1,1,2,2-tetrafluoro-6-hydroxy-hexane-1-sulfonyl chloride | 1204700-24-2

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机卤素化合物 - 磺酰卤
• 英文名称: 1,1,2,2-tetrafluoro-6-hydroxy-hexane-1-sulfonyl chloride
• 英文别名: 1,1,2,2-Tetrafluoro-6-hydroxyhexane-1-sulfonyl chloride
• CAS: 1204700-24-2
• 化学式: C₆H₉ClF₄O₃S
• 分子量: 272.648
• InChiKey: VYIWKIZGXNJUSA-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  235.9±40.0 °C(Predicted)
• 密度：
  1.519±0.06 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  2.2
• 重原子数：
  15
• 可旋转键数：
  6
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  1.0
• 拓扑面积：
  62.8
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  7

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  N-羟基-5-降冰片烯-2,3-二甲酰亚胺 、 1,1,2,2-tetrafluoro-6-hydroxy-hexane-1-sulfonyl chloride 在 三乙胺 作用下， 以 四氢呋喃 为溶剂， 反应 0.5h， 以69%的产率得到N-(1,1,2,2-tetrafluoro-6-hydroxy-hexane-1-sulfonyloxy)-5-norbornene-2,3-dicarboximide
  参考文献：
  名称：

  Novel Sulfonic Acid Salt and Derivative thereof, Photo-Acid Generator, and Process for Production of Sulfonic Acid Salt

  摘要：

  提供一种含氟磺酸盐或含有含氟磺酸基团的化合物，其结构由下列通式（1）表示。这种盐或化合物可以作为合适的光酸发生剂，并且可以形成具有优异敏感度、分辨率和掩模依赖性的光阻图案。[在通式（1）中，R代表取代或未取代的具有1至30个碳原子的线性或支链一价碳氢基团，取代或未取代的具有3至30个碳原子且具有环状或部分环状结构的一价碳氢基团，取代或未取代的具有6至30个碳原子的芳基团，或取代或未取代的具有4至30个碳原子的一价杂环有机基团。]

  公开号：

  US20110112306A1
• 作为产物：
  描述：

  2-(4-bromo-3,3,4,4-tetrafluorobutyl)-malonic acid diethyl ester 在 sodium tetrahydroborate 、 氯化亚砜 、 sodium dithionite 、 水 、 氯 、 碳酸氢钠 、 sodium hydroxide 作用下， 以 二乙二醇二甲醚 、 水 、 乙腈 为溶剂， 反应 12.0h， 生成 1,1,2,2-tetrafluoro-6-hydroxy-hexane-1-sulfonyl chloride
  参考文献：
  名称：

  Novel Sulfonic Acid Salt and Derivative thereof, Photo-Acid Generator, and Process for Production of Sulfonic Acid Salt

  摘要：

  提供一种含氟磺酸盐或含有含氟磺酸基团的化合物，其结构由下列通式（1）表示。这种盐或化合物可以作为合适的光酸发生剂，并且可以形成具有优异敏感度、分辨率和掩模依赖性的光阻图案。[在通式（1）中，R代表取代或未取代的具有1至30个碳原子的线性或支链一价碳氢基团，取代或未取代的具有3至30个碳原子且具有环状或部分环状结构的一价碳氢基团，取代或未取代的具有6至30个碳原子的芳基团，或取代或未取代的具有4至30个碳原子的一价杂环有机基团。]

  公开号：

  US20110112306A1

文献信息

• Fluorine-Containing Sulfonate Resin, Fluorine-Containing N-Sulfonyloxyimide Resin, Resist Composition and Pattern Formation Method
  申请人：KATO Misugi

  公开号：US20120328985A1

  公开（公告）日：2012-12-27

  According to the present invention, there are provided a fluorine-containing sulfonate salt resin or fluorine-containing sulfonate ester resin having a structure of the following general formula (A) and a fluorine-containing N-sulfonyloxyimide resin having a repeating unit of the general formula (17). It is possible obtain a resist composition using the above resin such that the resist composition can attain high resolution, wide DOF, small LER and high sensitivity and form a good pattern shape.

  根据本发明，提供了具有以下通用式（A）结构的含氟磺酸盐树脂或含氟磺酸酯树脂以及具有通用式（17）重复单元的含氟N-磺酰氧亚胺树脂。可以使用上述树脂制备抗蚀剂组合物，使抗蚀剂组合物能够达到高分辨率、宽DOF、小LER和高灵敏度，并形成良好的图案形状。
• US8889888B2
  申请人：——

  公开号：US8889888B2

  公开（公告）日：2014-11-18
• US9221928B2
  申请人：——

  公开号：US9221928B2

  公开（公告）日：2015-12-29
• [EN] NOVEL SULFONIC ACID SALT AND DERIVATIVE THEREOF, PHOTO-ACID GENERATOR, AND PROCESS FOR PRODUCTION OF SULFONIC ACID SALT<br/>[FR] NOUVEAU SEL D'ACIDE SULFONIQUE ET SON DÉRIVÉ, GÉNÉRATEUR DE PHOTOACIDE ET PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UN SEL D'ACIDE SULFONIQUE
  申请人：CENTRAL GLASS CO LTD

  公开号：WO2010007910A1

  公开（公告）日：2010-01-21

  下記一般式（１）で表される構造を有する含フッ素スルホン酸塩もしくは含フッ素スルホン酸基含有化合物が提供される。このような塩もしくは化合物は、好適な光酸発生剤として作用し、感度、解像度及びマスク依存性の優れたレジストパターンを形成することができる。 〔一般式（１）において、Ｒは置換もしくは非置換の炭素数１～３０の直鎖状もしくは分岐状の１価の炭化水素基、置換もしくは非置換の炭素数３～３０の環状もしくは環状の部分構造を有する１価の炭化水素基、置換もしくは非置換の炭素数６～３０のアリール基または置換もしくは非置換の炭素数４～３０の１価のヘテロ環状有機基を表す。〕