Methyltellur-Radikal | 42217-99-2

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机氧化合物 - 有机含氧阴离子化合物
• 英文名称: Methyltellur-Radikal
• 英文别名: monomethyl tellurium；methyltellanyl；methyltellurium；Methanetellurol
• CAS: 42217-99-2
• 化学式: CH₃Te
• 分子量: 142.635
• InChiKey: WIWDJNKCVBRSNP-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  0.2
• 重原子数：
  2
• 可旋转键数：
  0
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  1.0
• 拓扑面积：
  0
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  0

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  二甲基碲 以 neat (no solvent) 为溶剂， 生成 Methyltellur-Radikal
  参考文献：
  名称：

  在 193 nm 光子照射下，在 295 K 下吸附的碲和烷基镉物质的光解

  摘要：

  已经使用 X 射线光电子能谱研究了在超高真空条件下在 295 K 下吸附碲和烷基镉形成的物质的光解分解。已观察到吸附在多晶金基材上的亚单层覆盖的二甲基碲在 193 nm 处经历几乎定量的光解分解，形成金属碲。分解中产生的碳氢化合物光碎片导致金表面上的碳污染可忽略不计。吸附在无定形 SiO2 上的二甲基镉既解吸又分解形成金属副产物。在这种情况下，大部分碳仍为碳氢化合物和碳化物污染物。在 Si(100) 和 GaAs(100) 表面上形成的两种金属的单甲基化合物在低通量 (0. 25 mJ cm−2) 用于这些实验；然而，观察到大量解吸。

  DOI：

  10.1063/1.99589

文献信息

• Photolytic decomposition of adsorbed tellurium and cadmium alkyl species at 295 K upon 193 nm photon irradiation
  作者：C. D. Stinespring、A. Freedman

  DOI：10.1063/1.99589

  日期：1988.6.6

  The photolytic decomposition of adspecies formed by the adsorption of tellurium and cadmium alkyls at 295 K under ultrahigh‐vacuum conditions has been studied using x‐ray photoelectron spectroscopy. Dimethyl tellurium adsorbed at submonolayer coverages on a polycrystalline gold substrate has been observed to undergo nearly quantitative photolytic decomposition at 193 nm to form metallic tellurium.

  已经使用 X 射线光电子能谱研究了在超高真空条件下在 295 K 下吸附碲和烷基镉形成的物质的光解分解。已观察到吸附在多晶金基材上的亚单层覆盖的二甲基碲在 193 nm 处经历几乎定量的光解分解，形成金属碲。分解中产生的碳氢化合物光碎片导致金表面上的碳污染可忽略不计。吸附在无定形 SiO2 上的二甲基镉既解吸又分解形成金属副产物。在这种情况下，大部分碳仍为碳氢化合物和碳化物污染物。在 Si(100) 和 GaAs(100) 表面上形成的两种金属的单甲基化合物在低通量 (0. 25 mJ cm−2) 用于这些实验；然而，观察到大量解吸。