2,2-二氟-3-[(2-甲基-1-氧代-2-丙烯-1-基)氧基]戊酸叔丁酯 | 1092693-73-6

• 分子结构分类: 有机化合物 - 脂质和类脂质分子 - 脂肪酰基
• 中文名称: 2,2-二氟-3-[(2-甲基-1-氧代-2-丙烯-1-基)氧基]戊酸叔丁酯
• 英文名称: 1-(t-butoxycarbonyl)-1,1-difluoro-2-butyl methacrylate
• 英文别名: tert-Butyl 2,2-difluoro-3-(methacryloyloxy)pentanoate；tert-butyl 2,2-difluoro-3-(2-methylprop-2-enoyloxy)pentanoate
• CAS: 1092693-73-6
• 化学式: C₁₃H₂₀F₂O₄
• 分子量: 278.296
• InChiKey: ADENAGIXOIHEFR-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 密度：
  1.085

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  3.6
• 重原子数：
  19
• 可旋转键数：
  8
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.69
• 拓扑面积：
  52.6
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  6

安全信息

• 危险性防范说明：
  P261,P305+P351+P338
• 危险性描述：
  H315,H319,H335

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  乙醇 、 2,2-二氟-3-[(2-甲基-1-氧代-2-丙烯-1-基)氧基]戊酸叔丁酯 在 水 作用下， 以100%的产率得到[1,2-¹³C2]acetic acid, (dimethylamino)oxo-, ethyl ester
  参考文献：
  名称：

  Isotopically labeled compositions and method

  摘要：

  由具有稳定同位素13C和/或2H的化合物从具有固相支持或亲和标签的前体组合物中合成。

  公开号：

  US20080311666A1
• 作为产物：
  描述：

  4-(tritylsulfanyl)phenol 在 sodium hydride 、 三乙基硅烷 、 三氟乙酸 作用下， 以 N,N-二甲基甲酰胺 、 二氯甲烷 为溶剂， 反应 20.0h， 以69%的产率得到三苯基甲醇
  参考文献：
  名称：

  Direct O-glycosidation of resin bound thioglycosides

  摘要：

  描述了安全锁连接子概念在固相糖 conjugate 合成中的应用。该过程允许在裂解过程中直接将树脂绑定的糖基与复杂的非糖部分进行连接。反应中不需要大量过量的任何一个偶联伙伴，甚至非常障碍的醇也能作为反应中的受体。

  DOI：

  10.1039/c2ob06883d

文献信息

• RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, POLYMER AND POLYMERIZABLE COMPOUND
  申请人：ASANO Yuusuke

  公开号：US20120237875A1

  公开（公告）日：2012-09-20

  A radiation-sensitive resin composition includes a first polymer including an acid-labile group, an acid generator to generate an acid upon exposure to radiation, and a second polymer including a fluorine atom and a functional group shown by a general formula (x). The second polymer has a fluorine atom content higher than a fluorine atom content of the first polymer. R 1 represents an alkali-labile group. A represents an oxygen atom, —NR′—, —CO—O— # or —SO 2 —O— ## , wherein the oxygen atom represented by A is not an oxygen atom bonded directly to an aromatic ring, a carbonyl group, or a sulfoxyl group, R′ represents a hydrogen atom or an alkali-labile group, and “#” and “##” indicates a bonding hand bonded to R 1 . -A-R 1 (x)

  一种辐射敏感树脂组合物包括第一聚合物，其中包括酸敏感基团，酸发生剂用于在辐射照射后生成酸，以及第二聚合物，其中包括氟原子和由通用公式（x）表示的功能基团。第二聚合物的氟原子含量高于第一聚合物的氟原子含量。R1代表碱性易裂解基团。A代表氧原子，-NR′—，-CO—O—#或-SO2—O—##，其中A代表的氧原子不是直接与芳香环、酰基或亚砜基结合的氧原子，R′代表氢原子或碱性易裂解基团，“#”和“##”表示与R1结合的键合手。-A-R1(x)
• NON-IONIC ARYL KETONE BASED POLYMERIC PHOTO-ACID GENERATORS
  申请人：International Business Machines Corporation

  公开号：US20180044459A1

  公开（公告）日：2018-02-15

  Non-ionic photo-acid generating (PAG) polymerizable monomers were prepared that contain a side chain sulfonate ester of an alpha-hydroxy aryl ketone. The aryl ketone group has a perfluorinated substituent alpha to the ketone carbonyl. The sulfur of the sulfonate ester is also directly linked to a fluorinated group. PAG polymers prepared from the PAG monomers release a strong sulfonic acid when exposed to high energy radiation such as deep UV or extreme UV light. The photo-generated sulfonic acid has a low diffusion rate in an exposed resist layer subjected to a post-exposure bake (PEB) at 100° C. to 150° C., resulting in formation of good line patterns after development.

  制备了含有α-羟基芳基酮的侧链磺酸酯的非离子光酸发生（PAG）可聚合单体。芳基酮基团在酮基团的α位有全氟取代基。磺酸酯的硫也直接连接到氟化基团。从这些PAG单体制备的PAG聚合物在暴露于高能辐射（如深紫外或极紫外光）时释放出强磺酸。在经过后曝光烘烤（PEB）处理（100°C至150°C）的暴露光刻胶层中，光生成的磺酸扩散速率较低，结果在显影后形成良好的线型图案。
• Isotopically labeled compositions and method
  申请人：Schmidt Jurgen G.

  公开号：US20080311666A1

  公开（公告）日：2008-12-18

  Compounds having stable isotopes 13 C and/or 2 H were synthesized from precursor compositions having solid phase supports or affinity tags.

  由具有稳定同位素13C和/或2H的化合物从具有固相支持或亲和标签的前体组合物中合成。
• Fluorine-Containing Sulfonic Acid Salt, Fluorine-Containing Sulfonic Acid Salt Resin, Resist Composition, and Pattern Forming Method Using Same
  申请人：Central Glass Company, Limited

  公开号：US20150198879A1

  公开（公告）日：2015-07-16

  Disclosed is a fluorine-containing sulfonic acid salt resin having a repeating unit represented by the following general formula (3). In the formula, each A independently represents a hydrogen atom, a fluorine atom or a trifluoromethyl group, and n represents an integer of 1-10. W represents a bivalent linking group, R 01 represents a hydrogen atom or a monovalent organic group, and M + represents a monovalent cation. A resist composition containing this resin is further superior in sensitivity, resolution and reproducibility of mask pattern and is capable of forming a pattern with a low LER.

  本公开了一种含氟磺酸盐树脂，其具有以下通用式（3）所代表的重复单元。在该式中，每个A独立地表示氢原子、氟原子或三氟甲基基团，n表示1-10的整数。W表示二价连接基团，R01表示氢原子或一价有机基团，M+表示一价阳离子。含有该树脂的抗蚀组合物在感光性、分辨率和掩膜图案的重现性方面更加优越，并且能够形成具有较低LER的图案。
• Fluorine-Containing Sulfonate Resin, Resist Composition and Pattern Formation Method
  申请人：KATO Misugi

  公开号：US20120322006A1

  公开（公告）日：2012-12-20

  A sulfonate resin according to the present invention has a repeating unit of the following general formula (3): where X each independently represents a hydrogen atom or a fluorine atom; n represents an integer of 1 to 10; R represents a hydrogen atom, a halogen atom or a C 1 -C 3 alkyl or fluorine-containing alkyl group; J represents a divalent linking group; and M + represents a monovalent cation. This sulfonate resin contains a sulfonic acid onium salt in a side chain thereof, with an anion moiety of the sulfonic acid onium salt fixed to the sulfonate resin, and thus functions as a resist resin with good resist characteristics such as DOF, LER, sensitivity and resolution.

  根据本发明，磺酸盐树脂具有以下通用公式（3）的重复单元：其中X分别表示氢原子或氟原子；n表示1至10的整数；R表示氢原子、卤原子或C1-C3烷基或含氟烷基团；J表示二价连接基团；M+表示一价阳离子。这种磺酸盐树脂在侧链中含有磺酸盐鉮盐，磺酸盐鉮盐的阴离子部分固定在磺酸盐树脂上，因此作为具有良好抗性特性（如DOF、LER、灵敏度和分辨率）的抗性树脂。