1,4-cyclohexanediol di-toluenesulphonate | 24293-30-9

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 英文名称: 1,4-cyclohexanediol di-toluenesulphonate
• 英文别名: Cyclohexane-1,4-diyl bis(4-methylbenzenesulfonate)；[4-(4-methylphenyl)sulfonyloxycyclohexyl] 4-methylbenzenesulfonate
• CAS: 24293-30-9
• 化学式: C₂₀H₂₄O₆S₂
• 分子量: 424.539
• InChiKey: WUBMJKORECEIGD-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  4.3
• 重原子数：
  28
• 可旋转键数：
  6
• 环数：
  3.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.4
• 拓扑面积：
  104
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  6

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  1,4-环己二醇 、 4-甲基苯磺酸4-羟基环己酯 、 1,4-cyclohexanediol di-toluenesulphonate 、 1,8-二氮杂双环[5.4.0]十一碳-7-烯 、 对甲苯磺酰氯 在 盐酸 作用下， 以 吡啶 为溶剂， 反应 24.0h， 以60%的产率得到3-cyclohexen-1-ol
  参考文献：
  名称：

  Synthesis and Structure-Opioid Activity Relationships of trans-(±)-3,4-Dichloro-N-methyl-N-[4- or 5-hydroxy-2-(1-pyrrolidiny)cyclohexyl]benzeneacetamides

  摘要：

  摘要：为了探究将羟基功能连接到κ-选择性阿片受体N-[2-(1-吡咯啉基)环己基]苯乙酰胺的环己烷环上的影响，以一种分歧和立体选择性的方式合成了反式-(±)-3,4-二氯-N-甲基-N-[4-或5-羟基-2-(1-吡咯啉基)环己基]苯乙酰胺（1-4）及其苯甲酸酯（5-8）。 与母体化合物U-50488相比，羟基衍生物1-4保持了对κ-阿片受体的高选择性（μ/κ比值为24至>91）；同时显示出结合亲和力显著降低（Ki,κ=75-218 nm）。在附加羟基团在5-轴向或5-β位置的化合物4中观察到最低的κ-亲和力。当羟基功能被苯甲酰化时，κ-亲和力进一步降低。然而，4β、5α和5β异构体（6-8）保持了不同程度的κ-选择性；4α异构体化合物5，其苯甲酸酯基团位于4-轴向位置，现在是一种中等有效的μ-选择性阿片受体激动剂（Ki/μ=168 nm，μ/κ=0.076）。 结果表明，疏水性在结合到阿片受体上的重要性以及μ-阿片受体上存在特定的疏水性结合位点。

  DOI：

  10.1111/j.2042-7158.1997.tb06123.x
• 作为产物：
  描述：

  1,4-环己二醇 、 对甲苯磺酰氯 在 吡啶 作用下， 以 氯仿 为溶剂， 反应 19.0h， 生成 4-甲基苯磺酸4-羟基环己酯 、 1,4-cyclohexanediol di-toluenesulphonate
  参考文献：
  名称：

  Heterocylic antiviral compounds

  摘要：

  这项发明涉及式I的哌啶衍生物，其中R1、R2、R3和R4如本文所定义，在治疗各种疾病中有用，包括那些涉及CCR5受体调节的疾病。目前这些衍生物可以治疗或预防的疾病包括HIV和遗传相关的逆转录病毒感染（以及由此导致的获得性免疫缺陷综合症，艾滋病），类风湿性关节炎，固体器官移植排斥（移植物抗宿主病），哮喘和慢性阻塞性肺病（COPD）。

  公开号：

  US20080249087A1

文献信息

• Coating Composition for Marking Substrates
  申请人：O'Donoghue Karen

  公开号：US20090191420A1

  公开（公告）日：2009-07-30

  Composition, which comprises a latent activator and a colour former, a process for the preparation of these compositions, substrates coated with these compositions and a process for their preparation, a process for preparing marked substrates using these compositions and marked substrates obtainable by the latter process.

  该发明涉及一种组合物，包括潜在活化剂和色发生剂，以及制备这些组合物的方法，涂有这些组合物的基材及其制备的方法，使用这些组合物制备标记基材的方法和由后一方法获得的标记基材。
• SULFONIC-ESTER-CONTAINING COMPOSITION FOR FORMATION OF ANTIREFLECTION FILM FOR LITHOGRAPHY
  申请人：Nissan Chemical Industries, Ltd.

  公开号：EP1813987A1

  公开（公告）日：2007-08-01

  There is provided an anti-reflective coating forming composition for lithography comprising a polymer compound, a crosslinking compound, a crosslinking catalyst, a sulfonate compound and a solvent. The anti-reflective coating obtained from the composition has a high preventive effect for reflected light, causes no intermixing with photoresists, has a higher dry etching rate compared with photoresists, can form a photoresist pattern having no footing at the lower part, and can use in lithography process by use of a light such as ArF excimer laser beam and F2 excimer laser beam, etc.

  本发明提供了一种用于光刻的抗反射涂层形成组合物，该组合物由聚合物化合物、交联化合物、交联催化剂、磺酸盐化合物和溶剂组成。由该组合物制得的抗反射涂层对反射光有很好的防止效果，不会与光刻胶混合，与光刻胶相比具有更高的干蚀刻率，可以形成下部无基底的光刻胶图案，并可在光刻工艺中使用 ArF 准分子激光束和 F2 准分子激光束等光源。
• Curable coating compositions and methods of forming coating films
  申请人：——

  公开号：US20020016418A1

  公开（公告）日：2002-02-07

  A coating composition curable by actinic radiation, heat or both comprising a polymer containing an alkoxysilyl group having a weight average molecular weight of from about 500 to more than 10,000, a Radical reactivity compound, a cationic polymerization initiator, and an optional radical polymerization initiator and cationic reactivity compound.

  一种可通过光辐射、热或两者固化的涂料组合物，包含一种含有烷氧基硅烷基的聚合物（其重量平均分子量约为 500 到 10,000 以上）、一种自由基反应性化合物、一种阳离子聚合引发剂以及一种可选的自由基聚合引发剂和阳离子反应性化合物。
• Negative photosensitive resin composition, negative photosensitive dry film and method of forming pattern
  申请人：——

  公开号：US20020068237A1

  公开（公告）日：2002-06-06

  The present invention provides a negative photosensitive resin composition comprising (A) a photocurable resin having a photosensitive group or groups crosslinkable by light irradiation, (B) a photoacid generator and (C) a photosensitizer which is a benzopyran condensed ring compound capable of increasing photosensitivity to visible light with a wavelength of 480 nm or more, a negative photosensitive dry film prepared by applying the photosensitive resin composition to a surface of support film, followed by drying, to form a photosensitive resin layer, and a method of forming a pattern using the resin composition or the dry film.

  本发明提供了一种阴性感光树脂组合物，该组合物包括：(A) 光固化树脂，该树脂具有可通过光照射交联的一个或多个感光基团；(B) 光酸发生器；(C) 光敏剂，该光敏剂是一种苯并吡喃缩合环化合物，能够提高对波长为 480 纳米或以上的可见光的感光度、 一种负感光干膜，制备方法是将感光树脂组合物涂在支撑膜表面，然后干燥，形成感光树脂层，以及 使用该树脂组合物或干膜形成图案的方法。
• Curable coating compositions of alkoxylsilyl group containing polymers
  申请人：——

  公开号：US20030176584A1

  公开（公告）日：2003-09-18

  A coating composition curable by actinic radiation, heat or both comprising a polymer containing an alkoxysilyl group having a weight average molecular weight of from about 500 to more than 10,000, a Radical reactive compound, a cationic polymerization initiator, and an optional radical polymerization initiator and cationic reactive compound.

  一种可通过光辐射、热或两者固化的涂料组合物，它包含一种含有烷氧基硅基的聚合物（其重量平均分子量约为 500 到 10,000 以上）、一种自由基反应化合物、一种阳离子聚合引发剂，以及一种任选的自由基聚合引发剂和阳离子反应化合物。