1-溴-3,5-双(1-羟基-1-甲基乙基)苯 | 953080-00-7

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 中文名称: 1-溴-3,5-双(1-羟基-1-甲基乙基)苯
• 英文名称: 1-bromo-3,5-bis(1-hydroxy-1-methylethyl)benzene
• 英文别名: 2-(3-bromo-5-(1-hydroxy-1-methyl-ethyl)-phenyl)-propan-2-ol；2-[3-Bromo-5-(1-hydroxy-1-methyl-ethyl)-phenyl]-propan-2-ol；2-[3-bromo-5-(2-hydroxypropan-2-yl)phenyl]propan-2-ol
• CAS: 953080-00-7
• 化学式: C₁₂H₁₇BrO₂
• 分子量: 273.17
• InChiKey: DNESBUOMUZQRON-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  320.0±32.0 °C(Predicted)
• 密度：
  1.359±0.06 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  2
• 重原子数：
  15
• 可旋转键数：
  2
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.5
• 拓扑面积：
  40.5
• 氢给体数：
  2
• 氢受体数：
  2

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  1-溴-3,5-双(1-羟基-1-甲基乙基)苯 在 盐酸 、 calcium chloride 作用下， 以 二氯甲烷 为溶剂， 反应 2.0h， 生成 1-溴-3,5-双(1-氯-1-甲基乙基)苯
  参考文献：
  名称：

  Synthesis and Structures of a Series of Bulky “Rind-Br” Based on a Rigid Fused-Rings-Hydrindacene Skeleton

  摘要：

  一系列八取代的溴代s-氢茚烯，即“Rind-Br”，通过一系列Lewis酸催化的分子内Friedel–Crafts反应、溴化和反溴化反应合成得到。它们的结构特征和物理性质取决于s-氢茚烯骨架上四个苄位上的八个R取代基。Rind-Br的分子结构已通过X射线晶体学得到确认，显示出庞大的Rind基团所特有的结构多样性。

  DOI：

  10.1246/bcsj.20110090
• 作为产物：
  描述：

  5-溴异肽酸二甲基酯 、 甲基溴化镁 以 四氢呋喃 、 乙醚 为溶剂， 生成 1-溴-3,5-双(1-羟基-1-甲基乙基)苯
  参考文献：
  名称：

  Synthesis and Structures of a Series of Bulky “Rind-Br” Based on a Rigid Fused-Rings-Hydrindacene Skeleton

  摘要：

  一系列八取代的溴代s-氢茚烯，即“Rind-Br”，通过一系列Lewis酸催化的分子内Friedel–Crafts反应、溴化和反溴化反应合成得到。它们的结构特征和物理性质取决于s-氢茚烯骨架上四个苄位上的八个R取代基。Rind-Br的分子结构已通过X射线晶体学得到确认，显示出庞大的Rind基团所特有的结构多样性。

  DOI：

  10.1246/bcsj.20110090

文献信息

• 2,6-SUBSTITUTED-4-MONOSUBSTITUTED AMINO-PYRIMIDINE AS PROSTAGLANDIN D2 RECEPTOR ANTAGONISTS
  申请人：STEFANY David

  公开号：US20090036469A1

  公开（公告）日：2009-02-05

  The present invention is directed to a compound of formula (I), wherein R 1 and R 2 are as defined herein, a pharmaceutical composition comprising a pharmaceutically effective amount of one or more compounds of the invention in admixture with a pharmaceutically acceptable carrier, and a method of treating a patient suffering from a PGD2-mediated disorder by administering to said patient a pharmaceutically effective amount of a compound of the invention.

  本发明涉及一种式（I）的化合物，其中R1和R2如本文所定义，以及一种制药组合物，该组合物包含一种或多种本发明化合物的药效量与药物可接受载体混合，并通过向患有PGD2介导的疾病的患者投与本发明化合物的药效量来治疗患者的方法。
• POLYAMINO-OLIGOMER AND POLYMALEIMIDE COMPOUND
  申请人：SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED

  公开号：EP0577836A1

  公开（公告）日：1994-01-12

  A polyamino-oligomer comprising repeating units having an indan skeleton, prepared by the reaction of a diisopropenylbenzene or a bis(α-hydroxyisopropyl)benzene with an aniline in the presence of an acid catalyst. The oligomer is used as a curing agent for resins to be used for making laminates and, in addition, it is reacted with maleic anhydride to give a polymaleimide compound. This compound has a low melting or softening point and can provide a thermosetting resin composition suitable for manufacturing copper-clad laminates by compounding with a reactant which forms a three-dimensional cross-linkage, such as triallyl isocyanurate or an aromatic diamine. The obtained laminate is lowly dielectric, heat-resistant and lowly water-absorbent, and is useful for making multilayer printed wiring boards.

  一种聚氨基低聚物，由具有茚骨架的重复单元组成，由二异丙苯或双(α-羟基异丙基)苯与苯胺在酸催化剂存在下反应制备而成。这种低聚物可用作制造层压板的树脂的固化剂，此外，它还可与马来酸酐反应生成聚马来酰亚胺化合物。这种化合物具有较低的熔点或软化点，通过与形成三维交联的反应物（如异氰尿酸三烯丙酯或芳香族二胺）进行复配，可以得到一种适用于制造覆铜板的热固性树脂组合物。得到的层压板具有低介电、耐热和低吸水性的特点，可用于制造多层印刷线路板。
• Photomask and manufacturing method of an electronic device therewith
  申请人：——

  公开号：US20020086222A1

  公开（公告）日：2002-07-04

  In the step of manufacturing a photomask, an opaque pattern is formed by using a photosensitive resin composition containing a specified light absorbent, which then used to manufacture a photomask for KrF excimer laser lithography in a short manufacturing time and at a reduced cost. Accordingly, the manufacturing time and the cost for semiconductor integrated circuit devices is reduced.

  在制造光掩膜的步骤中，通过使用含有特定光吸收剂的光敏树脂组合物形成不透明图案，然后用它来制造用于 KrF 准分子激光光刻的光掩膜，制造时间短，成本低。因此，半导体集成电路设备的制造时间和成本都得以降低。
• Photo mask
  申请人：——

  公开号：US20030129505A1

  公开（公告）日：2003-07-10

  Providing a photo mask for KrF excimer laser lithography, which can be produced with high accuracy and low defects in a smaller number of steps. A photo mask for KrF excimer laser lithography according to the present invention is one in which a resist pattern 18 efficiently absorbing a KrF excimer laser light (wavelength: about 248 nm) is formed directly on a quartz substrate 10. The resist pattern 18 comprises: an aqueous alkali-soluble resin having a high light shielding property, which incorporates a naphthol structure having at least one hydroxyl group bound to a naphthalene nucleus; or a radiation sensitive resist having, as a main component, an aqueous alkali-soluble resin containing a derivative of the above-mentioned aqueous alkali-soluble resin as a resin matrix.

  提供一种用于 KrF 准分子激光光刻的光掩膜，它可以用较少的步骤生产出高精度和低缺陷的光掩膜。根据本发明，用于 KrF 准分子激光光刻的光掩膜是一种抗蚀剂图案 18 在石英基底上直接形成能有效吸收 KrF 准分子激光（波长：约 248 纳米）的光刻胶图案 18。 10. 抗蚀图案 18 包括：具有高光屏蔽性能的水性碱溶性树脂，其中包含一个萘酚结构，该萘酚结构具有至少一个与萘核结合的羟基；或辐射敏感抗蚀剂，其主要成分为水性碱溶性树脂，其中含有上述水性碱溶性树脂的衍生物作为树脂基体。
• WO2007/121280
  申请人：——

  公开号：——

  公开（公告）日：——