1-溴-4-(1-乙氧基乙氧基)苯 | 90875-14-2

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯酚醚
• 中文名称: 1-溴-4-(1-乙氧基乙氧基)苯
• 英文名称: 1-(4-bromophenoxy)-1-ethoxyethane
• 英文别名: 1-(1-ethoxy)ethoxy-4-bromobenzene；1-Bromo-4-(1-ethoxyethoxy)benzene
• CAS: 90875-14-2
• 化学式: C₁₀H₁₃BrO₂
• 分子量: 245.116
• InChiKey: LCLUUJLBNFCPNM-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  131°C (rough estimate)
• 密度：
  1.4154 (rough estimate)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  3.3
• 重原子数：
  13
• 可旋转键数：
  4
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.4
• 拓扑面积：
  18.5
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  2

安全信息

• 海关编码：
  2909309090

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  1-溴-4-(1-乙氧基乙氧基)苯 生成 苯酚
  参考文献：
  名称：

  BARON, M.;GRAIN, C.;CHIGNAC, M.;PIGEROL, C.

  摘要：

  DOI：
• 作为产物：
  描述：

  4-溴苯酚 生成 1-溴-4-(1-乙氧基乙氧基)苯
  参考文献：
  名称：

  Optically active compound and photosensitive resin composition

  摘要：

  一种光活性化合物与光敏剂结合使用，由以下公式（1）表示： A −[( J ) m −( X-Pro )] n (1) 其中，A代表至少包括一种从烃基和杂环基中选择的疏水基的疏水单元，J代表连接基团，X-Pro代表由光照可去除的保护基团Pro保护的亲水基团，m代表0或1，n代表不少于1的整数。 保护基团Pro可以与光敏剂（特别是光酸发生剂）一起通过光照可去除，也可以是疏水保护基团。亲水基团可以是羟基或羧基。光活性化合物对短波长光源具有很高的敏感性，用于光刻应用，因此，该光活性化合物有利于形成具有高分辨率的图案。

  公开号：

  US20030211421A1

文献信息

• 3-amin3-arylpropan-1-ol compounds, their preparation and use
  申请人：Gruenenthal GmbH

  公开号：US06410790B1

  公开（公告）日：2002-06-25

  3-amino-3-arylpropan-1-ol compounds of formula I: R1 and R2 independently denoting C1-6 alkyl, or together denoting a (CH2)2-6 ring optionally substituted by phenyl, R3 denoting C3-6 alkyl, C3-6 cycloalkyl, aryl optionally containing heteroatoms and optionally substituted by R6 to R8, or a substituted C1-3 alkylphenyl of formula XII:  R4 and R5 independently denoting C1-6 alkyl, C3-6 cycloalkyl, phenyl, benzyl, or phenethyl, or together forming a (CH2)3-6 or CH2CH2OCH2CH2 ring, R6 to R8 independently denoting H, F, Cl, Br, CHF2, CF3, OH, OCF3, OR14, NR15R16, SR14, phenyl, SO2CH3, SO2CF3, C1-6 alkyl, CN, COOR14, or CONR15R16, or together forming a OCH2O, OCH2CH2O, CH═CHO, CH═C(CH3)O or (CH2)4 ring, R14 denoting C1-6 alkyl, phenyl, benzyl, or phenethyl, R15 and R16 independently denoting H, C1-6 alkyl, phenyl, benzyl or phenethyl, and A denoting optionally substituted aryl optionally containing heteroatoms, or a diastereomer or enantiomer or pharmaceutically acceptable salt thereof, and their preparation and use in pharmaceutical compositions.

  公式I的3-氨基-3-芳基丙醇化合物： R1和R2独立表示C1-6烷基，或一起表示一个(CH2)2-6环，该环可以选择性地被苯基取代， R3表示C3-6烷基，C3-6环烷基，含有杂原子并且可以选择性地被R6至R8取代的芳基，或者是公式XII的取代C1-3烷基苯基： R4和R5独立表示C1-6烷基，C3-6环烷基，苯基，苄基，或苄乙基，或者一起形成一个(CH2)3-6或CH2CH2OCH2CH2环， R6至R8独立表示H，F，Cl，Br，CHF2，CF3，OH，OCF3，OR14，NR15R16，SR14，苯基，SO2CH3，SO2CF3，C1-6烷基，CN，COOR14，或CONR15R16，或者一起形成一个OCH2O，OCH2CH2O，CH═CHO，CH═C(CH3)O或(CH2)4环， R14表示C1-6烷基，苯基，苄基，或苄乙基， R15和R16独立表示H，C1-6烷基，苯基，苄基或苄乙基，以及 A表示可以选择性地被取代的芳基，该芳基可以含有杂原子， 或其对映异构体或对映体或其药学上可接受的盐，以及它们在制备和使用药物组合物中的用途。
• The (2-Phenyl-2-trimethylsilyl)ethyl-(PTMSEL)-Linker in the Synthesis of Glycopeptide Partial Structures of Complex Cell Surface Glycoproteins
  作者：Michael Wagner、Sebastian Dziadek、Horst Kunz

  DOI：10.1002/chem.200305304

  日期：2003.12.15

  protected peptides and glycopeptides. Its cleavage is achieved under almost neutral conditions using tetrabutylammonium fluoride trihydrate in dichloromethane thus allowing the construction of complex molecules sensitive to basic and acidic media commonly required for the cleavage of standard linker systems. The advantages of the PTMSEL linker are demonstrated in the synthesis of glycopeptides from the liver

  （2-苯基-2-三甲基甲硅烷基）乙基-（PTMSEL）接头代表一种新型的氟化物敏感锚，用于固相合成受保护的肽和糖肽。使用二氯甲烷中的三水合四丁基氟化铵在几乎中性的条件下进行裂解，因此可以构建对碱性和酸性介质敏感的复杂分子，而碱性和酸性介质通常是裂解标准接头系统所需的。PTMSEL接头的优势在肝肠（LI）-钙粘着蛋白和粘蛋白MUC1的糖肽合成中得到了证明，这些糖肽带有碳水化合物部分，例如N-连接的壳二糖或O-连接的唾液酸-T（N）-残基。这些类型的糖肽的合成是困难的，因为它们在固相上以及在完全脱保护的形式下易于形成二级结构。使用PTMSEL接头，可以根据Fmoc策略通过自动合成来访问这些分子，而无需经常观察到副反应，例如天冬酰胺或二酮哌嗪的形成。
• Active components and photosensitive resin composition containing the same
  申请人：——

  公开号：US20030064320A1

  公开（公告）日：2003-04-03

  A photosensitive resin composition for using in combination with a photosensitizer comprises an active component selected from an active metal alkoxide represented by the formula (1) or a polycondensate thereof and a particle represented by the formula (2), (X) m−n -M m -[(U 1 ) p -(U 2 -Z) t ] n (1) P—[(Y) s -{(U 1) p -(U 2 -Z) t }] k (2) wherein, X shows a hydrogen, a halogen, an alkoxy group or an alkoxycarbonyl group, M shows a metal atom whose valence m is not less than 2, U 1 shows a first connecting unit, U 2 shows a second connecting unit and Z shows a group causing a difference insolubility by light exposure, P shows a fine particle carrier, Y shows a coupling residue, n shows an integer of not less than 1 and m>n, p shows 0 or 1, t shows 1 or 2, k shows an integer of not less than 1, and s shows 0 or 1). The unit (U 1 ) p -(U 2 -Z) t is represented by the following formula: [(R 1 ) q —(B) r ] p —[{(R 2 ) u —(Ar) v }-Z] t (wherein, R 1 and R 2 show an alkylene or alkenylene group; and B shows an ester bond, an amide bond, a urea bond, a urethane bond, an imino group, a sulfur atom or a nitrogen atom; Ar represents an arylene or cycloalkylene group; each of the factors, q, r, u and v, shows 0 or 1, and q+r+u+v≧1; and Z, p and t have the same meanings defined above).

  一种光敏树脂组合物，用于与光敏剂结合使用，包括从式（1）表示的活性金属烷氧基或其聚合物所选的活性成分和从式（2）表示的粒子，其中，X表示氢、卤素、烷氧基或烷氧基羰基基团，M表示其价态m不小于2的金属原子，U1表示第一连接单元，U2表示第二连接单元，Z表示通过光曝露引起不同溶解度的基团，P表示细粒载体，Y表示偶联残基，n表示不小于1的整数，m>n，p表示0或1，t表示1或2，k表示不小于1的整数，s表示0或1。单元（U1）p-（U2-Z）t由以下公式表示：[（R1）q-（B）r]p-[(R2)u-（Ar）v-Z]t（其中，R1和R2表示烷基或烯基基团；B表示酯键、酰胺键、脲键、脲酸酯键、亚胺基、硫原子或氮原子；Ar表示芳基或环烷基团；因子q、r、u和v中的每个表示0或1，且q+r+u+v≥1；Z、p和t具有上述定义的相同含义）。
• Resist material and pattern formation process
  申请人：Wako Pure Chemical Industries, Ltd.

  公开号：US05468589A1

  公开（公告）日：1995-11-21

  A resist composition comprising (a) a polymer having at least repeating units of the formulae: ##STR1## (b) a photoacid generator and (c) a solvent, has high sensitivity to light, excellent heat resistance, adhesiveness to a substrate and suitable for pattern formation with high resolution.

  一种电阻抗成分，包括(a)至少具有如下重复单元的聚合物：##STR1## (b) 光酸发生剂和(c) 溶剂，具有高光敏度，优异的耐热性，对基板的粘附性，并适用于高分辨率的图案形成。
• Pattern formation process
  申请人：Wako Pure Chemical Industries, Ltd.

  公开号：US05670299A1

  公开（公告）日：1997-09-23

  A resist composition comprising (a) a polymer having at least repeating units of the formulae: ##STR1## (b) a photoacid generator and (c) a solvent, has high sensitivity to light, excellent heat resistance, adhesiveness to a substrate and suitable for pattern formation with high resolution.

  一种抗阻剂组合物，包括（a）至少具有以下重复单元式的聚合物：##STR1##（b）光酸发生剂和（c）溶剂，具有对光的高灵敏度，优异的耐热性，对基底的粘附性，并适用于高分辨率的图案形成。