benzyl isopropyl carbonate | 144397-85-3

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 英文名称: benzyl isopropyl carbonate
• 英文别名: Benzyl propan-2-yl carbonate
• CAS: 144397-85-3
• 化学式: C₁₁H₁₄O₃
• 分子量: 194.23
• InChiKey: GHRNHPXOBMGLGZ-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  261.0±19.0 °C(Predicted)
• 密度：
  1.067±0.06 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  3.2
• 重原子数：
  14
• 可旋转键数：
  5
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.36
• 拓扑面积：
  35.5
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  3

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  五氟苯 、 benzyl isopropyl carbonate 在 potassium tert-butylate 作用下， 以 甲苯 为溶剂， 反应 0.67h， 以86%的产率得到3-(benzyloxy)-1,2,4,5-tetrafluorobenzene
  参考文献：
  名称：

  在温和条件下通过多氟苯和碳酸酯的选择性CF功能化来合成氟化芳基醚

  摘要：

  已经开发了一种无需金属催化剂即可合成具有多氟苯和碳酸酯的氟化芳基醚的简便有效方法。碳的选择性C–F键和芳基片段参与反应。所需产物以中等至优异的产率获得，并具有良好的底物相容性。

  DOI：

  10.1016/j.tetlet.2015.06.032
• 作为产物：
  描述：

  2-isopropoxycarbonyl-1,3-dimethylimidazolium triflate 、 苯甲醇 在 三乙烯二胺 作用下， 以 丙酮 为溶剂， 以76%的产率得到benzyl isopropyl carbonate
  参考文献：
  名称：

  Bakhtiar, Cuross; Smith, Edward H., Journal of the Chemical Society. Perkin transactions I, 1994, # 3, p. 239 - 244

  摘要：

  DOI：

文献信息

• Synthesis of Carbonates and Related Compounds from Carbon Dioxide via Methanesulfonyl Carbonates
  作者：Mark O. Bratt、Paul C. Taylor

  DOI：10.1021/jo026753g

  日期：2003.7.1

  Carbonate anions resulting from reaction of primary or secondary alcohols with carbon dioxide, when added to methanesulfonic anhydride in cooled acetonitrile solution, yield methanesulfonyl carbonates, a new class of synthetic intermediate. Base-mediated reaction of the methanesulfonyl carbonates with alcohols, thiols, and amines yields carbonates, thiocarbonates, and carbamates, respectively. Overall

  由伯醇或仲醇与二氧化碳反应生成的碳酸根阴离子，在冷却的乙腈溶液中加到甲磺酸酐中后，会产生甲磺酰碳酸酯，这是一类新的合成中间体。甲磺酰碳酸酯与醇，硫醇和胺的碱介导反应分别产生碳酸盐，硫代碳酸盐和氨基甲酸酯。这三个步骤的总产率从19％到42％不等。
• Synthesis of Mixed Carbonates via a Three-Component Coupling of Alcohols, CO2, and Alkyl Halides in the Presence of K2CO3 and Tetrabutylammonium Iodide
  作者：Min Shi、Yu-Mei Shen

  DOI：10.3390/70400386

  日期：——

  Various mixed carbonates can be conveniently prepared in good yields using the corresponding alcohols, alkyl halides under CO2 atmosphere in the presence of potassium carbonate or sodium carbonate and tetrabutylammonium iodide.

  可以方便地在二氧化碳气氛下，使用相应的醇、烷基卤化物，在氢氧化钾或氢氧化钠及碳酸四丁铵的存在下，合成各种混合碳酸盐，并获得良好的产率。
• Nickel-catalyzed α-benzylation of sulfones with esters via C–O activation
  作者：Jing Xiao、Jia Yang、Tieqiao Chen、Li-Biao Han

  DOI：10.1039/c6ra07130a

  日期：——

  The nickel-catalyzed [small alpha]-benzylation of sulfones with readily available benzylic alcohol derivatives was achieved via C-O activation. The transformation was complete in 30 minutes using a simple Ni(COD)2 as a catalyst...

  经由CO活化，镍与容易获得的苄醇衍生物的砜的小α-苄基化反应得以实现。使用简单的Ni（COD）2作为催化剂，在30分钟内完成了转化。
• COMPOUND, ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, RESIST FILM, AND PATTERN FORMATION METHOD, AND METHOD FOR MANUFACTURING ELECTRONIC DEVICE USING SAME, AND ELECTRONIC DEVICE
  申请人：FUJIFILM CORPORATION

  公开号：US20160024005A1

  公开（公告）日：2016-01-28

  There is provided an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition containing a compound represented by the following formula (1) or (2), and the formula (1) and (2) are defined as herein, and a resist film comprising the actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, and a pattern forming method comprising a step of exposing the resist film, and a step of developing the exposed film, and a method for manufacturing an electronic device, comprising the pattern forming method, and an electronic device manufactured by the manufacturing method of an electronic device.

  提供了一种包含下列式子（1）或（2）所代表的化合物的光致射线敏感或辐射敏感的树脂组合物，其中式（1）和（2）的定义如本文所述，以及包括该光致射线敏感或辐射敏感的树脂组合物的光阻膜，以及包括曝光光阻膜的步骤和显影曝光膜的步骤的图案形成方法，以及包括图案形成方法的制造电子装置的方法，以及由电子装置的制造方法制造的电子装置。
• PATTERN FORMING METHOD, ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND RESIST FILM
  申请人：Enomoto Yuichiro

  公开号：US20120282548A1

  公开（公告）日：2012-11-08

  Provided is a pattern forming method comprising (i) a step of forming a film from an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, (ii) a step of exposing the film, and (iii) a step of developing the exposed film by using an organic solvent-containing developer, wherein the actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition comprises (A) a resin capable of decreasing the solubility for an organic solvent-containing developer by the action of an acid, (B) a compound capable of generating an acid upon irradiation with an actinic ray or radiation, (D) a solvent, and (G) a compound having at least either one of a fluorine atom and a silicon atom and having basicity or being capable of increasing the basicity by the action of an acid.

  提供的是一种形成图案的方法，包括(i)使用光致或辐射敏感树脂组成物形成薄膜的步骤，(ii)曝光薄膜的步骤，以及(iii)使用有机溶剂含有的显影剂显影曝光后的薄膜的步骤，其中光致或辐射敏感树脂组成物包括(A)一种能够通过酸的作用降低有机溶剂含有的显影剂的溶解度的树脂，(B)一种能够在光致或辐射照射下生成酸的化合物，(D)一种溶剂，以及(G)一种具有氟原子和硅原子中的至少一种，并具有碱性或能够通过酸的作用增加碱性的化合物。