hideo. Kurosawa、Hiroaki. Ohnishi、Mitsuhiro. Emoto、Yoshikane. Kawasaki、Shinji. Murai

  DOI：10.1021/ja00226a067

  日期：1988.8

  In spite of a versatile role played by reductive elimination of v3-allylmetal complexes in organic transformation^,'-^ little has been known concerning the mechanistic details of this step. We wish to report a novel finding that the coupling of allyl and aryl groups on Ni is much more facile in an v3-allyl form with 18electron configuration than in both a 16-electron v3-allyl counterpart and a 16-electron

  尽管 v3-烯丙基金属配合物在有机转化中的还原消除具有多种作用，但关于该步骤的机械细节知之甚少。我们希望报告一个新发现，即在具有 18 电子构型的 v3-烯丙基形式中，Ni 上的烯丙基和芳基的偶联比 16 电子 v3-烯丙基对应物和 16 电子 vl-烯丙基异构体更容易. 这种趋势，在~3-烯丙基钯化学中没有观察到：似乎与某些独特配体和金属对催化剂反应性和选择性的影响的起源特别相关。].~在改变 Ni 上的电子数时加速还原消除从 16 到 18 在烷基镍化学中占有优先地位，6 但没有一个以定量的方式显示出如此显着的速率提高，如这里所公开的。~3-烯丙基（芳基）镍（II）配合物 1' 在甲苯中的自发还原消除顺利进行，得到高产率（> 85%）的烯丙基苯衍生物（方程式 1）。发现方程 1 中 la 和 lb 的一级速率常数 (k1)8 与添加的过量 PPh3（最多 5 当量）的量无关：如钯类似物的方程
• Photoresist compositions comprising polycyclic polymers with acid labile pendant groups
  申请人：——

  公开号：US20020128408A1

  公开（公告）日：2002-09-12

  The present invention relates to a radiation sensitive photoresist composition comprising a photoacid initiator and a polycyclic polymer comprising repeating units that contain pendant acid labile groups. Upon exposure to an imaging radiation source the photoacid initiator generates an acid which cleaves the pendant acid labile groups effecting a polarity change in the polymer. The polymer is rendered soluble in an aqueous base in the areas exposed to the imaging source.

  本发明涉及一种辐射敏感的光阻组合物，包括光酸引发剂和聚环状聚合物，该聚合物包含含有侧链酸敏感基团的重复单元。在暴露于成像辐射源时，光酸引发剂生成酸，该酸会裂解侧链酸敏感基团，从而影响聚合物的极性变化。在成像源暴露的区域，聚合物变得可溶于水性碱。
• PHOTORESIST COMPOSITIONS COMPRISING POLYCYCLIC POLYMERS WITH ACID LABILE PENDANT GROUPS
  申请人：THE B.F. GOODRICH COMPANY

  公开号：EP1021477A1

  公开（公告）日：2000-07-26
• US6232417B1
  申请人：——

  公开号：US6232417B1

  公开（公告）日：2001-05-15