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tetrakis(pyrrolidinyl)silane | 24617-23-0

中文名称
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中文别名
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英文名称
tetrakis(pyrrolidinyl)silane
英文别名
tetrakis(1-pyrrolidinyl)silane;Pyrrolidine, 1,1',1'',1'''-silanetetrayltetrakis-;tetrapyrrolidin-1-ylsilane
tetrakis(pyrrolidinyl)silane化学式
CAS
24617-23-0
化学式
C16H32N4Si
mdl
——
分子量
308.542
InChiKey
RKUIOTSUXBMOHF-UHFFFAOYSA-N
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
  • 计算性质
  • ADMET
  • 安全信息
  • SDS
  • 制备方法与用途
  • 上下游信息
  • 反应信息
  • 文献信息
  • 表征谱图
  • 同类化合物
  • 相关功能分类
  • 相关结构分类

计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    1.81
  • 重原子数:
    21
  • 可旋转键数:
    4
  • 环数:
    4.0
  • sp3杂化的碳原子比例:
    1.0
  • 拓扑面积:
    13
  • 氢给体数:
    0
  • 氢受体数:
    4

反应信息

  • 作为产物:
    描述:
    四氢吡咯正丁基锂四氯化硅 作用下, 以 正己烷四氢呋喃 为溶剂, 反应 37.0h, 以96%的产率得到tetrakis(pyrrolidinyl)silane
    参考文献:
    名称:
    Organometallic precursor compounds
    摘要:
    该发明涉及一种有机金属前体化合物,其表示为(H)mM(R)n,其中M是金属或金属元素,R是相同或不同的,是一个取代或未取代的,饱和或不饱和的,含有至少一个氮原子的杂环基团,m的值从0到小于M的氧化态值,n的值从1到等于M的氧化态值,m+n的值等于M的氧化态值,以及一种生产该有机金属前体化合物的方法,以及一种从该有机金属前体化合物生产薄膜或涂层的方法。
    公开号:
    US20060068102A1
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文献信息

  • The Molecular Structures of Tetra(amino)silanes
    作者:Gerald Huber、Annette Schier、Hubert Schmidbaur
    DOI:10.1002/cber.19971300821
    日期:1997.8
    5 have similar structures with almost superimposable Si(NC2)4 cores of approximate D2d symmetry. The overall molecular symmetry of 2 is reduced only by incongruous folding of the heterocycles, which are all in a chair conformation. The core structures of 2 and 5 are in excellent agreement with the results of density function calculations for Si(NH2)4. Si(NMe2)4 (the crystal structure of which could
    在用于结晶均配型四(AMIN)与(镜像)-symmetrical NR硅烷搜索2个取代基,四(1-吡咯烷基)硅烷(1) ,通过一种改进的合成路线制备,和四(吗啉代)硅烷(2)合成经由中间体BrSi [N(CH 2 CH 2)2 O] 3 (4)从SiBr 4和吗啉/ Li-吗啉中提取。使用SiCl 4只能达到一氯阶段3。使用4-甲基哌嗪类似地制备四(4-甲基-1-哌嗪基)硅烷(5)。使用(CH 2)6 NH或(CH 2)仅获得6 NLi和SiBr 4 [(CH 2)6 N] 3 SiBr (6)。的结构1,2和5通过单晶X射线衍射来确定。虽然化合物1具有不遵循对称图案的不规则分子几何结构,但化合物2和5具有相似的结构,具有近似D 2d对称性的几乎可重叠的Si(NC 2)4核。整体分子对称性为2仅通过杂环的不相容折叠来减少它,这些杂环全都在椅子构象中。2和5的核心结构与Si(NH 2)4的密
  • Organometallic precursor compounds
    申请人:Meiere Houston Scott
    公开号:US20060068102A1
    公开(公告)日:2006-03-30
    This invention relates to organometallic precursor compounds represented by the formula (H) m M(R) n wherein M is a metal or metalloid, R is the same or different and is a substituted or unsubstituted, saturated or unsaturated, heterocyclic radical containing at least one nitrogen atom, m is from 0 to a value less than the oxidation state of M, n is from 1 to a value equal to the oxidation state of M, and m+n is a value equal to the oxidation state of M, a process for producing the organometallic precursor compounds, and a method for producing a film or coating from the organometallic precursor compounds.
    该发明涉及一种有机金属前体化合物,其表示为(H)mM(R)n,其中M是金属或金属元素,R是相同或不同的,是一个取代或未取代的,饱和或不饱和的,含有至少一个氮原子的杂环基团,m的值从0到小于M的氧化态值,n的值从1到等于M的氧化态值,m+n的值等于M的氧化态值,以及一种生产该有机金属前体化合物的方法,以及一种从该有机金属前体化合物生产薄膜或涂层的方法。
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