【課題】良好なCD均一性(CDU)を有するレジストパターンを製造することができる塩及び該塩を含むレジスト組成物を提供することを目的とする。【解決手段】式(I)で表される塩、酸発生剤及びレジスト組成物。[式中、R1はアルキル基を表す。R2は、ハロゲン原子又はフッ化アルキル基を表す。R3及びR4はそれぞれ、ハロゲン原子、炭素数1〜6のフッ化アルキル基又は炭素数1〜12のアルキル基を表す。m3は、0〜3のいずれかの整数を表し、m4は、0〜5のいずれかの整数を表す。Q1及びQ2は、それぞれ独立に、フッ素原子又はペルフルオロアルキル基を表す。L1は飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる水素原子は、フッ素原子又はヒドロキシ基で置換されていてもよい。Y1は、置換基を有していてもよいメチル基又は置換基を有していてもよい脂環式炭化水素基を表す。]【選択図】なし
【课题】提供一种能够制造出具有良好CD均匀性(CDU)的图案的盐及其包含的
树脂组合物。
【解决手段】式(I)表示的盐、酸性产生剂和
树脂组合物。式中,R1表示烷基。R2表示卤素原子或
氟化烷基。R3和R4分别表示卤素原子、碳数为1~6的
氟化烷基或碳数为1~12的烷基。m3表示0至3之间的任一整数,m4表示0至5之间的任一整数。Q1和Q2分别独立地表示
氟原子或
全氟烷基。L1表示饱和碳氢基,该饱和碳氢基中包含的氢原子可以被
氟原子或羟基所取代。Y1表示可以含有取代基的甲基或可以含有取代基的脂环式碳氢基。
【选择图】无