Neue Bis-1,2-naphtochinon-2-diazid-sulfonsäure-amide,ihre Verwendung in einem strahlungsempfindlichen Gemisch und strahlungsempfindliches Kopiermaterial
申请人:HOECHST AKTIENGESELLSCHAFT
公开号:EP0231855A2
公开(公告)日:1987-08-12
Es werden neue Bis-1,2-naphthochinon-2-diazid-sulfonsäure-amide beschrieben von sekundären Diaminen der allgemeinen Formel I,
worin
R einen geradkettigen oder verzweigten, ggf. durch Hydroxyl substituierten Alkyl-, Cycloalkyl- oder Aralkyl-Rest mit 1 - 14 Kohlenstoffatomen, dessen Kohlenstoffkette durch Ethersauerstoffatome unterbrochen sein kann.
R₁ einen Alkylenrest mit 2 - 12 Kohlenstoffatomen, dessen Kohlenstoffkette durch Ethersauerstoffatome unterbrochen sein kann, einen Aralkylenrest mit 8 - 18 Kohlenstoffatomen, wobei im Fall mehrkerniger Verbindungen die aromatischen Glieder durch eine Einfachbindung, durch -O-, -S-, -CO-, -CR₂R₃-, -N [C1-3-Alkyl] CO-,
oder durch C2-5-Alkyl, das durch Ethersauerstoffatome unterbrochen sein kann, verbunden sein können und
R₂ und R₃ gleich oder verschieden sein können und Wasserstoff oder ggf. substituierte Alkylreste mit 1 oder 2 Kohlenstoffatomen bedeuten,
oder
R und R₁ zusammen durch einen Cycloalkylrest mit 4 - 16 Kohlenstoffatomen gebildet werden, wobei bei mehrkernigen Verbindungen die Cycloaliphaten durch eine Kohlenstoffkette von 1 - 6 Kohlenstoffatomen verbunden sein können
und
D₁ und D₂ gleich oder verschieden sind und 1,2-Naphthochinon-2-diazid-4-bzw. 5-sulfonylreste bedeuten.
Die Verbindungen werden als strahlungsempfindliche Komponenten in strahlungsempfindlichen Gemischen für Kopiermaterialien verwendet, die im Bereich von 300 - 350 nm eine gute Absorption aufweisen.
新的双-1,2-萘醌-2-二叠氮磺酸酰胺是由通式 I 的仲二胺制成的、
其中
R 是具有 1-14 个碳原子的直链或支链、任选由羟基取代的烷基、环烷基或芳烷基,其碳链可被醚氧原子打断。
R₁是具有 2-12 个碳原子的亚烷基,其碳链可被醚氧原子打断;R₁是具有 8-18 个碳原子的芳烷基,其中,在多核化合物的情况下,芳香族成员被单键、-O-、-S-、-CO-、-CR₂R₃-、-N [C1-3 烷基] CO-、-N [C2-5 烷基] CO-或 C2-5 烷基取代、
或 C2-5 烷基(可被醚氧原子打断)取代,以及
R₂ 和 R₃ 可以相同或不同,表示氢或具有 1 或 2 个碳原子的任选取代的烷基、
或
R 和 R₁ 一起由具有 4 - 16 个碳原子的环烷基组成,在多核化合物中,环脂族基可以由 1 - 6 个碳原子的碳链连接起来
和
D₁ 和 D₂ 可以相同或不同,并且是 1,2-萘醌-2-噻嗪-4-基或 5-磺酰基。
这些化合物可作为辐射敏感混合物中的辐射敏感成分,用于复制在 300 - 350 纳米范围内具有良好吸收性的材料。