甲基硅烷基阳离子 | 132434-74-3

• 分子结构分类: 有机化合物 - 碳氢化合物衍生物
• 中文名称: 甲基硅烷基阳离子
• CAS: 132434-74-3
• 化学式: CH₅Si
• 分子量: 47.1203
• InChiKey: OKSKMBIODFGGEE-CBTSVUPCSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  -0.33
• 重原子数：
  2
• 可旋转键数：
  0
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  1.0
• 拓扑面积：
  0
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  0

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  trideuterio-methyl-silane 、 碘甲烷 反应 143.0h， 生成 甲烷-d1 、 甲基硅烷基阳离子
  参考文献：
  名称：

  在 3.0 K–115 K 下，CH3 自由基在固体甲基硅烷中夺取 H 原子的选择性和巨大的 H/D 同位素效应

  摘要：

  进行了一项 EPR 研究，以阐明甲基自由基 CH3SiH3 +˙CH3 → CH3SiH2˙ + CH4 在 3 K 的低温下，在含有 1 mol% CH3I 的 CH3SiH3 固溶体中从甲基硅烷 (CH3SiH3) 中夺取氢原子–115 K。在 77 K 的 CH3I 紫外光解后观察到的 EPR 光谱归因于 CH3SiH2˙ 自由基和˙CH3 自由基的混合物。在CH3SiH3体系中，CH3SiH2˙自由基是光解后的主要产物，而˙CH3自由基是CH3SiD3体系中的主要产物。在两个系统中，˙CH3 自由基在黑暗中按照一级动力学衰减。实验确定反应的衰减速率常数为 k(Si-H) = 3.6 × 10-2 s-1 和 k(Si-D) = 6.9 × 10-6 s-1 (k(Si-H) /k(Si-D) = 5.2 × 103) 在 77 K；

  DOI：

  10.1039/b206503g

文献信息

• Thermochemistry of silaethylene and methylsilylene from experiment and theory
  作者：Seung Koo. Shin、Karl K. Irikura、J. L. Beauchamp、William A. Goddard

  DOI：10.1021/ja00209a003

  日期：1988.1

  Utilisation de la spectrometrie de resonance cyclotronique ionique a transformee de Fourier pour l'energetique de la deprotonation du cation CH 3 SiD 2 + , ce qui permet d'obtenir les affinites protoniques des composes du titre. Chaleurs de formation et potentiel d'ionisation adiabatique

  利用 de la spectrometrie de resonance cyclotronique ionique a transformee de Fourier pour l'energetique de la deprotonation du cation CH 3 SiD 2 + , ce qui permet d'obtenir les affinites protoniques des composes du titre。Chaleurs de Formation etpotentiel d'ionisation adiabatique
• Selectivity and enormous H/D isotope effects on H atom abstraction by CH₃radicals in solid methylsilane at 3.0 K–115 K
  作者：Kenji Komaguchi、Yuko Ishiguri、Hiroto Tachikawa、Masaru Shiotani

  DOI：10.1039/b206503g

  日期：——

  CH3SiH3 system, the CH3SiH2˙ radical was the major product immediately after the photolysis, while the ˙CH3 radical was the major one in the CH3SiD3 system. The ˙CH3 radicals decayed following first order kinetics in the dark in both systems. The decay rate constants for the reaction were experimentally determined to be k(Si–H) = 3.6 × 10−2 s−1 and k(Si–D) = 6.9 × 10−6 s−1 (k(Si–H)/k(Si–D) = 5.2 × 103) at

  进行了一项 EPR 研究，以阐明甲基自由基 CH3SiH3 +˙CH3 → CH3SiH2˙ + CH4 在 3 K 的低温下，在含有 1 mol% CH3I 的 CH3SiH3 固溶体中从甲基硅烷 (CH3SiH3) 中夺取氢原子–115 K。在 77 K 的 CH3I 紫外光解后观察到的 EPR 光谱归因于 CH3SiH2˙ 自由基和˙CH3 自由基的混合物。在CH3SiH3体系中，CH3SiH2˙自由基是光解后的主要产物，而˙CH3自由基是CH3SiD3体系中的主要产物。在两个系统中，˙CH3 自由基在黑暗中按照一级动力学衰减。实验确定反应的衰减速率常数为 k(Si-H) = 3.6 × 10-2 s-1 和 k(Si-D) = 6.9 × 10-6 s-1 (k(Si-H) /k(Si-D) = 5.2 × 103) 在 77 K；