1,3-二甲基巴比妥 | 714-59-0

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机杂环化合物 - 二嗪类
• 中文名称: 1,3-二甲基巴比妥
• 英文名称: N,N'-dimethylbarbital
• 英文别名: 1,3-Dimethyl-5,5-diethylbarbitursaeure；5,5-Diethyl-1,3-dimethylbarbitursaeure；1,3-Dimethylbarbital；5,5-diethyl-1,3-dimethyl-1,3-diazinane-2,4,6-trione
• CAS: 714-59-0
• 化学式: C₁₀H₁₆N₂O₃
• 分子量: 212.249
• InChiKey: RGLAXEITJXZVAN-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 保留指数：
  1412;1412;1415

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  0.8
• 重原子数：
  15
• 可旋转键数：
  2
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.7
• 拓扑面积：
  57.7
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  3

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  1,3-二甲基巴比妥 在 sodium hydroxide 作用下， 以 乙醇 、 水 为溶剂， 反应 1.0h， 以85%的产率得到N,N'-dimethyl-α,α-diethylmalonamide
  参考文献：
  名称：

  Decarbonylation of tetrasubstituted barbituric acids as a versatile method for preparation of N,N′,2,2-tetrasubstituted malonamides

  摘要：

  A procedure for the preparation of 1,3,5,5-tetrasubstituted-2,3,4(1H,3H, SH)pyrimidinetriones (barbituric acids) through alkylation of the less substituted 2,3,4(1H,3H,5H)pyfimidinetriones (barbituric acids) and decarbonylation of the tetrasubstituted product into the N,Nl,2,2-tetrasubstituted-manlonamides are described. (C) 2000 Elsevier Science Ltd. All rights reserved.

  DOI：

  10.1016/s0040-4039(00)00852-2
• 作为产物：
  描述：

  5,5-diethyl-4-imino-3-methylbarbiturate 在 盐酸 、 sodium ethanolate 作用下， 生成 1,3-二甲基巴比妥
  参考文献：
  名称：

  Conrad; Zart, Justus Liebigs Annalen der Chemie, 1905, vol. 340, p. 339

  摘要：

  DOI：
• 作为试剂：
  描述：

  二甲基苯巴比妥 在 samarium diiodide 、 1,3-二甲基巴比妥 、 水 作用下， 以 四氢呋喃 为溶剂， 生成 C₁₄H₁₈N₂O₃
  参考文献：
  名称：

  使用 SmI2/H2O 选择性还原巴比妥酸：四面体加合物的合成、反应性和结构分析

  摘要：

  留下深刻印象：自 1864 年 Adolf von Baeyer 里程碑式的发现以来，巴比妥酸在有机合成中发挥了重要作用。本文描述了巴比妥酸首次化学选择性单还原为相应的半缩醛胺。该方法通过通用的单电子转移极性反转机制提供单环和双环半缩醛胺产物。

  DOI：

  10.1002/anie.201306484

文献信息

• Umsetzungen von 3-(Dimethylamino)-2,2-dimethyl-2<i>H</i>-azirin mit Barbitursäure-Derivaten
  作者：Marlise Schläpfer-Dähler、Heinz Heimgartner

  DOI：10.1002/hlca.19900730824

  日期：1990.12.12

  Reactions of 3-(Dimethylamino)-2,2-dimethyl-2H-azirines with Barbituric-Acid Derivatives

  3-（二甲氨基）-2,2-二甲基-2 H-叠氮基与巴比妥酸衍生物的反应
• Photochemical reactions of barbituric acids
  作者：Hiromu Aoyama、Hiroaki Hatori

  DOI：10.1016/s0040-4020(01)90513-7

  日期：1990.1

  Photochemical reaction of barbital (1a) and its derivatives gave Norrish type II reaction products. Their photochemical reactivities is discussed in comparison with those of other nitrogen-containing carbonyl compounds.

  巴比妥（1a）及其衍生物的光化学反应产生了Norrish II型反应产物。与其他含氮羰基化合物相比，讨论了它们的光化学反应性。
• COMPOSITION FOR FORMING HIGHLY ADHESIVE RESIST UNDERLAYER FILM
  申请人：NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD

  公开号：US20150031206A1

  公开（公告）日：2015-01-29

  A composition for forming a resist underlayer film for lithography, including a polymer having a repeating structural unit of Formula (1): R 1 is a hydrogen atom or a methyl group and Q 1 is a group of Formula (2) or Formula (3): (wherein R 2 , R 3 , R 5 , and R 6 are independently a hydrogen atom or a linear or branched hydrocarbon group having a carbon atom number of 1 to 4, R 4 is a hydrogen atom or a methyl group, R 7 is a linear or branched hydrocarbon group having a carbon atom number of 1 to 6, a C 1-4 alkoxy group, a C 1-4 alkylthio group, a halogen atom, a cyano group, or a nitro group, w 1 is an integer of 0 to 3, w 2 is an integer of 0 to 2, and x is an integer of 0 to 3), and v 1 and v 2 are independently 0 or 1; and an organic solvent.

  一种用于光刻的阻抗下层膜的组合物，包括具有重复结构单元公式（1）的聚合物：其中R1是氢原子或甲基基团，Q1是公式（2）或公式（3）的基团：（其中R2、R3、R5和R6分别是具有1至4个碳原子的线性或支链烃基或氢原子，R4是氢原子或甲基基团，R7是具有1至6个碳原子的线性或支链烃基、C1-4烷氧基、C1-4烷硫基、卤素原子、氰基或硝基，w1为0至3的整数，w2为0至2的整数，x为0至3的整数），以及有机溶剂。
• RESIST UNDERLAYER FILM-FORMING COMPOSITION
  申请人：NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD.

  公开号：US20150087155A1

  公开（公告）日：2015-03-26

  A composition forms a resist underlayer film showing improved adhesiveness to a resist pattern. A resist underlayer film-forming composition for lithography, including: a polymer that has a structure of Formula (1a), Formula (1b), or Formula (2) below on an end of the polymer; and an organic solvent: (where R 1 is a hydrogen atom or a methyl group; each of R 2 and R 3 is independently a hydrogen atom or an organic group such as a hydrocarbon group, etc., the hydrocarbon group optionally has at least one of a hydroxy group and a methylthio group as substituent(s); R 4 is a hydrogen atom or a hydroxy group; Q 1 is an arylene group; v is 0 or 1; y is an integer of 1 to 4; w is an integer of 1 to 4; x 1 is 0 or 1; and x 2 is an integer of 1 to 5).

  一种组成物形成抗蚀底层膜，显示出对抗蚀图案改进的粘附性。一种用于光刻的抗蚀底层膜形成组合物，包括：具有以下公式（1a）、公式（1b）或公式（2）结构的聚合物，其位于聚合物的一端；以及有机溶剂：（其中R1是氢原子或甲基基团；R2和R3各自独立地是氢原子或有机基团，例如烃基团等，烃基团可选地具有至少一个羟基和一个甲硫基作为取代基；R4是氢原子或羟基；Q1是芳基烃基团；v为0或1；y为1到4的整数；w为1到4的整数；x1为0或1；x2为1到5的整数）。
• [EN] OXAMIDE DERIVATIVES, PREPARATION METHOD THEREFOR AND USE THEREOF IN MEDICINE<br/>[FR] DÉRIVÉS D'OXAMIDE, LEUR PROCÉDÉ DE PRÉPARATION ET LEUR UTILISATION EN MÉDECINE<br/>[ZH] 草酰胺类衍生物、其制备方法及其在医药上的应用
  申请人：SHENZHEN SALUBRIS PHARM CO LTD

  公开号：WO2021110076A1

  公开（公告）日：2021-06-10

  属于化学药物技术领域，涉及草酰胺类衍生物、其制备方法及其在医药上的应用。具体而言，提供式(I)的化合物或其立体异构体、互变异构体、药学上可接受的盐。这些化合物是选择性因子XIa(Factor XIa，简称FXIa)的抑制剂，还涉及包含这些化合物的药物组合物以及使用该化合物治疗血栓栓塞等疾病的药物中的用途。