2,4-二甲氧基苯磺酸 | 7134-13-6

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 中文名称: 2,4-二甲氧基苯磺酸
• 英文名称: 1,3-Dimethoxy-benzol-4-sulfonsaeure
• 英文别名: 2,4-Dimethoxy-benzol-1-sulfonsaeure；2,4-dimethoxy-benzenesulfonic acid；2,4-Dimethoxy-benzolsulfonsaeure；2,4-Dimethoxybenzenesulfonic acid
• CAS: 7134-13-6
• 化学式: C₈H₁₀O₅S
• 分子量: 218.23
• InChiKey: ZPHMCVPMYLSOJH-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  0.3
• 重原子数：
  14
• 可旋转键数：
  3
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.25
• 拓扑面积：
  81.2
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  5

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  2,4-二甲氧基苯磺酸 、 氯仿 、 硝酸 在 乙腈 作用下， 以 乙腈 为溶剂， 反应 2.0h， 生成 2,4-Dimethoxy-5-nitrobenzenesulfonic acid
  参考文献：
  名称：

  Photographic light-sensitive sheet for the color diffusion transfer

  摘要：

  一种用于彩色扩散转移工艺的光敏感感光片，其包括具有至少一个光敏银卤化物乳液层的支撑体，该层与以下一般式（1）所代表的化合物相关联：##STR1## 其中，Q1代表氢原子；卤素原子；由公式--SO.sub.2 NR.sup.3R.sup.4表示的磺酰胺基团，其中R.sup.3表示氢原子或烷基，m代表0或1，R.sup.4表示氢原子或R.sup.4a，其中R.sup.4a表示烷基，芳基烷基或苯基，R.sup.3和R.sup.4可以直接或通过氧原子结合形成环；由公式--SO.sub.2R.sup.5表示的基团，其中R.sup.5表示烷基或芳基烷基；羧基；由公式--COOR.sup.6表示的基团，其中R.sup.6表示烷基或苯基；或由公式--CONR.sup.3R.sup.4表示的基团，其中R.sup.3和R.sup.4的含义与上述定义相同；Q2位于G基团的5-或8-位置，并表示羟基，由公式--NHCOR.sup.4a表示的基团或由公式--NHSO.sub.2R.sup.4a表示的基团，其中R.sup.4a的含义与上述定义相同；R.sup.1和R.sup.2，它们可以相同也可以不同，分别表示烷基或烷氧基；BG是桥接基团；Y表示氧化后释放可扩散染料的氧化还原中心；G表示羟基，其盐或由公式##STR2##表示的可水解酰氧基团，其中E表示烷基或芳基。该化合物是提供品质卓越的洋红色染料图像的染料图像提供材料。

  公开号：

  US04255509A1
• 作为产物：
  描述：

  间苯二甲醚 在 硫酸 作用下， 生成 2,4-二甲氧基苯磺酸
  参考文献：
  名称：

  The Preparation and Properties of 2,4-Dimethoxyphenyl Alkyl Sulfides¹

  摘要：

  DOI：

  10.1021/ja01332a050

文献信息

• JAK INHIBITOR
  申请人：Kyowa Hakko Kirin Co., Ltd.

  公开号：EP2108642A1

  公开（公告）日：2009-10-14

  A JAK inhibitor comprising, as an active ingredient, a nitrogen-containing heterocyclic compound represented by formula (I) wherein W represents a nitrogen atom or -CH-; X represents -C (=O) - or -CHR4- (wherein R4 represents a hydrogen atom, or the like); R1 represents the formula described below [wherein Q1 represents-CR8-(wherein R8 represents a hydrogen atom, substituted or unsubstituted lower alkyl, or the like); Q2 represents -NR15- (wherein R15 represents a hydrogen atom, substituted or unsubstituted lower alkyl, or the like); and R5 and R6 may be the same or different and each represents a hydrogen atom, halogen, carboxy, substituted or unsubstituted lower alkyl, or the like], or the like; and R2 and R3 may be the same or different and each represents a hydrogen atom, halogen, substituted or unsubstituted lower alkyl, or the like} or a pharmaceutically acceptable salt thereof.

  一种JAK抑制剂，其作为活性成分的是由式(I)表示的含氮杂环化合物 其中W代表氮原子或-CH-; X代表-C(=O)-或-CHR4-(其中R4代表氢原子或类似物); R1代表下述式[其中Q1代表-CR8-(其中R8代表氢原子、取代或未取代的较低烷基或类似物); Q2代表-NR15-(其中R15代表氢原子、取代或未取代的较低烷基或类似物);而R5和R6可以相同也可以不同，每个代表氢原子、卤素、羧基、取代或未取代的较低烷基或类似物，或类似物;而 R2和R3可以相同也可以不同，每个代表氢原子、卤素、取代或未取代的较低烷基或类似物}或其药学上可接受的盐。
• Sulphonyl transfer reactions: solvolysis of arenesulphonyl chlorides in aqueous trifluoroethanol
  作者：Rowena M. Forbes、H. Maskill

  DOI：10.1039/c39910000854

  日期：——

  Activation parameters for the solvolysis in aqueous trifluoroethanol of arenesulphonyl chlorides with electron-supplying substituents have been determined; the results are not in accord with earlier proposals that such compounds react by an SN1 mechanism.

  已经确定了具有电子供应取代基的芳磺酰氯在三氟乙醇水溶液中溶剂分解的活化参数；该结果与先前的建议不符，即此类化合物通过S N 1机理进行反应。
• Sulfonation and sulfation of 1,3-dihydroxybenzene and its methyl ethers in concentrated sulfuric acid
  作者：Hans Cerfontain、Ankie Koeberg-Telder

  DOI：10.1002/recl.19881070905

  日期：——

  homogeneous sulfonations of 1,3-dihydroxybenzene (1), its monomethyl (2) and dimethyl ether (3) in concentrated aqueous sulfuric acid at 25°C have been studied and isomer distributions and rate coefficients for the sulfonation of 1–3 and their monosulfonic acids are reported. The initial process, upon dissolution of the reactants, is protonation at C(4) and C(6). The subsequent sulfonation of the symmetrical

  研究了1,3-二羟基苯（1），其单甲基（2）和二甲醚（3）在25°C浓硫酸中的均相磺化反应，以及异构体分布和磺化1〜3和2的速率系数。报道了它们的单磺酸。反应物溶解后的初始过程是在C（4）和C（6）质子化。随后对称反应物1和3的磺化反应生成4-磺酸，而2和2的4-和6磺酸在73.5％H 2 SO 4下的比率为0.8 + 0.1 。1的4-磺酸的磺化（1 -4-S）产生2,4-和4,6-二磺酸的混合物，2 -4-S和3 -4-S产生4,6-S 2和2-6 -S给出2,6-和4,6-S 2的混合物。二磺酸1 -2,4-S 2和2 -2,6-S 2均缓慢异构化，得到4,6-二磺酸异构体。在酸浓度≥82.8％H 2 SO 4时，1的二磺酸缓慢生成1 -2,4,6-S 3，而2和3的二磺酸则缓慢生成1 -2,4,6-S 3。不进一步磺化。不存在的2 -2,4-S 2从2 -4-S和2 -2,4,6--S
• Verwendung von Aryl-, Heteroaryl- und Benzylsulfonamidocarbonsäuren, -carbonsäureestern, -carbonsäureamiden und -carbonitrilen oder deren Salze zur Steigerung der Stresstoleranz in Pflanzen
  申请人：Bayer CropScience AG

  公开号：EP2471363A1

  公开（公告）日：2012-07-04

  Verwendung von Aryl-, Heteroaryl- und Benzylsulfonamidocarbonsäuren, - carbonsäureestern, -carbonsäureamiden und -carbonitrilen oder deren Salze zur Steigerung der Stresstoleranz in Pflanzen. Die Erfindung betrifft die Verwendung von Aryl-, Heteroaryl- und Benzylsulfonamidocarbonsäuren, -carbonsäureestern, -carbonsäureamiden und -carbonitrilen oder deren Salze der allgemeinen Formel (I) in welcher die jeweiligen Substituenten die in der Beschreibung angegebenen Bedeutungen haben, zur Steigerung der Stresstoleranz in Pflanzen gegenüber abiotischem Stress, sowie zur Steigerung des Pflanzenwachstums und/oder zur Erhöhung des Pflanzenertrags.

  芳基、杂芳基和苄基磺酰胺二羧酸、-羧酸酯、-羧酸酰胺和-腈或其盐用于提高植物的抗逆性。 本发明涉及通式 (I) 的芳基、杂芳基和苄基磺酰胺二羧酸、-羧酸酯、-羧酸酰胺和-甲腈或其盐的用途 其中各取代基的含义在描述中给出，用于提高植物对非生物性胁迫的耐受性，以及促进植物生长和/或提高植物产量。
• CMP method for copper, tungsten, titanium, polysilicon, and other substrates using organosulfonic acids as oxidizers
  申请人：Carter K. Melvin

  公开号：US20050090109A1

  公开（公告）日：2005-04-28

  The invention relates to chemical mechanical polishing of substrates using an abrasive and a fluid composition, wherein certain organosulfonic acid compounds are used as oxidizers, and particularly relates to a method of polishing substrates comprising copper, tungsten, titanium, and/or polysilicon using a chemical-mechanical polishing system comprising organosulfonic acids having an electrochemical oxidation potential greater than 0.2V as an oxidizer.

  本发明涉及使用磨料和流体组合物对基底进行化学机械抛光，其中使用某些有机磺酸化合物作为氧化剂，特别是涉及一种使用化学机械抛光系统对由铜、钨、钛和/或多晶硅组成的基底进行抛光的方法，该系统包含电化学氧化电位大于 0.2V 的有机磺酸作为氧化剂。