trideuterio-methyl-silane | 1066-43-9

• 分子结构分类: 有机化合物 - 碳氢化合物衍生物
• 英文名称: trideuterio-methyl-silane
• 英文别名: Methylsilan-d(3)；Methyl-trideuteriosilan；Methyltrideuterosilan；Methyl-(D3)silan；Monomethyl-trideuteriosilan；Silane, trideutero-(methyl)-；trideuterio(methyl)silane
• CAS: 1066-43-9
• 化学式: CH₆Si
• 分子量: 49.1203
• InChiKey: UIUXUFNYAYAMOE-BMSJAHLVSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  -0.6
• 重原子数：
  2
• 可旋转键数：
  0
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  1.0
• 拓扑面积：
  0
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  0

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  trideuterio-methyl-silane 生成 methylsilyl cation
  参考文献：
  名称：

  从实验和理论看硅乙烯和甲基硅的热化学

  摘要：

  利用 de la spectrometrie de resonance cyclotronique ionique a transformee de Fourier pour l'energetique de la deprotonation du cation CH 3 SiD 2 + , ce qui permet d'obtenir les affinites protoniques des composes du titre。Chaleurs de Formation etpotentiel d'ionisation adiabatique

  DOI：

  10.1021/ja00209a003
• 作为产物：
  描述：

  甲基硅烷 在 W 氘 作用下， 生成 甲烷-d2 、 甲烷-d1 、 trideuterio-methyl-silane 、 methane
  参考文献：
  名称：

  甲基硅烷在镍，铑和钨表面的反应

  摘要：

  已经研究了在195 K及更高温度下在镍，铑和钨的膜表面上甲基硅烷的化学吸附和反应，以确定硅烷在金属催化下的反应与烷烃之间的区别。甲基硅烷的化学吸附伴随着气相氢和甲烷的形成，同位素研究表明吸附是通过硅原子发生的。CH 3 SiH 3和CH 3 SiD 3之间的相互交换被所有三种金属在195 K催化。交换仅限于甲硅烷基，并且发生一些中毒。CH 3 SiH 3和D 2之间的交换所研究的金属催化了该化合物的催化作用，但观察到该反应有严重的中毒现象。被该反应中毒的表面保持相互交换的活性。提出了交换机制。

  DOI：

  10.1039/f19807600979

文献信息

• Selectivity and enormous H/D isotope effects on H atom abstraction by CH₃radicals in solid methylsilane at 3.0 K–115 K
  作者：Kenji Komaguchi、Yuko Ishiguri、Hiroto Tachikawa、Masaru Shiotani

  DOI：10.1039/b206503g

  日期：——

  CH3SiH3 system, the CH3SiH2˙ radical was the major product immediately after the photolysis, while the ˙CH3 radical was the major one in the CH3SiD3 system. The ˙CH3 radicals decayed following first order kinetics in the dark in both systems. The decay rate constants for the reaction were experimentally determined to be k(Si–H) = 3.6 × 10−2 s−1 and k(Si–D) = 6.9 × 10−6 s−1 (k(Si–H)/k(Si–D) = 5.2 × 103) at

  进行了一项 EPR 研究，以阐明甲基自由基 CH3SiH3 +˙CH3 → CH3SiH2˙ + CH4 在 3 K 的低温下，在含有 1 mol% CH3I 的 CH3SiH3 固溶体中从甲基硅烷 (CH3SiH3) 中夺取氢原子–115 K。在 77 K 的 CH3I 紫外光解后观察到的 EPR 光谱归因于 CH3SiH2˙ 自由基和˙CH3 自由基的混合物。在CH3SiH3体系中，CH3SiH2˙自由基是光解后的主要产物，而˙CH3自由基是CH3SiD3体系中的主要产物。在两个系统中，˙CH3 自由基在黑暗中按照一级动力学衰减。实验确定反应的衰减速率常数为 k(Si-H) = 3.6 × 10-2 s-1 和 k(Si-D) = 6.9 × 10-6 s-1 (k(Si-H) /k(Si-D) = 5.2 × 103) 在 77 K；
• Thermochemistry of silaethylene and methylsilylene from experiment and theory
  作者：Seung Koo. Shin、Karl K. Irikura、J. L. Beauchamp、William A. Goddard

  DOI：10.1021/ja00209a003

  日期：1988.1

  Utilisation de la spectrometrie de resonance cyclotronique ionique a transformee de Fourier pour l'energetique de la deprotonation du cation CH 3 SiD 2 + , ce qui permet d'obtenir les affinites protoniques des composes du titre. Chaleurs de formation et potentiel d'ionisation adiabatique

  利用 de la spectrometrie de resonance cyclotronique ionique a transformee de Fourier pour l'energetique de la deprotonation du cation CH 3 SiD 2 + , ce qui permet d'obtenir les affinites protoniques des composes du titre。Chaleurs de Formation etpotentiel d'ionisation adiabatique
• Reactions of methylsilane at the surfaces of nickel, rhodium and tungsten
  作者：David I. Bradshaw、Richard B. Moyes、Peter B. Wells

  DOI：10.1039/f19807600979

  日期：——

  The chemisorption and reactions of methylsilane at the surfaces of films of nickel, rhodium and tungsten at 195 K and above have been investigated to determine how the metal-catalysed reactions of silanes differ from those of alkanes. Methylsilane chemisorption is accompanied by the formation of gas-phase hydrogen and methane and isotopic studies have shown that adsorption occurs through the silicon

  已经研究了在195 K及更高温度下在镍，铑和钨的膜表面上甲基硅烷的化学吸附和反应，以确定硅烷在金属催化下的反应与烷烃之间的区别。甲基硅烷的化学吸附伴随着气相氢和甲烷的形成，同位素研究表明吸附是通过硅原子发生的。CH 3 SiH 3和CH 3 SiD 3之间的相互交换被所有三种金属在195 K催化。交换仅限于甲硅烷基，并且发生一些中毒。CH 3 SiH 3和D 2之间的交换所研究的金属催化了该化合物的催化作用，但观察到该反应有严重的中毒现象。被该反应中毒的表面保持相互交换的活性。提出了交换机制。