Ethoxyisobuttersaeure | 19758-27-1

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机酸及其衍生物 - 羧酸及其衍生物
• 英文名称: Ethoxyisobuttersaeure
• 英文别名: β-ethoxy-isobutyric acid；3-Aethoxy-2-methyl-propionsaeure；β-Aethoxy-isobuttersaeure；3-ethoxy-2-methylpropionic acid；3-Ethoxy-2-methylpropanoic acid
• CAS: 19758-27-1
• 化学式: C₆H₁₂O₃
• 分子量: 132.159
• InChiKey: ZBIAIQCCZGYWSP-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  0.5
• 重原子数：
  9
• 可旋转键数：
  4
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.83
• 拓扑面积：
  46.5
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  3

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  Ethoxyisobuttersaeure 在 sodium azide 、 氯仿 、 硫酸 作用下， 生成 1-Ethoxy-2-propylamin
  参考文献：
  名称：

  Sutton; Data, Journal of the American Pharmaceutical Association (1912), 1952, vol. 41, p. 328,331

  摘要：

  DOI：
• 作为产物：
  描述：

  ethoxymethyl-methyl-malonic acid diethyl ester 在 氢氧化钾 作用下， 生成 Ethoxyisobuttersaeure
  参考文献：
  名称：

  Sutton; Data, Journal of the American Pharmaceutical Association (1912), 1952, vol. 41, p. 328,331

  摘要：

  DOI：

文献信息

• Novel Compound, Photosensitive Resin Composition Comprising the Same, and Color Filter
  申请人：Samsung SDI Co., Ltd.

  公开号：US20170107224A1

  公开（公告）日：2017-04-20

  A compound represented by Chemical Formula 1 wherein each substituent is the same as defined in the specification, a photosensitive resin composition including the same, and a color filter manufactured using the photosensitive resin composition are provided.

  提供了一种由化学式1表示的化合物，其中每个取代基与规范中定义的相同，包括该化合物的感光树脂组合物，以及使用该感光树脂组合物制造的彩色滤光片。
• COMPOUND, PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION INCLUDING THE SAME, PHOTOSENSITIVE RESIN LAYER, COLOR FILTER AND DISPLAY DEVICE
  申请人：SAMSUNG SDI CO., LTD.

  公开号：US20210124264A1

  公开（公告）日：2021-04-29

  A phthalocyanine compound a photosensitive resin composition including the same, a photosensitive resin layer produced using the photosensitive resin composition, a color filter including the photosensitive resin layer, and a display device including the color filter, the phthalocyanine compound exhibiting a shortest wavelength of a full width at half maximum (FWHM) with respect to a maximum absorption wavelength in a range of about 600 nm to about 620 nm.

  一种酞菁化合物，包括该酞菁化合物的光敏树脂组合物，使用该光敏树脂组合物制备的光敏树脂层，包括该光敏树脂层的彩色滤光片，以及包括该彩色滤光片的显示设备，该酞菁化合物在大约600纳米至大约620纳米范围内相对于最大吸收波长表现出最大吸收波长的半高全宽（FWHM）的最短波长。
• COMPOUND, PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION INCLUDING THE SAME, AND COLOR FILTER
  申请人：SAMSUNG SDI CO., LTD.

  公开号：US20180072709A1

  公开（公告）日：2018-03-15

  A compound, a photosensitive resin composition including the compound, and a color filter manufactured using the photosensitive resin composition, the compound being represented by Chemical Formula 1:

  一个化合物，包括该化合物的光敏树脂组合物，以及使用该光敏树脂组合物制造的彩色滤光片，该化合物由化学式1表示：
• Photoresist composition for deep ultraviolet lithography comprising a mixture of photoactive compounds
  申请人：——

  公开号：US20030235782A1

  公开（公告）日：2003-12-25

  The present invention relates to a novel photoresist composition that can be developed with an aqueous alkaline solution, and is capable of being imaged at exposure wavelengths in the deep ultraviolet. The invention also relates to a process for imaging the novel photoresist as well as novel photoacid generators.

  本发明涉及一种新型光刻胶组合物，可以用水性碱性溶液进行显影，并且能够在深紫外曝光波长下成像。该发明还涉及一种成像新型光刻胶的方法以及新型光酸发生剂。
• PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE RESIN FILM USING THE SAME AND COLOR FILTER
  申请人：SAMSUNG SDI CO., LTD.

  公开号：US20170108773A1

  公开（公告）日：2017-04-20

  A photosensitive resin composition, a photosensitive resin film, and a color filter, the composition including a binder resin; a dye consisting of a cation and an anion; a photopolymerizable compound; a photopolymerization initiator, and a solvent, wherein the dye is included in an amount of about 15 wt % to about 40 wt % based on a total weight of a photosensitive resin composition, and wherein the cation is represented by Chemical Formula 1:

  一种光敏树脂组合物、光敏树脂膜和彩色滤光片，该组合物包括粘合树脂；由阳离子和阴离子组成的染料；光聚合化合物；光聚合引发剂和溶剂，其中染料的含量约为光敏树脂组合物总重量的15wt％至40wt％，其中阳离子由化学式1表示：