1,4-bis(diethylhydroxymethyl)benzene | 286433-43-0

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 英文名称: 1,4-bis(diethylhydroxymethyl)benzene
• 英文别名: 3,3'-(1,4-phenylene)bis(pentan-3-ol)；1,4-di(3-hydroxy-pentane-3-yl)benzene；3-[4-(3-Hydroxypentan-3-yl)phenyl]pentan-3-ol
• CAS: 286433-43-0
• 化学式: C₁₆H₂₆O₂
• 分子量: 250.381
• InChiKey: VSTGQYDWJVEQOH-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  3.4
• 重原子数：
  18
• 可旋转键数：
  6
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.62
• 拓扑面积：
  40.5
• 氢给体数：
  2
• 氢受体数：
  2

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  1,4-bis(diethylhydroxymethyl)benzene 在 palladium on activated charcoal 、 氢气 、 对甲苯磺酸 作用下， 以 乙酸乙酯 、 甲苯 为溶剂， 反应 2.0h， 生成 1,4-二(戊-3-基)苯
  参考文献：
  名称：

  对映选择性分子内苯甲酰C ？H键胺化：光学活性苯苏糖的高效合成

  摘要：

  沿'Salen'方向移动：铱（III）-salen配合物1有效催化2-乙基苯磺酰叠氮化物的标题反应，从而产生具有高对映选择性的五元磺胺。其他的被2-烷基取代的底物导致对映体选择性高的五元和六元均聚物。区域选择性取决于所用的底物和催化剂。EDG =给电子基团。

  DOI：

  10.1002/anie.201101801
• 作为产物：
  描述：

  4-乙酰基苯甲酸甲酯 、 乙基溴化镁 以 乙醚 为溶剂， 以75%的产率得到1,4-bis(diethylhydroxymethyl)benzene
  参考文献：
  名称：

  二维共轭聚合物组件：用于控制光物理的链间间距

  摘要：

  共轭聚合物薄膜电光器件和传感器的可行性在很大程度上取决于具有优异电荷和激子迁移率的高量子效率薄膜。 1,2 电致发光器件的亮度取决于电荷传输和发射效率，以及向低能量位点的能量迁移可以为激光提供必要的波长偏移。3 高度敏感和特异的传感设备需要将识别事件与放大机制耦合。我们对利用沿着共轭聚合物主链传播的电子、电子空穴或激子的集体传输特性特别感兴趣，以放大分析物结合事件。 1 这些激发态的运动在很大程度上取决于单个聚合物相对于其的相互作用和取向。邻居。4 链间距离对基于共轭聚合物的光电器件的性能有很大影响 5 并且直到最近才有描述相邻链之间相互作用的理论模型才可用。 6 尽管链间相互作用会改变共轭聚合物的光致发光特性这一公认的事实，但没有报告已经出现了控制链间间距的一般方法。在小分子 7 和聚合物 4d 中，π 系统的紧密结合通常会导致 PL 量子产率相对于孤立的发色团显着降低。PL 量子产率的降低使得包含紧密共面

  DOI：

  10.1021/ja000553+

文献信息

• Novel route to silanetriols and silanediols based on acetoxysilylalkoxides
  作者：Miriam de J. Velásquez-Hernández、Aarón Torres-Huerta、Uvaldo Hernández-Balderas、Diego Martínez-Otero、Alejandra Núñez-Pineda、Vojtech Jancik

  DOI：10.1016/j.poly.2016.10.051

  日期：2017.1

  organosilicates based on acetoxysilylalkoxides (ASA, (RO)(tBuO)nSi(OAc)3−n or (AcO)3−n(tBuO)nSi-O-R-O-Si(OtBu)n(OAc)3−n, R = organic group; n = 0 or 1) is presented. These ASA precursors are prepared from silicon tetraacetate and suitable alcohols and are cleanly hydrolyzed in water to the corresponding alkoxysilanols in the absence of a base or organic solvents. The compounds were characterized by common spectroscopic

  摘要基于乙酰氧基甲硅烷基醇盐（ASA，（RO）（tBuO）nSi（OAc）3-n或（AcO）3-n（tBuO）nSi-ORO-Si（给出了OtBu）n（OAc）3-n，R ＝有机基团； n ＝ 0或1）。这些ASA前体由四乙酸硅和合适的醇制得，并在不存在碱或有机溶剂的情况下，在水中干净地水解为相应的烷氧基硅烷醇。通过包括X射线结构分析在内的常规光谱方法对化合物进行了表征。在将CO2催化转化为碳酸苯乙烯酯的过程中测试了烷氧基硅烷醇，并在60°C和1 atm CO2的15小时内显示出定量转化。
• Preparation of novel substituted haloarene compounds
  申请人：Rutherford L. Jennifer

  公开号：US20060030714A1

  公开（公告）日：2006-02-09

  This invention relates to a new process for the preparation of novel substituted haloarene compounds of the formula I or IV: respectively, wherein R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , X, and Y are as defined herein, that comprises a novel and efficient selective mono-lithiation of a dihaloarene of the formula II or V: respectively, by an organo-lithium compound in the presence of a carbonyl reactant of the formula III: wherein R 1 and R 2 are as defined herein. In the process of the instant invention, the newly formed lithiated haloarene is sequentially quenched in situ by the carbonyl reactant to form said substituted haloarene. The process is suitable for batch or continuous flow systems. The substituted haloarenes produced by the process of the present invention are useful intermediates in the preparation of N-aryl or N-heteroaryl substituted pharmaceutically active compounds that include selective antagonists, inverse agonists and partial agonists of serotonin 1 (5-HT 1 ) receptors useful in treating or preventing depression, anxiety, obsessive compulsive disorder (OCD) and other disorders for which a 5-HT 1 agonist or antagonist is indicated.

  这项发明涉及一种新的制备式I或IV的新颖取代卤代芳烃化合物的过程：其中R1、R2、R3、R4、R5、X和Y如本文所定义，该过程包括一种新颖且高效的选择性对二卤代芳烃式II或V进行单锂化的步骤，通过在碳酰基试剂式III存在下使用有机锂化合物，其中R1和R2如本文所定义。在本发明的过程中，新形成的锂化卤代芳烃被碳酰基试剂原位顺序熄灭以形成所述的取代卤代芳烃。该过程适用于批处理或连续流系统。通过本发明的过程生产的取代卤代芳烃是制备N-芳基或N-杂环芳基取代的药用活性化合物的有用中间体，包括选择性5-羟色胺1（5-HT1）受体的拮抗剂、逆向激动剂和部分激动剂，用于治疗或预防抑郁症、焦虑症、强迫症（OCD）和其他需要5-HT1激动剂或拮抗剂的疾病。
• Photomask and manufacturing method of an electronic device therewith
  申请人：——

  公开号：US20020086222A1

  公开（公告）日：2002-07-04

  In the step of manufacturing a photomask, an opaque pattern is formed by using a photosensitive resin composition containing a specified light absorbent, which then used to manufacture a photomask for KrF excimer laser lithography in a short manufacturing time and at a reduced cost. Accordingly, the manufacturing time and the cost for semiconductor integrated circuit devices is reduced.

  在制造光掩膜的步骤中，通过使用含有特定光吸收剂的光敏树脂组合物形成不透明图案，然后用它来制造用于 KrF 准分子激光光刻的光掩膜，制造时间短，成本低。因此，半导体集成电路设备的制造时间和成本都得以降低。
• Photo mask
  申请人：——

  公开号：US20030129505A1

  公开（公告）日：2003-07-10

  Providing a photo mask for KrF excimer laser lithography, which can be produced with high accuracy and low defects in a smaller number of steps. A photo mask for KrF excimer laser lithography according to the present invention is one in which a resist pattern 18 efficiently absorbing a KrF excimer laser light (wavelength: about 248 nm) is formed directly on a quartz substrate 10. The resist pattern 18 comprises: an aqueous alkali-soluble resin having a high light shielding property, which incorporates a naphthol structure having at least one hydroxyl group bound to a naphthalene nucleus; or a radiation sensitive resist having, as a main component, an aqueous alkali-soluble resin containing a derivative of the above-mentioned aqueous alkali-soluble resin as a resin matrix.

  提供一种用于 KrF 准分子激光光刻的光掩膜，它可以用较少的步骤生产出高精度和低缺陷的光掩膜。根据本发明，用于 KrF 准分子激光光刻的光掩膜是一种抗蚀剂图案 18 在石英基底上直接形成能有效吸收 KrF 准分子激光（波长：约 248 纳米）的光刻胶图案 18。 10. 抗蚀图案 18 包括：具有高光屏蔽性能的水性碱溶性树脂，其中包含一个萘酚结构，该萘酚结构具有至少一个与萘核结合的羟基；或辐射敏感抗蚀剂，其主要成分为水性碱溶性树脂，其中含有上述水性碱溶性树脂的衍生物作为树脂基体。
• US6790564B2
  申请人：——

  公开号：US6790564B2

  公开（公告）日：2004-09-14