【課題】良好なCD均一性(CDU)でレジストパターンを製造できる塩、酸発生剤及びレジスト組成物の提供。【解決手段】式(I)で表される塩、酸発生剤及びレジスト組成物。[R1及びR2は、夫々独立に、H、F又はFを有する炭素数1〜6のアルキル基;R3は、F又はFを有する炭素数1〜6のアルキル基;R4及びR5は、夫々独立に、ハロゲン原子、炭素数1〜10のフッ化アルキル基又は炭素数1〜12のアルキル基;m4は0〜4の整数;m5は0〜5の整数;AI−は有機アニオンを表す。]【選択図】なし
【问题】提供能够制造具有良好的CD均一性(CDU)的光刻胶、酸发生剂和光刻胶组合物。
【解决方案】由式(I)表示的盐、酸发生剂和光刻胶组合物。[其中,R1和R2各自独立地表示具有1〜6个碳原子的含有H、F或F的烷基;R3表示具有1〜6个碳原子的含有F或F的烷基;R4和R5各自独立地表示卤素原子、具有1〜10个碳原子的
氟化烷基或具有1〜12个碳原子的烷基;m4是0〜4的整数;m5是0〜5的整数;AI-表示有机阴离子。][选图]无。