1,3-双(3-羟基-3-戊基)苯 | 676465-94-4

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 中文名称: 1,3-双(3-羟基-3-戊基)苯
• 中文别名: 1,3-双(1-乙基-1-羟丙基)苯
• 英文名称: 1,3-bis(1-ethyl-1-hydroxypropyl)benzene
• 英文别名: 3,3'-(1,3-phenylene)bis(3-pentanol)；1,3-Bis(3-hydroxy-3-pentyl)benzene；3-[3-(3-hydroxypentan-3-yl)phenyl]pentan-3-ol
• CAS: 676465-94-4
• 化学式: C₁₆H₂₆O₂
• 分子量: 250.381
• InChiKey: DBVBDLSFXMYKIU-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 熔点：
  89.5-90.5 °C(Solv: hexane (110-54-3))
• 沸点：
  358.8±22.0 °C(Predicted)
• 密度：
  0.998±0.06 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  3.4
• 重原子数：
  18
• 可旋转键数：
  6
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.62
• 拓扑面积：
  40.5
• 氢给体数：
  2
• 氢受体数：
  2

安全信息

• 危险性防范说明：
  P264,P280,P302+P352+P332+P313+P362+P364,P305+P351+P338+P337+P313
• 危险性描述：
  H315,H319
• 储存条件：
  室温且干燥环境下使用。

SDS

1,3-双(3-羟基-3-戊基)苯

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模块1. 化学品
产品名称： 1,3-Bis(3-hydroxy-3-peNTyl)benzene

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模块2. 危险性概述
GHS分类
物理性危害未分类

健康危害
皮肤腐蚀/刺激 第2级
严重损伤/刺激眼睛 2A类
环境危害未分类
GHS标签元素
图标或危害标志
信号词警告
危险描述造成皮肤刺激
造成严重眼刺激
防范说明
[预防] 处理后要彻底清洗双手。
穿戴防护手套/护目镜/防护面具。
[急救措施] 眼睛接触：用水小心清洗几分钟。如果方便，易操作，摘除隐形眼镜。继续冲洗。
眼睛接触：求医/就诊
皮肤接触：用大量肥皂和水轻轻洗。
若皮肤刺激：求医/就诊。
脱掉被污染的衣物，清洗后方可重新使用。

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模块3. 成分/组成信息
单一物质/混和物 单一物质
化学名(中文名)： 1,3-双(3-羟基-3-戊基)苯
百分比： >90.0%(GC)
CAS编码： 676465-94-4
1,3-双(3-羟基-3-戊基)苯

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模块3. 成分/组成信息
俗名： 1,3-Bis(3-hydroxy-3-amyl)benzene , 1,3-Bis(1-ethyl-1-hydroxypropyl)benzene
, 3,3'-(m-Phenylene)di-3-peNTanol , α,α,α',α'-Tetraethyl-1,3-
benzenedimethanol
分子式： C16H26O2

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模块4. 急救措施
吸入： 将受害者移到新鲜空气处，保持呼吸通畅，休息。若感不适请求医/就诊。
皮肤接触： 立即去除/脱掉所有被污染的衣物。用大量肥皂和水轻轻洗。
若皮肤刺激或发生皮疹：求医/就诊。
眼睛接触：用水小心清洗几分钟。如果方便，易操作，摘除隐形眼镜。继续清洗。
如果眼睛刺激：求医/就诊。
食入： 若感不适，求医/就诊。漱口。
紧急救助者的防护：救援者需要穿戴个人防护用品，比如橡胶手套和气密性护目镜。

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模块5. 消防措施
合适的灭火剂：干粉，泡沫，雾状水，二氧化碳
特定方法：从上风处灭火，根据周围环境选择合适的灭火方法。
非相关人员应该撤离至安全地方。
周围一旦着火：如果安全，移去可移动容器。
消防员的特殊防护用具：灭火时，一定要穿戴个人防护用品。

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模块6. 泄漏应急处理
个人防护措施，防护用具， 使用个人防护用品。远离溢出物/泄露处并处在上风处。
紧急措施：泄露区应该用安全带等圈起来，控制非相关人员进入。
环保措施：防止进入下水道。
控制和清洗的方法和材料：清扫收集粉尘，封入密闭容器。注意切勿分散。附着物或收集物应该立即根据合适的
法律法规处置。

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模块7. 操作处置与储存
处理
技术措施：在通风良好处进行处理。穿戴合适的防护用具。防止粉尘扩散。处理后彻底清洗双手
和脸。
注意事项：如果粉尘或浮质产生，使用局部排气。
操作处置注意事项：避免接触皮肤、眼睛和衣物。
贮存
储存条件：保持容器密闭。存放于凉爽、阴暗处。
远离不相容的材料比如氧化剂存放。
包装材料：依据法律。

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模块8. 接触控制和个体防护
工程控制：尽可能安装封闭体系或局部排风系统，操作人员切勿直接接触。同时安装淋浴器和洗
眼器。
个人防护用品
呼吸系统防护：防尘面具。依据当地和政府法规。
手部防护：防护手套。
眼睛防护：安全防护镜。如果情况需要，佩戴面具。
皮肤和身体防护：防护服。如果情况需要，穿戴防护靴。
1,3-双(3-羟基-3-戊基)苯

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模块9. 理化特性
固体
外形（20°C）：
外观： 晶体-粉末
颜色： 白色-浅黄色
气味：无资料
pH: 无数据资料
熔点：无资料
沸点/沸程 无资料
闪点：无资料
爆炸特性
爆炸下限：无资料
爆炸上限：无资料
密度：无资料
溶解度：
[水] 无资料
[其他溶剂] 无资料

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模块10. 稳定性和反应性
化学稳定性：一般情况下稳定。
危险反应的可能性：未报道特殊反应性。
须避免接触的物质氧化剂
危险的分解产物: 一氧化碳, 二氧化碳

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模块11. 毒理学信息
急性毒性：无资料
对皮肤腐蚀或刺激：无资料
对眼睛严重损害或刺激：无资料
生殖细胞变异原性：无资料
致癌性：
IARC = 无资料
NTP = 无资料
生殖毒性：无资料

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模块12. 生态学信息
生态毒性：
鱼类：无资料
甲壳类：无资料
藻类：无资料
残留性 / 降解性： 无资料
潜在生物累积 （BCF): 无资料
土壤中移动性
log水分配系数： 无资料
土壤吸收系数 （Koc）： 无资料
亨利定律无资料
conSTaNT(PaM3/mol):

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模块13. 废弃处置
如果可能，回收处理。请咨询当地管理部门。建议在可燃溶剂中溶解混合，在装有后燃和洗涤装置的化学焚烧炉中
焚烧。废弃处置时请遵守国家、地区和当地的所有法规。
1,3-双(3-羟基-3-戊基)苯

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模块14. 运输信息
联合国分类：与联合国分类标准不一致
UN编号： 未列明

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模块15. 法规信息
《危险化学品安全管理条例》（2002年1月26日国务院发布，2011年2月16日修订）: 针对危险化学品的安全使用、
生产、储存、运输、装卸等方面均作了相应的规定。

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模块16 - 其他信息
N/A

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  1,3-双(3-羟基-3-戊基)苯 在 palladium 10% on activated carbon 、 氢气 、 溶剂黄146 作用下， 100.0 ℃ 、2.0 MPa 条件下， 反应 16.0h， 以80.2%的产率得到1,3-双(1-乙基丙基)苯
  参考文献：
  名称：

  3,7-二乙基壬烷-4，6-二酮的一种制备方法

  摘要：

  本发明公开了3,7‑二乙基壬烷‑4，6‑二酮的一种制备方法，属于化学合成领域。本发明“3,7‑二乙基壬烷‑4，6‑二酮的一种制备方法”以低成本的间苯二甲酸二甲酯为原料，通过消去、加成，催化氢化反应，Birch还原和臭氧氧化四步反应制备3,7‑二乙基壬烷‑4,6二酮，所述方法成本低廉、合成工艺短、反应条件温和、操作方便、安全且收率高，适于大规模工业化生产。

  公开号：

  CN108383705B
• 作为产物：
  描述：

  间苯二甲酸二甲酯 、 乙基溴化镁 以 四氢呋喃 为溶剂， 生成 1,3-双(3-羟基-3-戊基)苯
  参考文献：
  名称：

  Synthesis and Structures of a Series of Bulky “Rind-Br” Based on a Rigid Fused-Rings-Hydrindacene Skeleton

  摘要：

  一系列八取代的溴代s-氢茚烯，即“Rind-Br”，通过一系列Lewis酸催化的分子内Friedel–Crafts反应、溴化和反溴化反应合成得到。它们的结构特征和物理性质取决于s-氢茚烯骨架上四个苄位上的八个R取代基。Rind-Br的分子结构已通过X射线晶体学得到确认，显示出庞大的Rind基团所特有的结构多样性。

  DOI：

  10.1246/bcsj.20110090

文献信息

• Photomask and manufacturing method of an electronic device therewith
  申请人：——

  公开号：US20020086222A1

  公开（公告）日：2002-07-04

  In the step of manufacturing a photomask, an opaque pattern is formed by using a photosensitive resin composition containing a specified light absorbent, which then used to manufacture a photomask for KrF excimer laser lithography in a short manufacturing time and at a reduced cost. Accordingly, the manufacturing time and the cost for semiconductor integrated circuit devices is reduced.

  在制造光掩膜的步骤中，通过使用含有特定光吸收剂的光敏树脂组合物形成不透明图案，然后用它来制造用于 KrF 准分子激光光刻的光掩膜，制造时间短，成本低。因此，半导体集成电路设备的制造时间和成本都得以降低。
• Photo mask
  申请人：——

  公开号：US20030129505A1

  公开（公告）日：2003-07-10

  Providing a photo mask for KrF excimer laser lithography, which can be produced with high accuracy and low defects in a smaller number of steps. A photo mask for KrF excimer laser lithography according to the present invention is one in which a resist pattern 18 efficiently absorbing a KrF excimer laser light (wavelength: about 248 nm) is formed directly on a quartz substrate 10. The resist pattern 18 comprises: an aqueous alkali-soluble resin having a high light shielding property, which incorporates a naphthol structure having at least one hydroxyl group bound to a naphthalene nucleus; or a radiation sensitive resist having, as a main component, an aqueous alkali-soluble resin containing a derivative of the above-mentioned aqueous alkali-soluble resin as a resin matrix.

  提供一种用于 KrF 准分子激光光刻的光掩膜，它可以用较少的步骤生产出高精度和低缺陷的光掩膜。根据本发明，用于 KrF 准分子激光光刻的光掩膜是一种抗蚀剂图案 18 在石英基底上直接形成能有效吸收 KrF 准分子激光（波长：约 248 纳米）的光刻胶图案 18。 10. 抗蚀图案 18 包括：具有高光屏蔽性能的水性碱溶性树脂，其中包含一个萘酚结构，该萘酚结构具有至少一个与萘核结合的羟基；或辐射敏感抗蚀剂，其主要成分为水性碱溶性树脂，其中含有上述水性碱溶性树脂的衍生物作为树脂基体。
• Coplanar Oligo(<i>p</i>-phenylenedisilenylene)s Based on the Octaethyl-Substituted <i>s</i>-Hydrindacenyl Groups
  作者：Aiko Fukazawa、Yongming Li、Shigehiro Yamaguchi、Hayato Tsuji、Kohei Tamao

  DOI：10.1021/ja0764207

  日期：2007.11.1

  The silicon analogues of the oligo(p -phenylenevinylene)s (Si-OPVs) with highly planar structures have been synthesized using a newly developed ligand, the 1,1,3,3,5,5,7,7-octaethyl-s -hydrindacen-4-yl (Eind) group. Their X-ray crystal structures and spectroscopic data demonstrate that the pi-conjugation effectively extends over the Si-OPV framework. Notably, tetrasiladistyrylbenzene exhibits an orange fluorescence even at room temperature both in solution and in the solid state, which is attributable to the effective extension of conjugation. To the best of our knowledge, the tetrasiladistyrylbenzene is the first emissive Si=Si derivative even at room temperature.
• US6790564B2
  申请人：——

  公开号：US6790564B2

  公开（公告）日：2004-09-14
• US7005216B2
  申请人：——

  公开号：US7005216B2

  公开（公告）日：2006-02-28