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2-(二甲氨基)乙基己-2,4-二烯酸酯 | 16899-74-4

中文名称
2-(二甲氨基)乙基己-2,4-二烯酸酯
中文别名
——
英文名称
Dimethylaminoethyl sorbate
英文别名
2-(dimethylamino)ethyl hexa-2,4-dienoate
2-(二甲氨基)乙基己-2,4-二烯酸酯化学式
CAS
16899-74-4
化学式
C10H17NO2
mdl
——
分子量
183.25
InChiKey
BBGPLJAAAZDEGF-UHFFFAOYSA-N
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
  • 计算性质
  • ADMET
  • 安全信息
  • SDS
  • 制备方法与用途
  • 上下游信息
  • 反应信息
  • 文献信息
  • 表征谱图
  • 同类化合物
  • 相关功能分类
  • 相关结构分类

计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    1.6
  • 重原子数:
    13
  • 可旋转键数:
    6
  • 环数:
    0.0
  • sp3杂化的碳原子比例:
    0.5
  • 拓扑面积:
    29.5
  • 氢给体数:
    0
  • 氢受体数:
    3

文献信息

  • Resin-encapsulated semiconductor apparatus and process for its fabrication
    申请人:Hitachi, Ltd.
    公开号:US20020027268A1
    公开(公告)日:2002-03-07
    The present invention provides a resin-encapsulated semiconductor apparatus comprising a semiconductor device having a ferroelectric film and a surface-protective film, and an encapsulant member comprising a resin; the surface-protective film being formed of a polyimide. The present invention also provides a process for fabricating a resin-encapsulated semiconductor apparatus, comprising the steps of forming a film of a polyimide precursor composition on the surface of a semiconductor device having a ferroelectric film; heat-curing the polyimide precursor composition film to form a surface-protective film formed of a polyimide; and encapsulating, with an encapsulant resin, the semiconductor device on which the surface-protective film has been formed. The polyimide may preferably have a glass transition temperature of from 240° C. to 400° C. and a Young's modulus of from 2,600 MPa to 6 GPa. The curing may preferably be carried out at a temperature of from 230° C. to 300° C.
    本发明提供了一种树脂封装半导体装置,该装置包括具有铁电薄膜和表面保护膜的半导体器件,以及由树脂组成的封装件;表面保护膜由聚酰亚胺形成。本发明还提供了一种制造树脂封装半导体设备的工艺,包括以下步骤:在具有铁电薄膜的半导体设备表面形成聚酰亚胺前体组合物薄膜;热固化聚酰亚胺前体组合物薄膜,形成由聚酰亚胺构成的表面保护膜;以及用封装树脂封装已形成表面保护膜的半导体设备。聚酰亚胺最好具有 240°C 至 400°C 的玻璃转化温度和 2,600 MPa 至 6 GPa 的杨氏模量。固化最好在 230 摄氏度至 300 摄氏度的温度下进行。
  • US6087006A
    申请人:——
    公开号:US6087006A
    公开(公告)日:2000-07-11
  • US6147374A
    申请人:——
    公开号:US6147374A
    公开(公告)日:2000-11-14
  • US6200831B1
    申请人:——
    公开号:US6200831B1
    公开(公告)日:2001-03-13
  • US6441416B1
    申请人:——
    公开号:US6441416B1
    公开(公告)日:2002-08-27
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