2-丙烯酸与2-丙烯酸甲酯的聚合物 | 25302-81-2

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机酸及其衍生物 - 羧酸及其衍生物
• 中文名称: 2-丙烯酸与2-丙烯酸甲酯的聚合物
• 英文名称: Methyl prop-2-enoate; prop-2-enoic acid
• 英文别名: methyl prop-2-enoate;prop-2-enoic acid
• CAS: 25302-81-2
• 化学式: C7H10O4
• 分子量: 158.15
• InChiKey: MYSWGNHLJGOCPT-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 稳定性/保质期：
  具有一定的腐蚀性，应避免与皮肤、眼睛等直接接触，如不慎接触到，请立即用大量清水冲洗。

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  0.6
• 重原子数：
  11
• 可旋转键数：
  3
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.14
• 拓扑面积：
  63.6
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  4

制备方法与用途

合成制备方法是由丙烯酸与丙烯酸甲酯共聚制得的。

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  丙烯酸甲酯（MA） 、 丙烯酸 以 异十二烷 为溶剂， 生成 2-丙烯酸与2-丙烯酸甲酯的聚合物 、
  参考文献：
  名称：

  Cosmetic composition comprising at least one polymer particle dispersed in at least one liquid fatty phase and at least one ester of at least one acid and at least one polyol ester

  摘要：

  本发明一种化妆品组合物的实施例，用于护理或化妆皮肤和/或表皮衍生物和/或唇部，其包括生理学上可接受的介质，包括a）至少一种液态脂肪相，b）至少一种聚合物粒子分散在至少一种液态脂肪相中的分散体，以及c）至少一种碳数为1至7的羧酸酯和至少一种具有至少4个羟基的多元醇的酯，所述至少一种酯的分子量小于5,000 g/mol。该组合物可在皮肤、表皮衍生物或唇部上形成一层膜，不会脱落，具有良好的持久性和易于涂抹。

  公开号：

  US08124112B2

文献信息

• POLYFUNCTIONAL EPOXY COMPOUND, EPOXY RESIN, CATIONIC PHOTOPOLYMERIZABLE EPOXY RESIN COMPOSITION, MICRO STRUCTURED MEMBER, PRODUCING METHOD THEREFOR AND LIQUID DISCHARGE HEAD
  申请人：Tsuji Shinsuke

  公开号：US20100271428A1

  公开（公告）日：2010-10-28

  A polyfunctional epoxy compound, represented by a formula (I), comprising a nucleophilic organic group A having a nucleophilic group other than an epoxy group, and an epoxy-containing group B having an epoxy group: A-RB) n (I) wherein R represents an organic group of (n+1) valence, and n represents 2 or 3.

  一种多功能环氧化合物，由公式(I)表示，包括具有亲核基团A的亲核有机基团，除环氧基外还具有其他亲核基团，并且包括具有环氧基的环氧基团B：A-RB)n(I)，其中R代表(n+1)价的有机基团，n代表2或3。
• NOVEL SULFONATE AND ITS DERIVATIVE, PHOTOSENSITIVE ACID GENERATOR, AND RESIST COMPOSITION AND PATTERNING PROCESS USING THE SAME
  申请人：OHASHI Masaki

  公开号：US20100209827A1

  公开（公告）日：2010-08-19

  There is disclosed a sulfonate shown by the following general formula (2). R 1 —COOC(CF 3 ) 2 —CH 2 SO 3 − M + (2) (In the formula, R 1 represents a linear, a branched, or a cyclic monovalent hydrocarbon group having 1 to 50 carbon atoms optionally containing a hetero atom. M + represents a cation.) There can be provided: a novel sulfonate which is effective for a chemically amplified resist composition having a sufficiently high solubility (compatibility) in a resist solvent and a resin, a good storage stability, a PED stability, a further wider depth of focus, a good sensitivity, in particular a high resolution and a good pattern profile form; a photosensitive acid generator; a resist composition using this; a photomask blank, and a patterning process.

  本发明揭示了一种磺酸盐，其通式如下（2）所示。 R1-COOC（CF3）2-CH2SO3-M+（2）（其中，R1表示具有1至50个碳原子的线性、分支或环状单价碳氢基团，可选含有杂原子。M+表示一个阳离子）。本发明可以提供：一种新型磺酸盐，其在抗蚀剂溶剂和树脂中具有足够高的溶解度（相容性），良好的储存稳定性，PED稳定性，进一步扩大焦点深度，良好的灵敏度，特别是高分辨率和良好的图案轮廓形态；一种光敏酸发生剂；使用该组合物的抗蚀剂组合物；一种光掩膜空白，以及一种制图工艺。
• Cosmetic composition comprising a polymer blend
  申请人：Collin Nathalie

  公开号：US20050089505A1

  公开（公告）日：2005-04-28

  The invention relates to a composition comprising, in a physiologically acceptable medium, at least a first polymer with a weight-average molecular mass of less than 100 000, comprising a) a polymer skeleton containing hydrocarbon-based repeating units containing at least one hetero atom, and optionally b) at least one pendent fatty chain and/or at least one terminal fatty chain, which may be functionalized, containing from 6 to 120 carbon atoms and being linked to these hydrocarbon-based units, a dispersion of particles of a second film-forming polymer that is insoluble in said medium. Application to making-up and caring for keratin materials.

  本发明涉及一种组合物，包含在生理可接受的介质中，至少含有分子量小于100,000的第一聚合物，包括a) 含有至少一个杂原子的碳氢基重复单元的聚合物骨架，和可选的b) 至少一个挂链脂肪链和/或至少一个端基脂肪链，可以被官能化，含有6至120个碳原子并与这些碳氢基单元相连，以及第二种在该介质中不溶的膜形成聚合物颗粒的分散。适用于化妆和护理角蛋白材料。
• Over-coating composition for photoresist, and processes for forming photoresist patterns using the same
  申请人：——

  公开号：US20010003030A1

  公开（公告）日：2001-06-07

  The present invention provides an over-coating composition comprising a basic compound for coating a photoresist composition to provide a vertical photoresist pattern.

  本发明提供了一种覆盖层组合物，包括一种基础化合物，用于涂覆光阻组合物，以提供垂直光阻图案。
• Two-coat cosmetic product, its uses, and makeup kit including the product
  申请人：——

  公开号：US20040228890A1

  公开（公告）日：2004-11-18

  Disclosed herein is a cosmetic product comprising at least two compositions wherein the first composition comprises a liquid fatty phase and polymer particles dispersed in the liquid fatty phase and the second composition comprises a high molecular weight polymer having a weight-average molecular mass of greater than or equal to 200 000 g/mol; also disclosed are a makeup method and a makeup kit including the product, which may be in the form of a lipstick.

  本文揭示了一种化妆品产品，其包含至少两种组分，其中第一种组分包括液态脂相和分散在液态脂相中的聚合物颗粒，第二种组分包括具有分子量平均值大于或等于200,000 g/mol的高分子量聚合物；还揭示了一种化妆方法和化妆品套装，包括该产品，该产品可以是口红形式。